反射防止构造体、照相机单元、便携设备及反射防止构造体的制造方法技术

技术编号:38572609 阅读:12 留言:0更新日期:2023-08-22 21:06
一种反射防止构造体、照相机单元、便携设备及反射防止构造体的制造方法。反射防止构造体由一体成型品构成,包括形成于构成所述成型品的外面的基础表面的反射防止构造,所述反射防止构造包括多个凹部,所述多个凹部从相互相邻的凹部独立地相对于所述基础表面凹陷地形成,并具有相对于所述基础表面倾斜的倾斜面,倾斜面在底部形成至少一个点状或线状的顶部。倾斜面在底部形成至少一个点状或线状的顶部。倾斜面在底部形成至少一个点状或线状的顶部。

【技术实现步骤摘要】
反射防止构造体、照相机单元、便携设备及反射防止构造体的制造方法
[0001]本申请是专利技术名称为“反射防止构造体、照相机单元、便携设备及反射防止构造体的制造方法”、国际申请日为2017年7月11日、国际申请号为PCT/JP2017/025263、国家申请号为201780039413.2的专利技术专利申请的分案申请。


[0002]本专利技术涉及反射防止构造体、具备该反射防止构造体(透镜镜筒)的照相机单元、搭载该照相机单元的便携设备及该反射防止构造体的制造方法。

技术介绍

[0003]以往,作为抑制光的反射的反射防止构造体,例如提出了专利文献1及2所述的构造体。
[0004]专利文献1公开了这样的反射防止构造部,该反射防止构造部具备:设置于基准面上,具有与基准面构成的角度α成为规定角度的第一侧面的构造单位并列多个而构成的基础构造部;和形成于基础构造部的表面上,以规定的波长以下的周期规则地排列的多个微小凹凸部。
[0005]专利文献2公开了这样的反射防止膜,该反射防止膜在至少一方的表面侧由基材层构成,该基材层由对入射于该表面的辐射线的波长显示反射防止特性的光学性的透明材料构成。
[0006]在先技术文献
[0007]专利文献
[0008]专利文献1:日本专利特许第5512269号公报
[0009]专利文献2:日本专利特表2001

517319号公报

技术实现思路

[0010]专利技术所要解决的课题
[0011]近年,工业产品的设计正在多样化,外观设计有时影响产品的销路。因此,除了构成产品的主体的材质以外,对从外可视的材质也要求多样的质感。
[0012]例如,搭载于智能手机等便携电话的照相机单元的透镜镜筒,因为通过安装在设备主体上的透明的外罩玻璃作为外观的一部分展现,所以需要精加工成不损害外观设计的质感。更具体地说,若未实施抑制光的相对于黑色的透镜镜筒的反射的处理,则在从外部看设备主体时照相机单元的构造醒目,存在不能实现与设备主体的设计和谐的情况。这样的课题,若透镜镜筒的直径伴随着近年的透镜的大口径化而变大,则可以认为变得更显著。另外,透镜镜筒的反射率的抑制,因为也能防止多余的反射光进入透镜内,所以也有助于照相机单元的光学特性的提高。
[0013]关于这一点,在记载于专利文献1中的专利技术中,虽然不是透镜镜筒,但通过在透镜
镜筒单元的透镜镜筒的内周面上形成由凸部构成的基础构造部,进而在基础构造部的侧面上形成微小的凹凸构造,抑制了在透镜镜筒内部的光的反射。
[0014]但是,若将专利文献1的基础构造部的那样的凸部形状作为反射防止构造体形成于产品的外面上,则在制造时的处理时凸部因某种的接触而掉落,存在发生不需要的颗粒的危险。特别是,在该反射防止构造体使用于精密设备的情况下,存在少量的颗粒给设备带来致命的影响的情况。
[0015]另一方面,在透镜镜筒的表面上通过蒸镀形成反射防止膜也被探讨,但制造工序的工序数量增加,另外也存在在膜内的色不均、指纹附着、擦伤等问题。
[0016]因此,本专利技术的目的是提供一种能发现优异的反射抑制功能并且能抑制不良品的发生的反射防止构造体、具备该反射防止构造体的照相机单元及搭载该照相机单元的便携设备。
[0017]另外,本专利技术的其他目的是提供一种能低成本且简单地制造上述反射防止构造体的反射防止构造体的制造方法。
[0018]为了解决课题的手段
[0019]本专利技术的反射防止构造体由一体成型品构成,所述反射防止构造体包括形成于构成所述成型品的外面的基础表面的反射防止构造,所述反射防止构造包括多个凹部,所述多个凹部各自从相互相邻的凹部独立地相对于所述基础表面凹陷地形成,并具有倾斜面,该倾斜面相对于所述基础表面倾斜,并在底部形成至少一个点状或线状的顶部。
[0020]根据此结构,通过将多个凹部排列在成型品的外面(基础表面)上,能抑制入射于基础表面的光的反射。另外,因为反射防止构造不是凸构造,而是相对于基础表面凹陷的构造,所以即使在成型品的外面上产生任何的接触,也不会给凹部带来影响。由此,因为能防止不需要的颗粒的发生,并且能防止凹部的形状变化,所以能维持反射防止构造体的反射抑制功能。
[0021]另外,因为反射防止构造体是一体成型品,所以如本专利技术的制造方法的那样,通过原料的向金属模的注入及成型,能低成本且简单地进行制造。即,在本专利技术的反射防止构造体的制造方法中,通过向将多个独立的凸部排列在内面上的金属模注入原料进行成型,得到本专利技术的反射防止构造体。
[0022]在本专利技术的反射防止构造体中,所述多个凹部包括多个锥形凹部,该多个锥形凹部是所述倾斜面形成点状的顶部的多个锥形凹部。
[0023]本专利技术的反射防止构造体,在所述锥形凹部包括具有多边形的开口部的多棱锥形凹部的情况下,所述反射防止构造体包括棱线部,该棱线部设置于在所述基础表面中相互相邻的所述多棱锥形凹部之间的边界部。
[0024]根据此结构,由于在基础表面中不存在平坦的原料区域(成型品原料露出的区域),多个锥形凹部紧密相接地形成,所以能遍及基础表面整体地效率良好地抑制光的反射。另外,若在基础表面上设置平行的原料区域,则存在在该原料区域与锥形凹部的形成区域之间产生反射率的差,并在基础表面中发生色调的反差而损害外观的危险,但也能解决这样的课题。另外,也能防止在基础表面上附着指纹或发生擦伤。
[0025]另外,在此所说的“棱线部”,例如定义为相邻的多棱锥形凹部的边界部以小于为了形成疏水防止膜、反射防止膜等薄膜所需要的宽度的宽度形成的直线部。该棱线部的宽
度,不特别限制,例如可以是0.001mm~0.1mm程度。
[0026]在本专利技术的反射防止构造体中,在所述锥形凹部包括具有四边形的开口部的四棱锥形凹部的情况下,所述四棱锥形凹部以格子状排列。
[0027]根据此结构,由于四棱锥形凹部沿相互正交的纵方向(第一方向)及横方向(第二方向)规则正确地排列,所以能均等地抑制基础表面中的光的反射。
[0028]在本专利技术的反射防止构造体中,相互相邻的所述锥形凹部的间距(顶部彼此的距离)是0.05mm~0.4mm。
[0029]在本专利技术的反射防止构造体中,所述凹部具有四边形的开口部,从所述开口部的四边中的相互相向的第一边及第二边分别延伸的第一倾斜面及第二倾斜面形成了线状的顶部,从所述开口部的四边的其余的第三边及第四边分别延伸的第三倾斜面及第四倾斜面,在所述线状的顶部的各端部,在所述第一倾斜面及所述第二倾斜面之间形成了点状的顶部。
[0030]在本专利技术的反射防止构造体中,所述开口部形成为将所述第一边及所述第二边做得比所述第三边及所述第四边长的长方形状。
[0031]在本专利技术的反射防止构造体中,相互相邻的所述凹部的间距(所述线状的顶部彼此的距离)是0.05mm~0.4mm。
[0032]在本专利技术的反射防止构造体中,所述凹部的倾斜面相对于所述基础表面的法线以10<本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种反射防止构造体,其中,所述反射防止构造体由一体的射出成型品构成,该一体的射出成型品由含有黑色的色料的原料构成,所述反射防止构造体包括形成于构成所述成型品的外面的基础表面的反射防止构造,所述反射防止构造包括多个四棱锥形凹部,所述多个四棱锥形凹部以格子状排列,各自从相互相邻的所述四棱锥形凹部独立地相对于所述基础表面凹陷地形成,并具有倾斜面,该倾斜面相对于所述基础表面倾斜,并在底部形成点状顶部,相互相邻的所述四棱锥形凹部的间距(所述点状顶部彼此的距离)是0.05mm~0.4mm。所述反射防止构造体包括棱线部,该棱线部由设置于在所述基础表面中相互相邻的所述四棱锥形凹部之间的边界部的直线构成,所述四棱锥形凹部的开口部具有0.05mm~0.4mm的直径,所述基础表面及所述凹部的倾斜面以所述成型品的原料露出的状态被进行了精加工,所述四棱锥形凹部的所述间距,通过所述棱线部是不具有宽度的直线,与所述四棱锥形凹部的开口部的直径一致。2.如权利要求1所述的反射防止构造体,其中,所述四棱锥形凹部的深度是0.05mm~2.0mm,所述四棱锥形凹的倾斜面相对于所述基础表面的法线以10
°
~45
°
的角度倾斜。3.一种反射防止构造体,其中,所述反射防止构造体由一体的射出成型品构成,该一体的射出成型品由含有黑色的色料的原料构成,所述反射防止构造体包括形成于构成所述成型品的外面的基础表面的反射防止构造,所述反射防止构造包括多个四边形凹部,所述多个四边形凹部以格子状排列,各自从相互相邻的所述四边形凹部独立地相对于所述基础表面凹陷地形成,并具有倾斜面,该倾斜面相对于所述基础表面倾斜,并在底部形成至少一个点状顶部及线状顶部,所述四边形凹部具有四边形的开口部,从所述开口部的四边中的相互相向的第一边及第二边分别延伸的第一倾斜面及第二倾斜面形成了所述线状顶部,从所述开口部的四边的其余的第三边及第四边分别延伸的第三倾斜面及第四倾斜面,在所述线状顶部的各端部,在所述第一倾斜面及所述第二...

【专利技术属性】
技术研发人员:冈田泰幸佐藤英秋上门洋祐高桥幸男内山雄太大山直毅森本俊辅
申请(专利权)人:大冢科技株式会社
类型:发明
国别省市:

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