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一种植物循环灌溉节水方法及装置制造方法及图纸

技术编号:3822648 阅读:211 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种植物循环灌溉节水方法及装置,该方法包括如下步骤:用于培养植物的营养液通过输送管路输送至植物生长区,通过滴灌式、浇灌式或者气雾式的供给方式提供给植物,供给过程中流淌至地面的营养液进行回流,在回流过程中所述营养液依次经过回流过滤和回流杀菌后继续通过所述输送管路输送至植物生长区,该装置包括用于存储营养液的营养液池;连接于营养液池与植物生长区内的供给终端之间的水泵;植物生长区内具有倾斜设置的回流槽,待回流的营养液通过回流槽依次通过分别对回流营养液进行过滤和杀菌的回流过滤器和回流杀菌装置流回至所述营养液池。通过本发明专利技术所述植物循环灌溉节水方法及装置可以实现营养液的循环利用,减少浪费。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种植物循环灌溉的节水方法及实现该方法的装置。
技术介绍
无土栽培大体上分为基质栽培和无基质栽培两大类。基质栽培,即作物根系固定 在基质中,植株通过基质吸收营养液,主要栽培方式有袋培、岩棉培和营养液膜法。而无基 质栽培一般称为水培,即根系直接和营养液接触。在为植物提供营养液的过程中,植物一次 性只能吸收一部分,另一部分会被浪费掉,如果可以对一次性未被吸收的,以及未经植物吸 收而直接滴落的营养液进行重新利用,则可以节省营养液。另外,灌溉节水方法不仅仅局限于对营养液的循环利用,如果可以使植物能够更 好地吸收营养液,即在提供较少营养液的情况下也能得到相同的种植效果,或者可以加快 植物的生长速度等都可以达到灌溉节水的目的。
技术实现思路
本专利技术的一个目的是提供一种植物循环灌溉节水方法。本专利技术所采用的技术方案为一种植物循环灌溉节水方法,用于培养植物的营养 液通过输送管路输送至植物生长区,通过滴灌式、浇灌式或者气雾式的供给方式提供给植 物,供给过程中流淌至地面的营养液进行回流,在回流过程中所述营养液依次经过回流过 滤和回流杀菌后继续通过所述输送管路输送至植物生长区。优选地,所述营养液经过加高压处理后,通过设置在植物生长区内的喷头将其以 气雾式喷射至植物的种子上或者植物的裸露在空气中的根部上,其中,营养液经加高压处 理后到达所述喷头时的压力为1公斤至2公斤。优选地,所述营养液先经过2万高斯至4万高斯的强磁场进行磁化处理,将其切割 为有利于植物吸收的单个分子结构的营养液后再进行所述的加高压处理。优选地,所述营养液回流时,在进行回流杀菌的位置处通过高于其两侧地势的缓 冲壁进行缓冲和沉淀,以降低营养液的流速和沉淀杂质。优选地,所述植物的种子附着在一立体种植体的种植孔中,每粒种子与每个种植 孔一一对应,所述喷头位于立体种植体的内部空间中;所述植物的根部向所述立体种植体 的内部空间中生长,植物的茎部和叶部向所述立体种植体的外部生长,所述喷头位于立体 种植体的内部空间中。本专利技术的另一个目的是提供一种能够实现上述植物循环灌溉节水方法的植物循 环灌溉节水装置。一种植物循环灌溉节水装置,包括营养液池,用于存储培养植物的营养液;水泵, 其输入端口与所述营养液池的输出管道连通,其输出端口与设置在植物生长区内的供给终 端连通;所述植物生长区内具有倾斜设置的回流槽,待回流的营养液通过所述回流槽依次 通过分别对回流营养液进行过滤和杀菌的回流过滤器和回流杀菌装置流回至所述营养液3池。优选地,所述水泵为高压水泵,所述供给终端为喷头。优选地,所述营养液池至水泵的输出管道上设置有用于对营养液进行磁化处理的 磁化装置,所述磁化装置提供2万高斯至4万高斯的强磁场。优选地,所述回流杀菌装置为紫外线灯管;所述营养液池旁边设置一与其连通的 缓冲沟槽,所述缓冲沟槽的内部设置有减缓回流营养液流速的缓冲壁;所述紫外线灯管安 装在所述缓冲沟槽的上部或者内壁上。优选地,还包括立体种植体,所述立体种植体上设置有彼此间隔设置的种植孔,所 述种植孔上设置有供种子附着的附着体;所述喷头设置在立体种植体的内部。本专利技术的有益效果为首先,回流的营养液经过回流过滤和回流杀菌后可以得到 进一步的循环利用;如果营养液采用气雾态的形式提供给植物,更有利于植物进行吸收,如 果使营养液经过磁化处理,将以分子团结构存在的营养液切割为以单个分子结构存在的营 养液,配合气雾态的供给形式,可以使植物直接吸收,而无需先通过植物自身具有的微生物 进行分解后再进行吸收,一方面可以加快吸收速度,另一方面可以在供给相同营养液成分 的情况下,植物的营养成分也相对较高,从另一侧面实现了节水灌溉。附图说明图1为本专利技术所述植物循环灌溉节水方法的流程图;图2为采用立体种植体和营养液气雾式供给的结构示意图;图3为本专利技术所述缓冲沟槽的结构示意图。具体实施例方式如图1所示,植物循环灌溉节水方法的过程如下营养液从营养液池1流出后,通过输送管路输送至植物生长区5,通过滴灌式、浇 灌式或者气雾式的供给方式提供给植物,供给过程中流淌至地面的营养液进行回流,在回 流过程中所述营养液依次经过回流过滤器6进行回流过滤,经过回流杀菌装置7进行回流 杀菌后流回营养液池1,进而继续通过所述输送管路输送至植物生长区5。其中,所述营养 液可以为液体的有机肥料。为了使植物以气生根的方式生长,可以借助于如图2所示的立体种植体,使营养 液通过立体种植体内部的喷头54以气雾态的形式喷出,如此,需要通过高压水泵3对从营 养液池1的输出管道流出的营养液进行加高压处理,即高压水泵3的输入端口与营养液池 1的输出管道连通,高压水泵3的输出端口与设置在植物生长区5内的喷头连通,其中对高 压水泵3的选择需要使经过加高压处理的营养液到达喷头时能以气雾态喷出,兼顾成本及 效果,高压水泵3的选择可以使到达喷头出的营养液的压力达到1至5公斤即可,高压水泵 3与喷头之间的输送管路越长,对高压水泵3的要求越高。如图2所示,直接与喷头54连接的连接管55可以依附在喷头支架53上,所述喷头 可以一部分直接安装在喷头支架53上,也可以根据需要通过其连接管55的可定型性悬置 在空中。所述喷头54设置在立体种植体51的内部空间中,如搭接为如图2所示的纵向截 面为三角形的立体种植体51,也可以为纵向截面为梯形和半圆形的立体种植体,以及圆筒形的立体种植体等,其中,立体种植体优选为由单片种植板搭接而成,如立体种植体51由 两片矩形的单片种植板搭接而成。立体种植体51上设置有彼此间隔的种植孔,每个种植孔 上设置有供种子附着的附着体,如比较薄的海绵,所述种植孔优选在立体种植体51上呈整 齐的矩阵式排列,则可以在立体种植体51的背面粘贴与每排或者每列种植孔相对应的整 条附着体,该种方式便于通过自动化设备自动粘贴整条附着体。当每粒种子通过人工或者 自动的方式植入每个种植孔的附着体中时,即可将立体种植体51放置在植物生长区5的喷 头54的外部,再通过塑料布等物品覆盖至立体种植体51的两个敞开的面上,可以防止喷头 54喷出的营养液向立体种植体51外部飞溅。由于在立体种植体51中喷出的营养液,只有一部分被根部52吸收,另一部分会经 由根部52滴落或者直接落到地面上,因此,用于回流的回流槽56可以倾斜地设置在立体种 植体51的底面上,将待回流的营养液通过所述回流槽56依次经过回流过滤器6对其进行 过滤,经过回流杀菌装置7进行杀菌后回流至所述的营养液池1,以待进一步循环使用。其 中,所述回流杀菌装置可以为紫外线灯管,回流过滤器6和回流杀菌装置7优选为设置在临 近营养液池1的位置上。由于通过紫外线灯管对回流营养液进行杀菌需要限定回流营养液 的流速,如果流速过快,则起不到杀菌的效果,为此,可以通过一种简单的方式解决该问题, 即在所述营养液池1旁边设置如图3所示的缓冲沟槽10,缓冲沟槽10的内部设置有缓冲 壁14,缓冲壁14的高度低于缓冲沟槽10的高度,所述缓冲壁14将缓冲沟槽10分成两部 分,分别为缓冲前区101和缓冲后区102,缓冲后区102与所述营养液池1之间设置有连通 区15,如连通孔。回流营养液进入缓冲沟槽10的缓冲前区101后,需要越过缓冲壁14进入 缓冲后区102,进而降低了回流营养液本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种植物循环灌溉节水方法,其特征在于:用于培养植物的营养液通过输送管路输送至植物生长区,通过滴灌式、浇灌式或者气雾式的供给方式提供给植物,供给过程中流淌至地面的营养液进行回流,在回流过程中所述营养液依次经过回流过滤和回流杀菌后继续通过所述输送管路输送至植物生长区。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:李付忠
申请(专利权)人:潘赵美上海赋民农业科技有限公司
类型:发明
国别省市:31[中国|上海]

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