本发明专利技术提供一种触控面板，具有触控区和周边区，周边区围设于触控区外围，触控面板包括基底、触控电极和触控走线，触控电极和触控走线位于基底的一侧，触控电极位于触控区，触控走线位于周边区，触控走线连接触控电极；触控面板还包括第一屏蔽线和第二屏蔽线，第一屏蔽线和第二屏蔽线位于周边区，且位于触控走线在基底上正投影的远离触控区的一侧，第一屏蔽线和第二屏蔽线分别位于不同层，第一屏蔽线和第二屏蔽线在基底上的正投影至少局部交叠。该触控面板，能够减小第一屏蔽线和第二屏蔽线在周边区的占用宽度，从而减小触控面板周边区的宽度，进而能减小触控面板的边框宽度，有利于实现触控面板的窄边框。现触控面板的窄边框。现触控面板的窄边框。
【技术实现步骤摘要】
触控面板及其制备方法和显示面板
[0001]本专利技术属于显示领域，具体涉及一种触控面板及其制备方法和显示面板。
技术介绍
[0002]FMLOC(Flexible Multi
‑
Layer on cell，柔性多层结构)技术是指利用构图工艺在显示基板的封装结构上制作触控结构的技术，实现显示触控一体化。
[0003]该触控结构具有触控区和围设于触控区外围的周边区，该触控结构包括分布于触控区的触控电极和分布于周边区的触控走线。另外，周边区还分布有屏蔽信号线，屏蔽信号线包括用于防止静电积累对触控走线乃至触控电极造成损坏的屏蔽线，还包括用于确保外侧触控走线所处信号环境与内侧触控走线所处信号环境一致的屏蔽线。
[0004]触控结构周边区的走线众多，如何减小周边区的走线空间，实现周边区的窄化，从而实现触控显示面板的窄边框已成为目前亟待解决的问题。
技术实现思路
[0005]本专利技术针对上述FMLOC触控结构周边区走线众多，导致周边区宽度较大，不利于实现采用该FMLOC触控结构的显示面板的窄边框的问题，提供一种触控面板及其制备方法和显示面板。该触控面板，能够减小第一屏蔽线和第二屏蔽线在周边区的占用宽度，从而减小触控面板周边区的宽度，进而能减小触控面板的边框宽度，有利于实现触控面板的窄边框。
[0006]本专利技术提供一种触控面板，具有触控区和周边区，所述周边区围设于所述触控区外围，
[0007]所述触控面板包括基底、触控电极和触控走线，所述触控电极和所述触控走线位于所述基底的一侧，所述触控电极位于所述触控区，所述触控走线位于所述周边区，所述触控走线连接所述触控电极；
[0008]所述触控面板还包括第一屏蔽线和第二屏蔽线，所述第一屏蔽线和所述第二屏蔽线位于所述周边区，且位于所述触控走线在所述基底上正投影的远离所述触控区的一侧，
[0009]所述第一屏蔽线和所述第二屏蔽线分别位于不同层，所述第一屏蔽线和所述第二屏蔽线在所述基底上的正投影至少局部交叠。
[0010]在一些实施例中，所述第一屏蔽线和所述第二屏蔽线的线宽相等，
[0011]所述第一屏蔽线和所述第二屏蔽线在所述基底上的正投影交叠部分重合。
[0012]在一些实施例中，所述第二屏蔽线分为多股线，所述多股线在所述基底上的正投影相互间隔，
[0013]所述多股线在所述基底上的正投影与所述第一屏蔽线在所述基底上的正投影交叠。
[0014]在一些实施例中，所述多股线同层设置，
[0015]所述多股线中任意相邻两股线之间的间隔距离大于或等于3μm。
[0016]在一些实施例中，所述第一屏蔽线接地，所述第二屏蔽线上接入的信号与所述触
控走线上接入的信号相同。
[0017]在一些实施例中，所述触控电极包括多个第一电极条和多个第二电极条，
[0018]所述多个第一电极条沿第一方向延伸并沿第二方向依次排布，所述多个第二电极条沿所述第二方向延伸并沿所述第一方向依次排布；
[0019]所述第一电极条包括本体部和桥接部，所述本体部和所述桥接部连接；
[0020]所述第一电极条和所述第二电极条空间交叉，所述桥接部位于空间交叉位置处；
[0021]所述本体部和所述第二电极条同层设置，所述桥接部位于所述本体部和所述第二电极条的靠近所述基底的一侧或者背离所述基底的一侧，
[0022]所述桥接部与所述本体部和所述第二电极条之间设置有介电层，所述桥接部通过开设在所述介电层中的第一过孔连接所述本体部；
[0023]所述第一屏蔽线与所述第二电极条和所述桥接部中的其中一者同层设置，所述第二屏蔽线与所述第二电极条和所述桥接部中的其中另一者同层设置。
[0024]在一些实施例中，所述触控走线包括多条第一走线和多条第二走线，
[0025]所述第一走线和所述第二走线在所述基底上的正投影不交叠，
[0026]所述第一走线连接所述第一电极条，
[0027]所述第二走线连接所述第二电极条。
[0028]在一些实施例中，还包括多条第三屏蔽线，位于所述周边区，且位于所述第一屏蔽线和所述第二屏蔽线在所述基底上正投影的靠近所述触控区的一侧，
[0029]所述第三屏蔽线在所述基底上的正投影与所述触控走线在所述基底上的正投影不交叠；
[0030]一部分所述第三屏蔽线在所述基底上的正投影位于所述第一走线和所述第二走线在所述基底上的正投影之间。
[0031]在一些实施例中，另一部分所述第三屏蔽线在所述基底上的正投影还位于所述触控区与最靠近所述触控区的所述触控走线在所述基底上正投影之间。
[0032]在一些实施例中，所述第三屏蔽线包括第一子层和第二子层，
[0033]所述第一子层与所述第一屏蔽线同层设置，所述第二子层与所述第二屏蔽线同层设置，所述第一子层和所述第二子层在所述基底上的正投影交叠，所述第一子层和所述第二子层通过开设在所述介电层中的第二过孔连接；
[0034]所述第三屏蔽线上接入的信号与所述触控走线上接入的信号相同。
[0035]本专利技术还提供一种触控面板的制备方法，包括：在基底上制备触控电极和触控走线；
[0036]所述触控电极制备于触控区，所述触控走线制备于周边区，所述触控走线连接所述触控电极；
[0037]其特征在于，还包括依次制备第一屏蔽线和第二屏蔽线，
[0038]所述第一屏蔽线和所述第二屏蔽线制备于所述周边区，且位于所述触控走线在所述基底上正投影的远离所述触控区的一侧，
[0039]所述第一屏蔽线和所述第二屏蔽线在所述基底上的正投影至少局部交叠。
[0040]本专利技术还提供一种显示面板，包括上述触控面板。
[0041]本专利技术的有益效果：本专利技术所提供的触控面板，通过使第一屏蔽线和第二屏蔽线
分别位于不同层，第一屏蔽线和第二屏蔽线在基底上的正投影至少局部交叠，相比于相关技术中第一屏蔽线和第二屏蔽线沿远离触控区的方向依次分布的方案，能够减小第一屏蔽线和第二屏蔽线在周边区的占用宽度，从而减小触控面板周边区的宽度，进而能减小触控面板的边框宽度，有利于实现触控面板的窄边框。
[0042]本专利技术所提供的显示面板，通过采用上述实施例中的触控面板，能减小显示面板的边框宽度，从而有利于实现显示面板的窄边框。
附图说明
[0043]图1a为相关技术中触控走线模式为1T1R的触控结构的结构俯视示意图；
[0044]图1b为相关技术中触控走线模式为2T1R的触控结构的结构俯视示意图；
[0045]图1c为相关技术中触控走线模式为2T2R的触控结构的结构俯视示意图；
[0046]图1d为相关技术中触控结构中第一屏蔽线和第二屏蔽线的结构剖视示意图；
[0047]图2a为本专利技术实施例中一种触控面板的结构俯视示意图；
[0048]图2b为图2a的触控面板中第一屏蔽线所在层的结构俯视示意图；...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种触控面板，具有触控区和周边区，所述周边区围设于所述触控区外围，所述触控面板包括基底、触控电极和触控走线，所述触控电极和所述触控走线位于所述基底的一侧，所述触控电极位于所述触控区，所述触控走线位于所述周边区，所述触控走线连接所述触控电极；其特征在于，所述触控面板还包括第一屏蔽线和第二屏蔽线，所述第一屏蔽线和所述第二屏蔽线位于所述周边区，且位于所述触控走线在所述基底上正投影的远离所述触控区的一侧，所述第一屏蔽线和所述第二屏蔽线分别位于不同层，所述第一屏蔽线和所述第二屏蔽线在所述基底上的正投影至少局部交叠。2.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，所述第一屏蔽线和所述第二屏蔽线的线宽相等，所述第一屏蔽线和所述第二屏蔽线在所述基底上的正投影交叠部分重合。3.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，所述第二屏蔽线分为多股线，所述多股线在所述基底上的正投影相互间隔，所述多股线在所述基底上的正投影与所述第一屏蔽线在所述基底上的正投影交叠。4.根据权利要求3所述的触控面板，其特征在于，所述多股线同层设置，所述多股线中任意相邻两股线之间的间隔距离大于或等于3μm。5.根据权利要求1
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4任意一项所述的触控面板，其特征在于，所述第一屏蔽线接地，所述第二屏蔽线上接入的信号与所述触控走线上接入的信号相同。6.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，所述触控电极包括多个第一电极条和多个第二电极条，所述多个第一电极条沿第一方向延伸并沿第二方向依次排布，所述多个第二电极条沿所述第二方向延伸并沿所述第一方向依次排布；所述第一电极条包括本体部和桥接部，所述本体部和所述桥接部连接；所述第一电极条和所述第二电极条空间交叉，所述桥接部位于空间交叉位置处；所述本体部和所述第二电极条同层设置，所述桥接部位于所述本体部和所述第二电极条的靠近所述基底的一侧或者背离所述基底的一侧，所述桥接部与所述本体部和所述第二电极条之间设置有介电层，所述桥接部通过开设在所述介电层中的第一过孔...
【专利技术属性】
技术研发人员：张顺，嵇凤丽，杨慧娟，程羽雕，
申请(专利权)人：成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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