掩模的检查方法、掩模的制造方法、掩模的检查装置、记录介质和掩模制造方法及图纸

本发明专利技术涉及掩模的检查方法、掩模的制造方法、掩模的检查装置、记录介质和掩模。本发明专利技术提供一种掩模的检查方法，其可以具备下述工序：第1计算工序，计算出y方向上的基准点的坐标的y分量y0～y

【技术实现步骤摘要】
掩模的检查方法、掩模的制造方法、掩模的检查装置、记录介质和掩模


[0001]本公开的实施方式涉及掩模的检查方法、掩模的制造方法、掩模的检查装置、记录介质和掩模。

技术介绍

[0002]对于智能手机、平板电脑等电子设备而言，市场正在寻求高精细的显示装置。显示装置例如具有400ppi以上或800ppi以上等的像素密度。
[0003]出于响应性的良好性、消费电力的低程度性、对比度的高度的原因，有机EL显示装置受到关注。作为形成有机EL显示装置的像素的方法，已知有蒸镀法。在蒸镀法中，使用掩模装置，以所期望的图案形成像素或电极。掩模装置具备包含贯通孔的掩模、以及支承掩模的框架。
[0004]框架包含固定掩模的端部的边。框架以在x方向上对掩模施加张力的状态支承掩模。由此可抑制在掩模产生挠曲。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1：国际公开2019/049600号

技术实现思路

[0008]专利技术所要解决的课题
[0009]构成掩模的金属板有时具有相对于x方向和/或相对于y方向的应变。例如，掩模的侧缘的延伸方向有时相对于x方向偏移。例如，掩模的宽度方向的延伸方向有时相对于y方向偏移。通过在对掩模施加张力的状态下将掩模固定于框架，可一定程度地消除应变。但是，应变的消除程度存在个体差异。
[0010]用于解决课题的手段
[0011]本公开的一个实施方式的掩模的检查方法中，上述掩模可以具备：在x方向上对置的第1端部和第2端部、位于上述第1端部与上述第2端部之间且包含多个贯通孔的单元、以及在上述x方向排列的n+1个(n为正整数)的基准点。
[0012]上述检查方法可以具备下述工序：
[0013]第1计算工序，计算出在与上述x方向正交的y方向上的上述基准点的坐标的y分量y0～y
n
；
[0014]调整工序，对施加至上述掩模的张力进行调整，以使得基于y分量y0～y
n
计算出的单纯振幅换算值ΔC为第1阈值以下；以及
[0015]第2评价工序，基于被施加了在上述调整工序中进行了调整的张力的状态的上述掩模的上述基准点的坐标的y分量而计算出振幅ΔS，基于该振幅ΔS对上述掩模的线性进行评价。
[0016]专利技术的效果
[0017]根据本公开，能够有效地检查掩模。
附图说明
[0018]图1是示出本公开的一个实施方式的有机器件的一例的截面图。
[0019]图2是示出具备掩模装置的蒸镀装置的一例的图。
[0020]图3是示出掩模装置的一例的俯视图。
[0021]图4是示出掩模的一例的俯视图。
[0022]图5是示出掩模的贯通孔的一例的俯视图。
[0023]图6是示出掩模的贯通孔的一例的截面图。
[0024]图7是示出对母材进行压延的压延工序的一例的图。
[0025]图8是示出具有应变的金属板的一例的图。
[0026]图9是示出在金属板形成多个贯通孔的加工工序的图。
[0027]图10A是示出具有应变的掩模的一例的俯视图。
[0028]图10B是示出具有应变的掩模的一例的俯视图。
[0029]图11A是用于说明具有高阶分量的应变的掩模的构成的图。
[0030]图11B是用于说明掩模的第1交点的图。
[0031]图12A是示出包含含有1个凹部和1个凸部的第3端的掩模的一例的俯视图。
[0032]图12B是示出包含含有2个凹部和1个凸部的第3端的掩模的一例的俯视图。
[0033]图13A是示出具有高阶分量的应变的掩模的一例的俯视图。
[0034]图13B是用于说明掩模的单元的第3交点的图。
[0035]图14是示出包含含有1个凹部和1个凸部的第3边的单元的一例的俯视图。
[0036]图15是示出将掩模固定于框架的工序的俯视图。
[0037]图16是示出将掩模固定于框架的工序的俯视图。
[0038]图17A是示出施加有张力的状态的掩模的一例的俯视图。
[0039]图17B是示出施加有张力的状态的掩模的一例的俯视图。
[0040]图18是示出掩模的检查方法的一例的流程图。
[0041]图19是示出确定了基准点的掩模的一例的俯视图。
[0042]图20是示出确定了基准点的掩模的一例的俯视图。
[0043]图21是示出第1计算工序的一例的流程图。
[0044]图22是示出对掩模进行矫正的工序的一例的俯视图。
[0045]图23是示出对掩模进行矫正的工序的一例的俯视图。
[0046]图24是示出检查装置的一例的图。
[0047]图25是示出y
i
、y
i
’
和Y
i
的一例的线状图。
[0048]图26是示出y
i
、y
i
’
和Y
i
的一例的线状图。
[0049]图27是示出掩模的检查方法的一例的流程图。
[0050]图28是示出施加了平行张力的状态的掩模的一例的俯视图。
[0051]图29是示出施加了平行张力的状态的掩模的一例的俯视图。
[0052]图30是示出y
i
、y
i
’
、Y
i
和y
i”的一例的表。
[0053]图31是示出y
i
、y
i
’
和Y
i
的一例的线状图。
[0054]图32是示出ΔC与ΔS的关系的线状图。
[0055]图33是示出例1的掩模中的y
i
和y
i”的线状图。
[0056]图34是示出例2的掩模中的y
i
和y
i”的线状图。
[0057]图35是示出例3的掩模中的y
i
和y
i”的线状图。
具体实施方式
[0058]本说明书和本附图中，只要没有特别说明，则“基板”、“基材”、“板”、“片”、“膜”等表示成为某结构的基础的物质的术语并不是仅根据称呼上的不同来互相区分的。
[0059]本说明书和本附图中，只要没有特别说明，则关于对形状和几何学上的条件以及它们的程度进行指定的例如“平行”、“正交”等术语或者长度、角度的值等，并不限定于严格的含义，而是包括可以期待同样功能的程度的范围在内来进行解释。
[0060]本说明书和本附图中，只要没有特别说明，则在某个部件或某个区域等的某个结构处于其他部件或其他区域等的其他结构的“上”或“下”、“上侧”或“下侧”、或者“上方”或“下方”的情况下，包括某个结构与其他结构直接接触的情况。进而还包括下述情况：在某个结构与其他结构之间包含另外的结构的情况、即间接地接触的情况。只本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩模的检查方法，其中，所述掩模具备：在x方向上对置的第1端部和第2端部；位于所述第1端部与所述第2端部之间且包含多个贯通孔的单元；以及在所述x方向排列的n+1个基准点，其中n为正整数，所述检查方法具备下述工序：第1计算工序，计算出在与所述x方向正交的y方向上的所述基准点的坐标的y分量y0～y
n
；调整工序，对施加至所述掩模的张力进行调整，以使得基于所述y分量y0～y
n
计算出的单纯振幅换算值ΔC为第1阈值以下；以及第2评价工序，基于被施加了在所述调整工序中进行了调整的张力的状态的所述掩模的所述基准点的坐标的y分量而计算出振幅ΔS，基于该振幅ΔS对所述掩模的线性进行评价。2.如权利要求1所述的掩模的检查方法，其中，所述第1计算工序包括下述工序：矫正工序，对所述掩模进行矫正，以使得所述第1端部和所述第2端部平行；以及测定工序，对矫正后的状态的所述掩模的所述基准点的坐标进行测定。3.如权利要求1所述的掩模的检查方法，其中，所述调整工序包括下述工序：将模拟余弦波的余弦函数y
’
的y分量y
’0～y
’
n
乘以所述y分量y0～y
n
，计算出振幅倍率Y0～Y
n
的工序；计算出振幅倍率Y0～Y
n
的平均值即平均振幅倍率Mag.Y的工序；将所述平均振幅倍率Mag.Y乘以所述y分量y
’0～y
’
n
，计算出单纯振幅换算分量y”0
～y”n
的工序；以及计算出作为单纯振幅换算分量y”0
～y”n
的最大值与最小值之差的所述单纯振幅换算值ΔC的工序。4.如权利要求1～3中任一项所述的掩模的检查方法，其中，所述第2评价工序中，在所述y分量y0～y
n
的最大值与最小值之差ΔS为第3阈值以上第4阈值以下的情况下，将所述掩模认定为合格品。5.如权利要求4所述的掩模的检查方法，其中，所述第3阈值为1.8
×
ΔC+0.40μm，所述第4阈值为1.8
×
ΔC+2.00μm。6.如权利要求1～3中任一项所述的掩模的检查方法，其中，所述第1阈值为1.11μm。7.如权利要求1～3中任一项所述的掩模的检查方法，其中，所述检查方法具备第1评价工序，在所述单纯振幅换算值ΔC小于第2阈值的情况下，从评价对象中排除所述掩模。8.如权利要求7所述的掩模的检查方法，其中，所述第2阈值为0.20μm。9.如权利要求7所述的掩模的检查方法，其中，在所述单纯振幅换算值ΔC为所述第2阈值以上且为所述第1阈值以下的情况下实施所述第2评价工序。10.一种掩模的制造方法，其具备下述工序：准备金属板的工序；在所述金属板形成多个贯通孔的工序；对形成有所述贯通孔的所述金属板进行部分地切割，得到所述掩模的工序；以及使用权利要求1～3中任一项所述的检查方法对所述掩模进行检查的工序。
11.一种掩模的检查装置，其中，所述掩模具备：在x方向上对置的第1端部和第2端部；位于所述第1端部与所述第2端部之间且包含多个贯通孔的单元；以及在所述x方向排列的n+1个基准点，其中n为正整数，所述检查装置具备：第1计算装置，计算出在与所述x方向正交的y方向上的所述基准点的坐标的y分量y0～y
n
；调整装置，对施加至所述掩模的张力进行调整，以使得基于所述y分量y0～y
n
计算出的单纯振幅换算值ΔC为第1阈值以下；以及第2评价装置，基于被施加了利用所述调整装置进行了调整的张力的状态的所述掩模的所述基准点的坐标的y分量而计算出振幅ΔS，基于该振幅ΔS对所述掩模的线性进行评价。12.如权利要求11所述的掩模的检查装置，其中，所述第1计算装置包括：矫正装置，对所述掩模进行矫正，以使得所述第1端部和所述第2端部平行；以及测定装置，对矫正后的状态的所述掩模的所述基准点的坐标进行测定。13.如权利要求11所述的掩模的检查装置，其中，所述调整装置进行下述作业：将模拟余弦波的余弦函数y
’
的y分量y
’0～y
’
n
乘以所述y分量y0～y
n
，计算出振幅倍率Y0～Y
n
；计算出振幅倍率Y0～Y
n
的平...

【专利技术属性】
技术研发人员：清水雄介，冈本英介，
申请(专利权)人：大日本印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：