一种双曲面幕墙优化方法技术

本发明专利技术提供一种双曲面幕墙优化方法，包括计算原始双曲面幕墙的翘曲值；当所述翘曲值小于翘曲值设定阈值时，将原始双曲面幕墙优化为平板幕墙；以及当所述翘曲值大于翘曲值设定阈值时，将原始双曲面幕墙优化为单曲面幕墙；基于优化后的平板幕墙或单曲面幕墙，制作相应的幕墙板块。该方法运用算法程序对双曲面幕墙进行标准可加工单曲面拟合，该方法是在施工安装误差可接受的范围内对双曲面进行优化，达到建设工程成本优化的目的，该方法具有优化精度高、适用性强、优化速度快等优点。优化速度快等优点。优化速度快等优点。

【技术实现步骤摘要】
一种双曲面幕墙优化方法


[0001]本专利技术涉及建筑幕墙数字化设计领域，更具体地，涉及一种双曲面幕墙优化方法。

技术介绍

[0002]随着科技的飞速发展，技术的不断迭代更新，BIM及参数化设计赋予了建筑外立面幕墙新的生命，通过数字化技术对复杂建筑曲面进行空间优化，可以极大程度节省项目的建造成本。目前，很多工业设计软件、机械设计软件在建筑领域有了广泛运用，曲面建模已不存在技术难题，如何高效、准确的对初始双曲面进行有理化分析和优化是当下幕墙设计面临的技术难题。曲面幕墙现有的优化方式优化效率较低、适用性不强。
[0003]经过设计人员的不断研究探索，目前人们也提出了一些关于双曲面幕墙优化的方法，都是通过高斯曲率分析后重建原始大曲面的轨迹线和断面线，继而再对优化后的曲面进行板块细分，该方法的优化是发生在板块分割前，属于方案前期整体曲面形态的优化。
[0004]上述对幕墙优化的方法仅适用于曲面曲率分布均匀、曲面形态单一、初始大曲面有合理均匀的UV结构线的情况，优化运用通常是在方案阶段。无法对已经细分的板块进行优化，另外上述方法优化的成果本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种双曲面幕墙优化方法，其特征在于，包括：计算原始双曲面幕墙的翘曲值，所述原始双曲面幕墙为待优化幕墙板块；当所述翘曲值小于翘曲值设定阈值时，将原始双曲面幕墙优化为平板幕墙；以及当所述翘曲值大于翘曲值设定阈值时，将原始双曲面幕墙优化为单曲面幕墙；基于优化后的平板幕墙或单曲面幕墙，制作相应的幕墙板块。2.根据权利要求1所述的双曲面幕墙优化方法，其特征在于，根据历史施工项目以及根据不同幕墙板块的尺寸大小确定翘曲值设定阈值；其中，当待优化幕墙板块位于项目重要入口位置或者待优化幕墙板块尺寸较小时，减小所述翘曲值设定阈值；当待优化幕墙板块位于项目较隐蔽位置或者待优化幕墙板块尺寸较大时，增加翘曲值设定阈值。3.根据权利要求1所述的双曲面幕墙优化方法，其特征在于，所述计算原始双曲面幕墙的翘曲值，包括：已知原始双曲面幕墙SRF1四个角点(P1,P2,P3,P4)不在同一平面上，任取其中三个角点(P1,P2,P3)生成一个平面PM1，剩下的角点P4到平面PM1的投影点为P4
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，点P4与点P4
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的距离DS定义为原始双曲面幕墙的翘曲值。4.根据权利要求3所述的双曲面幕墙优化方法，其特征在于，当所述翘曲值小于翘曲值设定阈值时，将原始双曲面幕墙优化为平板幕墙，包括：当翘曲值≤15mm时，将原始双曲面幕墙优化为平板幕墙，连接点P1、P2、P3和P4
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生成平面内封闭多边形，由所述平面内封闭多边形生成的曲面为优化后的平板幕墙SRF2。5.根据权利要求1所述的双曲面幕墙优化方法，其特征在于，所述当所述翘曲值大于翘曲值设定阈值时，将原始双曲面幕墙优化为单曲面幕墙，包括：当翘曲值＞15mm时，将原始双曲面幕墙优化为单曲面幕墙。6.根据权利要求5所述的双曲面优化方法，其特征在于，所述当所述翘曲值大于翘曲值设定阈值时，将原始双曲面幕墙优化为单曲面幕墙，包括：任取原始双曲面SRF1上一点P5，根据点P5获取其在原始双曲面SRF1上的法平面PM2，将平面PM2绕自身原点在平面内旋转角度参数PAM1得新平面PM2
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；在平面PM2
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【专利技术属性】
技术研发人员：李辉，陶志雄，
申请(专利权)人：中信建筑设计研究总院有限公司，
类型：发明
国别省市：