【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】细胞培养构件及其表面改性方法
[0001]本专利技术涉及细胞培养构件及其表面改性方法,更详细而言,涉及具有优异的细胞培养性能及其长期稳定性的细胞培养构件及其表面改性方法。
技术介绍
[0002]细胞培养的技术用于生化现象的阐明、有用物质的生产、再生医疗及药剂评价等各种领域的研究等。细胞培养的技术中,在细胞培养容器中,从对感染、污染等认知的提高和成型性及制造成本的观点出发,通常在其材料中使用由热塑性树脂构成的高分子化合物。细胞培养容器的形状、物性对各种用途中的研究等的效率性、分析精度等产生大的影响。
[0003]特别是在使用粘附性细胞(除去了癌细胞、造血细胞等一部分细胞的、哺乳动物中的全部细胞)的研究等中,该粘附性细胞与细胞培养容器的粘附性对于细胞增殖效率、生理活性维持来说变得重要。但是,在大部分使用了上述热塑性树脂的细胞培养容器中,由于其表面为疏水性,存在粘附性细胞的粘附性不好,粘附性细胞的细胞活性显著受到阻碍的问题。
[0004]对于这样的问题,例如在专利文献1中记载了:为了使细胞或生物体分子堆积或固定化于 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种细胞培养构件,其特征在于,为至少粘附性细胞的保持区域包含高分子化合物的细胞培养构件,所述保持区域的至少一部分是氟原子与构成所述高分子化合物的碳原子和/或硅原子的一部分直接化学键合的表面改性区域。2.根据权利要求1所述的细胞培养构件,其中,所述氟原子通过X射线光电子能谱法测定的结合能的峰值为680eV~690eV的范围。3.根据权利要求1或2所述的细胞培养构件,其中,在所述表面改性区域中的构成所述高分子化合物的其它碳原子和/或其它硅原子的一部分上直接化学键合有表面修饰基团,所述表面修饰基团为选自下述基团中的至少1种:
‑
OR1基;
‑
COOR2基;
‑
COR3基;烃基;甲硅烷基;具有杂原子、卤原子及不饱和键中的至少任1个的烃基;具有杂原子、卤原子及不饱和键中的至少任1个的甲硅烷基;氰基;硝基;亚硝基;磷酸基;磺酰基;巯基;亚硫酰基;以及除氟原子以外的卤原子,所述R1和所述R2各自独立地为下述基团中的任1种:氢原子;金属原子;烃基;甲硅烷基;具有杂原子、卤原子及不饱和键中的至少任1个的烃基;或具有杂原子、卤原子及不饱和键中的至少任1个的甲硅烷基,所述R3为下述基团中的任1种:烃基;具有杂原子及不饱和键中的至少任1个的烃基;或具有杂原子及不饱和键中的至少任1个的甲硅烷基。4.根据权利要求1~3中任一项所述的细胞培养构件,其中,所述高分子化合物为选自由聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚乙烯、聚丙烯、聚乙酸乙烯酯、聚氨酯、环状聚烯烃、聚醚醚酮、聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、丙烯腈
‑
丁二烯
‑
苯乙烯、聚丙烯腈、聚酰胺、聚乙烯醇、聚烯烃及含硅高分子化合物组成的组中的至少1种聚合物。5.一种细胞培养构件的表面改性方法,其特征在于,所述细胞培养构件的粘附性细胞的保持区域包含高分子化合物,所述表面改性方法包括以下工序:使含有包含氟原子的气体和作为任选成分的不活泼性气体的第一处理气体与所述保持区域的至少一部分接触,从而形成使所述氟原子与构成所述高分子化合物的碳原子和/或硅原子的一部分直接化学键合的表面改性区域。6.根据权利要求5所述的细胞培养构件的表面改性方法,其中,所述表面改性区域中的所述氟原子通过X射线光电子能谱法测定的结合能的峰值为680eV~690eV的范围。7.根据权利要求5或6所述的细胞培养构件的表面改性方法,其中,所述工序为:通过使用含有进一步包含氧原子的气体作为所述第一处理气体,使表面修饰基团与构成所述高分子化合物的其它碳原子和/或其它硅原子的一部分直接化学键合,所述表面修饰基团为选自下述基团中的至少1种:
‑
OR1基;...
【专利技术属性】
技术研发人员:斋藤直人,植村健,久野和俊,佐藤良宪,山本雅士,二井启一,西田哲郎,
申请(专利权)人:斯泰拉化工公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。