一种点阵投射器装置及其制备方法制造方法及图纸

本发明专利技术关于一种点阵投射器装置及其制备方法，涉及达曼光栅技术领域。包括：提出一种复合达曼光栅结构，将两个二维正交达曼光栅相位相叠加形成一个双周期复合达曼光栅；基于matlab依据标量衍射理论对双周期达曼光栅进行的光学仿真，得到衍射点阵图；利用衍射点阵图，采用DMD投影光刻制备复合达曼光栅器件；复合达曼光栅性能检测：通过成像实验评估所制备的双周期复合达曼光栅的远场光学响应和多光束质量。本发明专利技术双周期复合达曼光栅的特征尺寸和两个周期中周期较小的达曼光栅特征尺寸一致，在提供大视场点阵的情况下不会增加制作难度，且双周期复合达曼光栅是一个器件，相较于耦合达曼光栅，衍射效率有了大大的提升。衍射效率有了大大的提升。衍射效率有了大大的提升。

【技术实现步骤摘要】
一种点阵投射器装置及其制备方法


[0001]本专利技术涉及达曼光栅
，具体为一种点阵投射器装置及其制备方法。

技术介绍

[0002]达曼光栅是一种典型的二元光学元件(Bianryopticalelements，BOE)，通过二元光学位相变化点的横向位置的调制来实现激光远场多级谱点等强度的光点阵列。达曼光栅作为一种可以产生均匀点阵的二元相位型光学器件，属于Fraunhofer型器件，其设计过程基于Fraunhofer衍射原理，如图1所示：单位振幅的平面光入射到达曼光栅上，入射光被衍射并分成多个平行光束，在由凸透镜聚焦之后，在透镜的后焦面上形成均匀分布的光斑阵列。后焦场点阵是入射光的傅立叶变换光谱，每一级光斑均具有相同的强度。
[0003]随着激光器的问世给光刻工艺提供了合适的光源，以及二元光学元件的最小线宽达到微米甚至亚微米量级，达曼光栅通常由微电子光刻工艺来制备。其制备工艺主要包括匀胶、曝光、显影和刻蚀等工艺步骤。达曼光栅往往特指具有二个位相台阶的二元光学元件，由于二台阶结构，一般只需采用一个掩模版经过单次光刻工艺就可以加工出来。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种点阵投射器装置的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：S1，提出一种复合达曼光栅结构，将两个二维正交达曼光栅相位相叠加形成一个双周期复合达曼光栅；S2，基于matlab依据标量衍射理论对双周期达曼光栅进行的光学仿真，得到衍射点阵图；S3，利用衍射点阵图，采用DMD投影光刻制备复合达曼光栅器件；S4，复合达曼光栅性能检测：通过成像实验评估所制备的双周期复合达曼光栅的远场光学响应和多光束质量。2.如权利要求1所述的一种点阵投射器装置的制备方法，其特征在于，基于matlab依据标量衍射理论对双周期达曼光栅进行的光学仿真，得到衍射点阵图的方法如下：首先绘制双周期复合达曼光栅的掩膜图，根据达曼光栅作为二元光学元件特性设定相位差，依据标量衍射理论对设定好的掩膜图案进行傅里叶变换，得到衍射点阵图。3.如权利要求2所述的一种点阵投射器装置的制备方法，其特征在于，复合达曼周期的衍射结果看作为两个不同周期点阵的卷积，通过固定其中一个周期，对另一个周期大小进行调节，观察其衍射结果图，选取其中最为合适的衍射点...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵圆圆，苗铎，段宣明，
申请(专利权)人：暨南大学，
类型：发明
国别省市：