一种激光诱导击穿光谱分光镜测试系统技术方案

技术编号:38512272 阅读:10 留言:0更新日期:2023-08-19 16:56
本实用新型专利技术提供一种激光诱导击穿光谱分光镜测试系统,涉及光电器件技术领域。控制系统信号连接有用于发出1064nm激光的激光发射设备,激光发射设备光信号连接至分光镜,分光镜的另一侧放置有待测物品,靠近待测物品侧的分光镜光信号连接有用于对光信息进行抓取的光谱设备,光谱设备信号连接至控制系统。分光镜包括基片、第一透光孔、铝反射膜以及第二透光孔。避免200

【技术实现步骤摘要】
一种激光诱导击穿光谱分光镜测试系统


[0001]本技术涉及光电器件
,尤其涉及一种激光诱导击穿光谱分光镜测试系统。

技术介绍

[0002]激光诱导击穿光谱(LIBS)技术是通过超短脉冲激光聚焦样品表面形成等离子体,利用光谱仪对等离子体发射光谱进行分析,以此来识别样品中的元素组成成分,进而可以进行材料的识别、分类、定性以及定量分析。LIBS分光镜常规设计方法是在镜片表面镀制1064nm高透、200nm

800nm高反要求的分光膜。
[0003]现有技术中,由于LIBS分光镜常规设计方法的缺陷在于从200nm深紫外到800nm近红外对有所波段都要进行反射,从材料吸收理论来考虑需要将整个反射波段分成200

400nm和400

800nm来分别进行反射膜的镀制,且200

400nm的反射带还需要5

6个反射堆栈才能达到反射要求,再加上400

800nm的反射带还要3

4个反射堆栈,使200

800nm之间的反射工艺步骤繁琐,同时1064nm激光在折射时,激光透过性存在偏差。因此,导致激光诱导击穿光谱分光镜测试系统在识别样品中元素组成的过程中,由于分光镜存在前述原因而在材料的识别、分类、定性以及定量分析结果存在误差。
[0004]为此,针对上述的技术问题还需进一步解决。

技术实现思路

[0005]本技术实施例的目的是提供一种激光诱导击穿光谱分光镜测试系统,以避免将整个反射波段分成200

400nm和400

800nm来分别进行反射膜的镀制;避免200

400nm的反射带需要5

6个反射堆栈才能达到反射要求以及再加上400

800nm的反射带还要3

4个反射堆栈,同时避免1064nm激光在折射时,激光透过性存在偏差的情况;使激光诱导击穿光谱分光镜测试系统在识别样品中元素组成的过程中能够避免待检测材料的识别、分类、定性以及定量分析结果出现误差。
[0006]为解决上述技术问题,本技术实施例提供如下技术方案:
[0007]本技术第一方面提供一种激光诱导击穿光谱分光镜测试系统,包括控制系统,所述控制系统信号连接有用于发出1064nm激光的激光发射设备,所述激光发射设备光信号连接至分光镜,远离所述激光发射设备侧的所述分光镜的一侧放置有待测物品,靠近所述待测物品侧的所述分光镜光信号连接有用于对光信息进行抓取的光谱设备,所述光谱设备信号连接至所述控制系统;
[0008]其中,所述分光镜包括基片以及设置在所述基片的中心处并且贯穿所述基片的第一透光孔,除所述第一透光孔以外的所述基片的一侧表面设置有铝反射膜,所述铝反射膜的中心处设置有与所述第一透光孔相连通的第二透光孔。
[0009]进一步地,在300nm波段处镀制有所述铝反射膜,所述铝反射膜包括在铝的外表面相互交替覆盖镀制有二氧化铪反射膜、二氧化硅反射膜。
[0010]进一步地,所述铝反射膜的物理厚度为:
[0011][0012][0013]进一步地,所述第一透光孔的直径为1

2mm,所述第二透光孔的直径为1

2mm;
[0014]其中,所述第一透光孔的直径与所述第二透光孔的直径相同。
[0015]进一步地,所述基片的厚度为0.99

1.01mm,所述铝反射膜的物理厚度为1537.12nm。
[0016]进一步地,远离所述铝反射膜侧的所述基片上还镀制有材料为二氧化硅的第二反射膜,所述第二反射膜上设置有与所述第一透光孔直径相同的第三透光孔,所述第二反射膜的厚度为1208nm。
[0017]所述分光镜的曲面的半径偏差小于1@633nm。
[0018]相较于现有技术,本技术第一方面提供的激光诱导击穿光谱分光镜测试系统,通过将铝反射膜侧朝向激光发射设备,控制系统使激光发射设备发射出1064nm激光,
1064nm激光穿过第一透光孔和第二透光孔后照射在待测物品上,待测物品将激光反射在远离铝反射膜侧侧的基片上并且折射至光谱设备上,光谱设备将待测物品将激光信息传送至控制系统,从而对待测物品进行识别、分类、定性以及定量分析。由于基片上设置有铝反射膜,基片中心处的第一透光孔与铝反射膜中心处的第二透光孔相连通,避免了将整个反射波段分成200

400nm和400

800nm来分别进行反射膜的镀制,并且避免了200

400nm的反射带需要5

6个反射堆栈才能达到反射要求以及再加上400

800nm的反射带还要3

4个反射堆栈,同时避免1064nm激光在折射时,激光透过性存在偏差的情况。从而,使激光诱导击穿光谱分光镜测试系统在识别样品中元素组成的过程中能够避免待检测材料的识别、分类、定性以及定量分析结果出现误差。
附图说明
[0019]通过参考附图阅读下文的详细描述,本技术示例性实施方式的上述以及其他目的、特征和优点将变得易于理解。在附图中,以示例性而非限制性的方式示出了本技术的若干实施方式,相同或对应的标号表示相同或对应的部分,其中:
[0020]图1示意性地示出了激光诱导击穿光谱分光镜测试系统的示意图;
[0021]图2示意性地示出了分光镜的剖视图;
[0022]图3示意性地示出了铝反射膜的示意图;
[0023]图4示意性地示出了另一种分光镜的剖视图;
[0024]图5示意性地示出了现有激光诱导击穿光谱分光镜测试系统中光谱设备获取的色差图;
[0025]图6示意性地示出了本技术激光诱导击穿光谱分光镜测试系统中光谱设备获取的色差图;
[0026]图7示意性地示出了现有激光诱导击穿光谱分光镜测试系统的示意图;
[0027]附图标号说明:
[0028]1、控制系统;
[0029]2、激光发射设备;
[0030]3、分光镜;31、基片;32、第一透光孔;33、铝反射膜;331、铝;332、二氧化铪反射膜;333、二氧化硅反射膜;34、第二透光孔;35、第二反射膜;36、第三透光孔;
[0031]4、待测物品;
[0032]5、光谱设备。
具体实施方式
[0033]下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施方式。虽然附图中显示了本公开的示例性实施方式,然而应当理解,可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施方式所限制。相反,提供这些实施方式是为了能够更透彻地理解本公开,并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。若未特别指明,实施例中所用的技术手段为本领域技术人员所熟知的常规手段。
[本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种激光诱导击穿光谱分光镜测试系统,包括控制系统,其特征在于,所述控制系统信号连接有用于发出1064nm激光的激光发射设备,所述激光发射设备光信号连接至分光镜,远离所述激光发射设备侧的所述分光镜的一侧放置有待测物品,靠近所述待测物品侧的所述分光镜光信号连接有用于对光信息进行抓取的光谱设备,所述光谱设备信号连接至所述控制系统;其中,所述分光镜包括基片以及设置在所述基片的中心处并且贯穿所述基片的第一透光孔,除所述第一透光孔以外的所述基片的一侧表面设置有铝反射膜, 所述铝反射膜的中心处设置有与所述第一透光孔相连通的第二透光孔。2.根据权利要求1所述的激光诱导击穿光谱分光镜测试系统,其特征在于,在300nm波段处镀制有所述铝反射膜,所述铝反射膜包括在铝的外表面相互交替覆盖镀制有二氧化铪反...

【专利技术属性】
技术研发人员:廖益萍
申请(专利权)人:沈阳雨宝科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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