【技术实现步骤摘要】
一种氧化沟浮渣清理装置
[0001]该技术涉及水处理
,尤其涉及一种氧化沟浮渣清理装置。
技术介绍
[0002]污水处理氧化沟工艺技术氧化沟(Qxidation Ditch)称为连续式反应池(Continuous Loop Reactor),最早是由帕斯维尔(A.Psaveer)博士于1954年在荷兰沃绍本建造并投入使用。氧化沟工艺是目前城市污水处理最实用的工艺,应用多年,经久不衰。当然,氧化沟也存在自身的缺陷,如污泥膨胀,产生泡沫,污泥上浮等。
[0003]污泥膨胀问题是当废水中的碳水化合物较多,N、P含量不平衡,pH值偏低,氧化沟中污泥负荷过高,溶解氧浓度不足,排泥不畅等易引发丝状菌性污泥膨胀;非丝状菌性污泥膨胀主要发生在废水水温较低而污泥负荷较高时。产生泡沫问题是由于进水中带有大量油脂,处理系统不能完全有效地将其除去,部分油脂富集于污泥中,经曝气充氧搅拌时,产生大量泡沫;泥龄偏长,污泥老化,也易产生泡沫。污泥上浮问题是当废水中含油量过大,整个系统泥质变轻,加之在操作过程中不能很好控制其停留时间,易造成缺氧 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种氧化沟浮渣清理装置,设置于氧化沟内,其特征在于,包括转轴,所述转轴的一端转动连接于氧化沟的底面上,所述转轴的另一端上设有若干圆周均布的拨板,所述拨板位于氧化沟内液面上方,所述拨板的一端连接于转轴上,所述拨板的另一端与氧化沟的内壁宽度相适应,所述氧化沟的至少一侧壁上表面向下设有浮渣缺口,所述浮渣缺口位于氧化沟内液面的下方。2.根据权利要求1所述的一种氧化沟浮渣清理装置,其特征在于,所述拨板的形状为弧形,所述弧形的开口端与转轴的旋转方向一致。3.根据权利要求1所述的一种氧化沟浮渣清理装置,其特征在于,所述拨板下方的转轴上设有旋转叶片,所述旋转叶片的中部固定于转轴上。4.根据权利要求1所述的一种氧化沟浮渣清理装置,其特征在于,所述拨板位于氧化沟内液体流动方向的后方设有弧形挡板,所述弧形挡板的两端与氧化沟的两侧内壁连接,所述弧形挡板的突出端与液体的流动方向一致。5.根据权...
【专利技术属性】
技术研发人员:宋玮华,常天阳,曹华刚,任荣杰,赵佳,张炳康,朱彩飞,
申请(专利权)人:中节能工程技术研究院有限公司,
类型:新型
国别省市:
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