一种自由基小分子光热材料及其制备方法和应用技术

本发明专利技术涉及生物医药工程技术领域，公开了一种自由基小分子光热材料及其制备方法和应用，光热材料具有式I化学结构式，本发明专利技术通过简单的合成有效地实现具有自由基的A

【技术实现步骤摘要】
一种自由基小分子光热材料及其制备方法和应用


[0001]本专利技术属于生物医药工程
，具体涉及一种自由基小分子光热材料及其制备方法和应用。

技术介绍

[0002]光热材料是一种吸收光能转化成热能的材料，由于光热材料在光热治疗、太阳能驱动水蒸发、光热催化等方面具有潜在的应用前景，而备受关注。
[0003]现有的光热材料如无机材料、有机二维框架、共轭聚合物材料。它们的缺点主要体现在以下几个方面:1)无机材料主要包括碳材料、金、钯金属纳米材料。这些材料通常含有高度珍贵和不可降解的金属，在体内应用时会对人体健康产生潜在的安全问题。2)二维结构和共轭聚合物普遍存在合成再现性差的问题。虽然这些材料表现出良好的光热效果，但在实际光热应用中仍存在成本高、溶解性差、性能下降风险等缺点。与上述候选材料相比，有机小分子材料具有良好的结构确定性，制备方便，不会引起潜在的重金属离子中毒。有机小分子光热材料相对被该领域的研究人员所忽视，以往以卟啉、菁等染料为代表的有机小分子，由于光热转换效率低、光热稳定性差等缺点，限制了其大规模应用。r/>[0004]在本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种自由基小分子光热材料，其特征在于，所述光热材料具有的化学结构式为式I：R1为H、卤素原子、C1～C6的烷基或C1～C6的烷氧基，R2为H、卤素原子、C1～C6的烷基或C1～C6的烷氧基，R3为H、卤素原子、C1～C6的烷基或C1～C6的烷氧基，R4为H、卤素原子、C1～C6的烷基或C1～C6的烷氧基，R5为C1～C24烷基、C3～C24环烷基、芳基或取代芳基；Ar1、Ar2为芳基环或者取代芳基环。2.根据权利要求1所述一种自由基小分子光热材料的制备方法，其特征在于，当所述R1、R2、R3、R4均为氟原子，R5为对己基苯环，Ar1为噻吩并噻吩，Ar2为苯环时，制备方法包括如下步骤：S1.在避光条件下将式2溶解于无水N,N
‑
二甲基甲酰胺、无水四氢呋喃、氯苯或甲苯，加入N
‑
溴代丁二酰亚胺，冷却至0～25℃后反应16～24h；反应完成后，纯化产物得到式3；S2.将化合物4a、S1中得到的式3和不溶于水的有机溶剂混合均匀后，加入弱碱，再加入催化剂，60～80℃反应1～2h；反应完成后，冷却至室温，用水淬火；有机层纯化得到中间产物5a；S3.将中间产物5a、6a、钯催化剂和甲苯，在氮气或惰性气体气氛下混合均匀，然后加热至110～120℃反应12～16h；反应完成后，纯化有机相得到目标产物1a；

【专利技术属性】
技术研发人员：吕瑞之，黄鑫，徐温晋，马晓芮，吴海莹，
申请(专利权)人：南昌航空大学，
类型：发明
国别省市：