【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种利用特殊脉冲电源电沉积铜铟硒薄膜的方法,其特征在于:在含有铜、铟、硒离子的电解质溶液中,采用钟形波调节的方波脉冲,在阴极基底上电沉积制得铜铟硒预制膜,然后将预制膜放在有固态硒源的真空、氮气或氩气气氛下在250~500℃退火10~60min,最终生成铜铟硒薄膜;其中脉冲电沉积的参数:脉冲频率为26~400kHz,占空比为1~100%,电沉积模式为脉冲恒电位或脉冲恒电流,脉冲电位范围为0.5~4V,脉冲电流范围为0.5~3mA,沉积时间为10~120min。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:杜祖亮,王晓丽,王广君,万绍明,张兴堂,
申请(专利权)人:河南大学,
类型:发明
国别省市:41[中国|河南]
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