一种光固化离型剂膜及其生产工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种光固化离型剂膜及其生产工艺，包括如下步骤制备超支化聚甲基硅氧烷；对原膜的表面进行电晕和除尘处理后软化，然后进行涂布；利用超支化聚甲基硅氧烷与复配光引发剂制备得到复配光固化硅基离型剂，通过复配光固化硅基离型剂对原膜进行涂覆，并在氮气氛围下进行紫外光固化得到离型膜；对离型膜进行后固化工艺，即得，光固化离型膜。本发明专利技术通过引入超支化结构，降低聚硅氧烷粘度，减少溶剂使用或不使用溶剂，减少污染；过含丙烯酸酯的超支化聚甲基硅氧烷的紫外光固化技术，解决了现有技术中生产成本高，反应条件苛刻，副反应增多的问题；通过优化的涂布固化成膜工艺，极大提高了离型膜产品的最终性能。极大提高了离型膜产品的最终性能。

【技术实现步骤摘要】
一种光固化离型剂膜及其生产工艺


[0001]本专利技术涉及一种光固化离型剂膜及其生产工艺，适用于离型膜


技术介绍

[0002]OCA(Optically Clear Adhesive)是用于胶结透明光学原件(如镜头等)的特种粘胶剂，是重要触摸屏的原材料之一。这种OCA胶在生产和使用的过程中必须用到高性能的PET离型膜作为承载。但是由于OCA胶独特的性质和特殊的应用要求，使其对于作为承载的PET离型膜也提出了超高的质量标准。
[0003]当前主流的PET离型膜或保护膜采用了传统有机硅材料，通过高效催化剂在高温下进行固化成型。固化速度慢、能耗高、固化效率低，且残留少量游离未固化硅油影响离型保留率，甚至固化过程中产生溶剂、小分子有机物挥发污染环境，金属催化剂的残留影响产品性能和应用点。与此同时，其生产工艺主要采用普通涂布机对有机硅热固化组份进行涂布，并原位在PET膜上经行高温固化，存在大量有机溶剂挥发、对树脂交联度控制较差及脏污多等问题。
[0004]紫外光(UV)固化是一种节能环保的新技术，具有快速固化(数秒成膜)，固化均匀、室温固化、节能高效、环境友好等优点，尤其适用于热敏性元部件的成型，以及定域性的复印和半导体电路的光刻。因此，通过在聚甲基硅油单元中引入可紫外光固化的官能团，在紫外光辐照下进行交联固化则显示了高效、快速固化成型、清洁环保、节能等诸多优势，所得材料具有耐温、耐候、电气绝缘、低表面张力和低表面能等优点。过向硅氧主链引入可紫外光固化的键或环氧基团等官能团，在紫外光辐照下进行交联固化后不仅保留了有机硅的优势，同时具有丙烯酸酯的成膜性、保色性好，光泽高，粘接性能优异。
[0005]目前现有的涂布固化成膜工艺仍存在一定的不足，诸多工艺条件都会直接影响所制备离型膜的产品性能及稳定性。在原膜方面，存在有表明灰尘等污染物附着，与涂布液接触存在漏点，静电残留等。在涂布过程中，缺乏稳定性和均匀性的涂布会最终导致涂布纹，彩虹纹的产生，更会直接影响整幅离型膜性能。各项张力的控制会直接影响产品收缩问题。还会进一步影响光固化过程，导致纵纹、水波纹、横纹等不良现象的出现。收卷张力等控制不佳，极易导致在收卷过程中张力线的产生，收卷压力太大，也会导致离型层发生硅转移到PET离型膜的背面，降低下游客户胶粘制品的黏性，从而影响终端的使用。整体涂布固化成膜工艺不佳，还会导致涂层表面的分子活性过强，使得产品的性能不稳定；有机硅涂层对OCA胶的污染等问题。

技术实现思路

[0006]本专利技术的目的在于提供一种光固化离型剂膜及其生产工艺。
[0007]实现本专利技术目的的技术解决方案为：一种光固化离型膜，包括原膜，以及涂覆在原膜上的复配光固化硅基离型剂
[0008]一种光固化离型膜的生产工艺，包括如下步骤：
[0009]制备超支化聚甲基硅氧烷；
[0010]对原膜的表面进行电晕和除尘处理后软化，然后进行涂布；
[0011]利用超支化聚甲基硅氧烷与复配光引发剂制备得到复配光固化硅基离型剂，通过复配光固化硅基离型剂对原膜进行涂覆，并在氮气氛围下进行紫外光固化得到离型膜；
[0012]对离型膜进行后固化工艺，即得，光固化离型膜。
[0013]进一步地，制备超支化聚甲基硅氧烷的具体方法如下：
[0014]制备端氨基聚甲基硅氧烷，并通过端氨基聚甲基硅氧烷与三羟甲基丙烷三丙烯酸酯制备得到超支化聚甲基硅氧烷。
[0015]进一步地，制备端氨基聚甲基硅氧烷的具体方法如下：
[0016]选取有机强碱为催化剂，氨基双封头为封端剂，催化环硅氧烷开环聚合制得端氨基聚甲基硅氧烷，其中端氨基聚甲基硅氧烷的结构通式为：
[0017][0018]其中N为任意整数。
[0019]进一步地，通过端氨基聚甲基硅氧烷与三羟甲基丙烷三丙烯酸酯制备得到超支化聚甲基硅氧烷的具体方法如下：
[0020]将三羟甲基丙烷三丙烯酸酯与端氨基聚甲基硅氧烷按照1:1进行混合，并加入良溶剂后进行Michael加成反应后，制得超支化聚甲基硅氧烷，超支化聚甲基硅氧烷的结构通式为：
[0021][0022]其中N＝10
‑
100，且N为整数。
[0023]进一步地，所述良溶剂包括四氢呋喃、乙酸乙酯、甲苯、二甲苯、丁酮中任一种或多种。
[0024]进一步地，所述复配光引发剂包括1
‑
羟基环己基苯基甲酮、2
‑
羟基
‑
4'
‑
(2
‑
羟乙氧基)
‑2‑
甲基苯丙酮、2，4，6(三甲基苯甲酰基)二苯基氧化膦、2，4，6一三甲基苯甲酰基膦酸乙酯、2
‑
异丙基硫杂蒽酮、4
‑
二甲胺基
‑
苯甲酸乙酯中任意两种或多种。
[0025]进一步地，所述有机强碱包括季铵盐、N
‑
杂环卡宾、膦腈碱中任一种或多种
[0026]进一步地，所述电晕处理时电晕值大于50。
[0027]进一步地，所述涂布方法为：采用蜂窝状网纹辊进行逆涂，涂布速度55m/min，每平方米的涂布湿量为5
‑
7g。
[0028]本专利技术与现有技术相比，其显著优点在于：本专利技术通过引入超支化结构，降低聚硅
氧烷粘度，减少溶剂使用或不使用溶剂，减少污染；过含丙烯酸酯的超支化聚甲基硅氧烷的紫外光固化技术，解决了现有技术中生产成本高，反应条件苛刻，副反应增多的问题；通过优化的涂布固化成膜工艺，极大提高了离型膜产品的最终性能。使得离型膜更加平整均匀，提高良品率。
具体实施方式
[0029]下面将对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0030]实施例1
[0031]一种光固化离型膜，包括原膜，以及涂覆在原膜上的复配光固化硅基离型剂。
[0032]一种光固化离型膜的生产工艺，包括如下步骤：
[0033]步骤一、
[0034]首先制备端氨基聚甲基硅氧烷：
[0035]选取有机强碱为催化剂，有机强碱采用季铵盐，氨基双封头为封端剂，同时加入催化剂和封端剂，进行催化环硅氧烷开环聚合反应，反应温度为100℃，无溶剂，反应时间为1h，反应后采用乙腈进行沉淀，进行沉淀时采用乙腈洗涤3次，并在30℃真空烘箱中干燥至恒重制得端氨基聚甲基硅氧烷，通过有机强碱先打开环硅氧烷形成聚合物链，然后氨基双封头封端，环硅氧烷转化率为98％，其中反应方程为：
[0036][0037]端氨基聚甲基硅氧烷的结构通式为：
[0038][0039]其中N＝10
‑
100，且N为整数。
[0040]其次，制备超支化聚甲基硅氧烷：
[0041]将本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光固化离型膜，其特征在于，包括原膜，以及涂覆在原膜上的复配光固化硅基离型剂。2.一种光固化离型膜的生产工艺，其特征在于，包括如下步骤：制备超支化聚甲基硅氧烷；对原膜的表面进行电晕和除尘处理后软化，然后进行涂布；利用超支化聚甲基硅氧烷与复配光引发剂制备得到复配光固化硅基离型剂，通过复配光固化硅基离型剂对原膜进行涂覆，并在氮气氛围下进行紫外光固化得到离型膜；对离型膜进行后固化工艺，即得，光固化离型膜。3.根据权利要求1所述的一种光固化离型膜的生产工艺，其特征在于，所述制备超支化聚甲基硅氧烷的具体方法如下：制备端氨基聚甲基硅氧烷，并通过端氨基聚甲基硅氧烷与三羟甲基丙烷三丙烯酸酯制备得到超支化聚甲基硅氧烷。4.根据权利要求3所述的一种光固化离型膜的生产工艺，其特征在于，所述制备端氨基聚甲基硅氧烷的具体方法如下：选取有机强碱为催化剂，氨基双封头为封端剂，催化环硅氧烷开环聚合制得端氨基聚甲基硅氧烷，其中端氨基聚甲基硅氧烷的结构通式为：其中N为任意整数。5.根据权利要求3所述的一种光固化离型膜的生产工艺，其特征在于，所述通过端氨基聚甲基硅氧烷与三羟甲基丙烷三丙烯酸酯制备得到超支化聚甲基硅氧烷的具体方法如下：将三羟甲基丙烷三丙烯酸酯与端氨基聚甲基硅氧烷按照1:1进行混合，并加入良溶剂后进行Michael加成反应后，制得超支化聚甲基硅氧烷，超支化聚甲基硅氧烷的结构通式为：其中N＝10<...

【专利技术属性】
技术研发人员：贾守晟，薛小强，周凡响，樊雨佳，林瑶，张珉熙，张维维，徐泽群，吴泽颖，
申请(专利权)人：常州工学院，
类型：发明
国别省市：