用于涂布柔性基板的处理系统、蒸发器及其方法技术方案

描述用于涂布柔性基板的处理系统(100)和涂布柔性基板的方法。特别地，描述蒸发器(30)和操作蒸发器的方法。蒸发器(30)包括坩埚布置(35)，坩埚布置(35)具有数量R个相邻行的坩埚(350)，坩埚中的每一个坩埚具有围绕单独坩埚的感应线圈(36)。此外，蒸发器(30)包括电源(40)，电源(40)用于将数量N

【技术实现步骤摘要】
用于涂布柔性基板的处理系统、蒸发器及其方法


[0001]本公开内容的实施方式涉及用于处理柔性基板的处理系统和方法，特别是用于在真空条件下的卷对卷(roll
‑
to
‑
roll)工艺中处理柔性基板。特别地，本公开内容的实施方式涉及用于通过涂布材料的蒸发来涂布柔性基板的处理系统和方法。

技术介绍

[0002]在包装行业、半导体行业和其他行业中对柔性基板(诸如塑料膜或箔)的处理有很高需求。特别地，由于以低成本实现高产量，柔性基板的卷对卷(R2R)处理备受关注。特别地，在薄膜电池的制造、显示器行业和光伏(PV)行业中，卷对卷沉积系统备受关注。例如，对于柔性触摸面板元件、柔性显示器和柔性PV模块的需求不断增长，造成对于在R2R涂布机中沉积合适的层的需求不断增长。
[0003]对改善的R2R处理系统存在持续需求，特别是在处理质量、处理时间和处理效率方面。为了在柔性基板上实现高质量的涂层，必须驾驭与柔性基板传输和均匀层沉积有关的各种挑战。例如，在真空条件下的基板传输期间提供适当的基板
‑
辊接触，以及用具有改善的均匀性、改善的产品寿命和更低单位表面积缺陷数量的高质量层涂布柔性基板仍然具有挑战性。
[0004]相应地，对提供可以用来减少或克服现有技术的至少一些缺点的方案有持续的需求。

技术实现思路

[0005]鉴于以上，提供根据独立权利要求的一种蒸发器、一种操作蒸发器的方法、一种用于涂布柔性基板的处理系统和一种涂布柔性基板的方法。另外的方面、优点和特征从从属权利要求、说明书和附图而清楚易见。
[0006]根据本公开内容的一个方面，提供一种蒸发器。蒸发器包括坩埚布置，该坩埚布置具有数量R个相邻行的坩埚。坩埚中的每一个坩埚具有围绕单独的坩埚的感应线圈。此外，蒸发器包括用于将数量N
f
的不同频率f
N
的交变电流单独地提供到相邻感应线圈的电源，其中N
f
＝3或N
f
＝R+1。
[0007]根据本公开内容的另一方面，提供一种蒸发器，该蒸发器包括坩埚布置，该坩埚布置具有数量R个相邻行的坩埚。坩埚中的每一个坩埚具有围绕单独坩埚的感应线圈。另外，蒸发器包括用于将数量N
f
的不同频率f
N
的交变电流单独地提供到相邻感应线圈的电源，其中N
f
＝3或N
f
＝R+1。数量N
f
的不同频率f
N
包括选自第一范围5kHz≤f1≤20kHz的第一频率f1、选自第二范围10kHz≤f2≤30kHz的第二频率f2和选自第三范围15kHz≤f3≤50kHz的第三频率f3。此外，应用以下项中的至少一项：关于以下项中的至少一项调制数量N
f
的不同频率f
N
中的至少两个频率：它们的幅度、相位和频率；以及通过N
f
个不同的振荡电路提供数量N
f
的不同频率f
N
，每个振荡电路具有电感器和电容器，其中不同振荡电路的相应电容器的电容C
N
彼此不同。
[0008]根据本公开内容的另一方面，提供一种操作蒸发器的方法。所述蒸发器包括具有数量R个相邻行的坩埚的坩埚布置。坩埚中的每一个坩埚具有围绕单独坩埚的感应线圈。该方法包括将数量N
f
的不同频率f
N
的交变电流分别地提供到相邻感应线圈，其中N
f
＝3或N
f
＝R+1，并且其中R≥2。
[0009]根据本公开内容的另一方面，提供一种用于涂布柔性基板的处理系统。该处理系统包括卷绕腔室，该卷绕腔室容纳用于供应柔性基板的供应辊、用于存储处理之后的柔性基板的卷取辊和用于沿着基板传输路径引导柔性基板的多个引导辊。另外，该处理系统包括处理腔室，该处理腔室容纳蒸发器，该蒸发器用于蒸发要沉积在柔性基板上的材料。此外，处理系统包括用于引导柔性基板经过蒸发器的涂布滚筒。蒸发器是根据本文所述的任何实施方式的蒸发器。
[0010]根据本公开内容的另一方面，提供一种涂布柔性基板的方法。该方法包括使用以下项中的至少一项：根据本文所述的任何实施方式的蒸发器、根据本文所述的任何实施方式的操作蒸发器的方法和根据本文所述的任何实施方式的处理系统。
[0011]实施方式还针对用于执行所公开的方法的设备并且包括用于执行每个所描述的方法方面的设备部件。这些方法方面可以通过硬件部件、由适当软件编程的计算机、通过两者的任何结合或以任何其他方式来执行。此外，根据本公开内容的实施方式还涉及用于操作所述设备的方法。用于操作所述设备的方法包括用于执行设备的每个功能的方法方面。
附图说明
[0012]为了能够详细理解本公开内容的上述特征，可通过参考实施方式获得以上简要概述的本公开内容的更特定描述。附图涉及本公开内容的多个实施方式，并且在下文中描述附图：
[0013]图1示出根据本文描述的实施方式的处理系统的示意图；
[0014]图2示出根据本文描述的另外实施方式的处理系统的一部分的示意图；
[0015]图3示出根据本文描述的实施方式的涂布滚筒的纵向截面图的示意图；
[0016]图4示出沿着图3中所指示的A
‑
A线的截面图；
[0017]图5示出根据本文描述的实施方式的具有气体出口布置的涂布滚筒的示意性俯视图；
[0018]图6示出根据本文描述的实施方式的涂布滚筒的在图4中所指示的放大部分的示意图；
[0019]图7至图9示出根据本文描述的实施方式的涂布滚筒的在图6中所指示的放大部分的一部分的示意性截面图；
[0020]图10至12示出根据本文描述的实施方式的具有不同气体出口密度的涂布滚筒的示意性俯视图；
[0021]图13至15示出根据本文描述的实施方式的具有不同出口直径的涂布滚筒的示意性俯视图；
[0022]图16和17示出根据本文描述的实施方式的具有冷却剂供应源的涂布滚筒的示意性纵向截面图；
[0023]图18示出根据本文描述的实施方式的蒸发器的示意性侧视截面图；
[0024]图19示出根据本文描述的实施方式的蒸发器的示意性俯视图；
[0025]图20示出根据本文描述的实施方式的蒸发器的一部分，示出由连接到单独电源的单独感应线圈围绕的各别坩埚；
[0026]图21示出用于图示根据本文描述的实施方式的操作蒸发器的方法的方框图；并且
[0027]图22示出根据本文描述的实施方式的坩埚的详细示意性截面图；
具体实施方式
[0028]现在将详细参考本公开内容的各种实施方式，在图中图示实施方式的一个或多个示例。在以下对附图的描述中，相同的附图标记指代相同的部件。仅描述关于各个实施方式的差异。每个示例都是以解释本公开内容的方式而提供的，并且不意味着对本公开内容的限制。此外，作为一个实施本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸发器(30)，包含：坩埚布置(35)，所述坩埚布置(35)具有数量R个相邻行的坩埚(350)，所述坩埚中的每一个坩埚具有围绕单独的坩埚的感应线圈(36)；和电源(40)，所述电源(40)用于将数量N
f
的不同频率f
N
的交变电流分别地提供到相邻感应线圈，其中N
f
＝3或N
f
＝R+1。2.如权利要求1所述的蒸发器(30)，其中所述数量N
f
的不同频率f
N
具有在5kHz≤f
N
≤100kHz的范围中的频率，并且其中提供到相邻感应线圈的所述频率相差Δf≥2kHz。3.如权利要求1所述的蒸发器(30)，其中所述数量N
f
的不同频率f
N
具有在5kHz≤f
N
≤100kHz的范围中的频率并且经选择以提供Δf1≥2kHz的第一频率差Δf1和第二频率差Δf2≥2kHz，所述第二频率差Δf2与所述第一频率差Δf1不同。4.如权利要求1所述的蒸发器(30)，其中所述数量N
f
的不同频率f
N
包含第一频率f1、第二频率f2和第三频率f3，其中所述第一频率f1是5kHz≤f1≤20kHz，其中所述第二频率f2是10kHz≤f2≤30kHz，并且其中所述第三频率f3是15kHz≤f3≤50kHz。5.如权利要求1至4中任一项所述的蒸发器(30)，其中关于以下项中的至少一项调制所述数量N
f
的不同频率f
N
中的至少两个频率：它们的幅度、相位和频率。6.如权利要求5所述的蒸发器(30)，其中提供闭环控制以用于调制所述数量N
f
的不同频率f
N
中的所述至少两个频率。7.如权利要求6所述的蒸发器(30)，其中所述数量N
f
的不同频率f
N
中的所述至少两个频率至少具有选自由以下项构成的群组的至少一种波形：正弦波形、直角波形或任何其他周期性波形。8.如权利要求1至4中任一项所述的蒸发器(30)，其中所述数量N
f
的不同频率f
N
由数量N
OC
的不同振荡电路提供，每个振荡电路具有电感器和电容器，其中所述不同振荡电路的相应电容器的电容C
N
彼此不同。9.如权利要求8所述的蒸发器(30)，其中所述相应电容器的所述电容在1μF≤C
N
≤50μF的范围中，并且经选择以提供ΔC1≥2μF的第一电容差ΔC1和第二电容差ΔC2≥2μF，所述第二电容差ΔC2不同于所述第一电容差ΔC1。10.如权利要求8所述的蒸发器(30)，其中所述数量N
OC
的不同振荡电路包括第一振荡电路、第二振荡电路和第三振荡电路，所述第一振荡电路具有带有1μF≤C1≤10μF的第一电容C1的第一电容器，所述第二振荡电路具有带有3μF≤C2≤15μF的第二电容C2的第二电容器，所述第三振荡电路具有带有10μF≤C2≤30μF的第三电容C3的第三电容器。11.一种蒸发器(30)，包含：坩埚布置(35)，所述坩埚布置(35)具有数量R个相邻行的坩埚(350)，所述坩埚中的每一个坩埚具有围绕单独的坩埚的感应线圈(36)；和电源(40)，所述电源(40)用于将数量N
f
的不同频率f
N
的交变电流分别地提供到相邻感应线圈，其中N
f
＝3或N
f
＝R+1，其中所述数量N
f
的不同频率f
N
包含第一频率f1、第二频率f2和第三频率f3，所述第一频率f1选自第一范围5kHz≤f1≤20kHz，所述第二频率f2选自第二范围10kHz≤f2≤30kHz，所述第三频率f3选自第三范围15kHz≤f3≤50kHz，并且其中应用以下项中的至少一项：
关于以下项中的至少一项调制...

【专利技术属性】
技术研发人员：乌韦，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：