一种基于连续谱光源的可变波长激光直写光刻系统与应用技术方案

本发明专利技术涉及一种基于连续谱光源的可变波长超分辨激光直写光刻系统，属于超精密光学成像与刻写技术领域，包括光源与刻写模块，其中光源为连续谱光源；光源与刻写模块之间还设有用于形成多个分光路的分光模块、设于相应分光路上的光束调节组件，以及用于将多个分光路汇合为刻写光束组合的合束模块；光束调节组件包括滤波模块，和能量调节模块或波相差调节模块中的一种或串联设置的两种组合。与现有技术相比，本发明专利技术提供一种多路单独滤波及调制的光源调制光路，可同时实现多通道不同波长的光束调制，多光束可互相配合，通过不同轴汇合或同轴重合方式，实现多通道超分辨光刻或基于边缘抑制的超分辨光刻。制的超分辨光刻。制的超分辨光刻。

【技术实现步骤摘要】
一种基于连续谱光源的可变波长激光直写光刻系统与应用


[0001]本专利技术属于超精密光学成像与刻写
，涉及一种基于连续谱光源的可变波长超分辨激光直写光刻系统与应用。

技术介绍

[0002]在众多激光光刻技术中，激光直写由于其结构简单，易于调控，适合三维刻写等优点逐渐占领领域内的一席之地。和投影曝光形式的激光光刻相比，直写式光刻通常由激光器光源直接引出光束，经过光束调制及扫描器件后进入聚焦物镜，可实现光束直接作用于光刻样品实现图形刻写。相比之下，直写光刻灵活性更高，更适合用于小批量定制化的微纳刻写任务，广泛用于科研及工业打样试验领域。
[0003]目前常见的激光直写光刻技术包括双光子光刻，单光子光刻，以及复合的边缘抑制超分辨光刻等，每种光刻技术按照其使用的光束通道数又可分为单光束及多光束刻写。通常，激光直写光刻中，刻写光往往使用一种单一波长的光源，双光子光刻中使用高能量的超短脉冲激光实现双光子吸收光刻，单光子光刻中材料吸收一种或多种光波长的单光子实现刻写，而边缘抑制技术使用复杂的光束嵌套形状实现光束刻写宽度的压缩实现超分辨光刻。其中本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种激光直写光刻系统，包括光源与刻写模块，其特征在于，所述的光源为连续谱光源（1）；所述的光源与刻写模块之间还设有用于形成多个分光路的分光模块（2）、设于相应分光路上的光束调节组件，以及用于将多个分光路汇合为刻写光束组合的合束模块（14）；所述的光束调节组件包括滤波模块（5）。2.根据权利要求1所述的一种激光直写光刻系统，其特征在于，所述的光束调节组件还包括与滤波模块（5）串联设置的能量调节模块（6）和/或波相差调节模块（9）。3.根据权利要求2所述的一种激光直写光刻系统，其特征在于，所述的滤波模块（5）包括可调滤波器；所述的能量调节模块（6）包括电光调制器；所述的波相差调节模块（9）包括空间光调制器。4.根据权利要求1所述的一种激光直写光刻系统，其特征在于，多个分光路中，光传播的几何距离相等。5.根据权利要求2所述的一种激光直写光刻系统，其特征在于，多个分光路中，所述的能量调节模块（6）、合束模块（14）之间的光传播的几何距离相等。6.根据权利要求1所述的一种激光直写光刻系统，其特征在于，所述的光束调节组件还包括用于对滤波模块（5）的进光进行缩束调制的缩束模块（...

【专利技术属性】
技术研发人员：马程鹏，匡翠方，张杨燕，孙秋媛，孙琦，杨臻垚，丁晨良，
申请(专利权)人：浙江大学，
类型：发明
国别省市：