一种划片机清洁防水雾装置制造方法及图纸

本发明专利技术的实施例提供了一种划片机清洁防水雾装置，涉及划片机清洁领域。该划片机清洁防水雾装置包括防水罩以及防水帘，防水罩用于罩设于切割区域的上方，防水帘设置于防水罩的侧面开口处，防水帘的上端和防水罩固定连接，防水帘的下端和防水罩可拆卸地连接。需要拆卸防水帘时，仅拆卸防水帘的上端就可以实现拆卸更换作业，拆卸更加快速方便，同时安装起来也更方便；此外，防水帘的下端和防水罩可拆卸地连接还能实现一定程度的活动，减少了切割运动过程中对防水帘连接处的受力冲击，延长了防水帘的使用寿命，能够实现更优的密封效果，提高防水雾效果。防水雾效果。防水雾效果。

【技术实现步骤摘要】
一种划片机清洁防水雾装置


[0001]本专利技术涉及划片机清洁领域，具体而言，涉及一种划片机清洁防水雾装置。

技术介绍

[0002]划片机广泛应用于半导体领域，划片机主要用于对晶圆进行切割加工。在对晶圆进行切割时，由于切割温度较高因此需要对晶圆的切割道进行降温处理，一般采用朝向切割道喷水实现降温处理。为了避免喷水产生的水雾对划片机的其他结构造成影响，一般会在划片机上设置防水雾装置进行防水雾处理。
[0003]现有技术中的防水雾装置存在安装和拆卸困难，且防水雾效果不佳的问题。

技术实现思路

[0004]本专利技术提供了一种划片机清洁防水雾装置，其能够实现快速安装以及快速拆卸，提高生产效率，同时提高了防水雾效果。
[0005]本专利技术的实施例可以这样实现：本专利技术的实施例提供了一种划片机清洁防水雾装置，其包括：防水罩，所述防水罩用于罩设于切割区域的上方；防水帘，所述防水帘设置于所述防水罩的侧面开口处，所述防水帘的上端和所述防水罩固定连接，所述防水帘的下端和所述防水罩可拆卸地连接。
[0006]可选地，所述防水帘包括连接板和多个帘体，多个所述帘体依次连接，所述连接板和位于端部的所述帘体连接，所述连接板的上端和所述防水罩固定连接，所述连接板的下端和所述防水罩可拆卸地连接。
[0007]可选地，所述划片机清洁防水雾装置还包括弹性密封件，所述弹性密封件设置于所述连接板远离所述帘体的一侧，且所述弹性密封件和所述连接板粘接，所述弹性密封件用于对所述防水罩的侧面以及所述连接板之间的间隙进行密封。
[0008]可选地，所述防水罩的侧面设有凸起压条，所述凸起压条和所述弹性密封件抵接。
[0009]可选地，所述凸起压条相对于所述防水罩的凸出高度从上至下依次递增。
[0010]可选地，所述划片机清洁防水雾装置还包括卡钩，所述卡钩设置于所述防水罩的侧面的底部，所述连接板的下端设置于所述卡钩。
[0011]可选地，所述连接板包括横板和两个竖板，两个所述竖板分别设置于所述横板的两端，所述横板的上端和所述防水罩固定连接，所述竖板的下端设置于所述卡钩。
[0012]可选地，所述横板的上端和所述防水罩通过螺钉连接。
[0013]可选地，所述防水帘还包括下遮板，所述下遮板设置于所有所述帘体的底部，且所述下遮板和所述帘体连接，所述下遮板用于承接从所述帘体滴落的水雾。
[0014]可选地，所述下遮板具有弹性变形力，以用于对外力进行缓冲。
[0015]本专利技术实施例的划片机清洁防水雾装置的有益效果包括，例如：该划片机清洁防水雾装置包括防水罩以及防水帘，防水罩用于罩设于切割区域的
上方，防水帘设置于防水罩的侧面开口处，防水帘的上端和防水罩固定连接，防水帘的下端和防水罩可拆卸地连接。该划片机清洁防水雾装置在使用时，防水罩设置在切割区域的上方，用于防止水雾外溢至划片机的其余区域从而造成影响，防水帘设置在防水罩的侧面开口处，防水帘的上端和防水罩固定连接，防水帘的下端和防水罩可拆卸地连接。需要拆卸防水帘时，仅拆卸防水帘的上端就可以实现拆卸更换作业，拆卸更加快速方便，同时安装起来也更方便；此外，防水帘的下端和防水罩可拆卸地连接还能实现一定程度的活动，减少了切割运动过程中对防水帘连接处的受力冲击，延长了防水帘的使用寿命，能够实现更优的密封效果，提高防水雾效果。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本专利技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它相关的附图。
[0017]图1为本实施例提供的划片机清洁防水雾装置的第一视角的结构示意图；图2为本实施例提供的划片机清洁防水雾装置的第二视角的结构示意图；图3为本实施例提供的防水帘的结构示意图；图4为本实施例提供的防水罩的结构示意图；图5为本实施例提供的划片机清洁防水雾装置的第三视角的结构示意图。
[0018]图标：10
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防水罩；20
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防水帘；21
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连接板；211
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横板；212
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竖板；22
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帘体；23
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下遮板；30
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弹性密封件；40
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凸起压条；50
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卡钩；100
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划片机清洁防水雾装置。
具体实施方式
[0019]为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本专利技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
[0020]因此，以下对在附图中提供的本专利技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本专利技术的范围，而是仅仅表示本专利技术的选定实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0021]应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
[0022]在本专利技术的描述中，需要说明的是，若出现术语“上”、“下”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该专利技术产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。
[0023]此外，若出现术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0024]需要说明的是，在不冲突的情况下，本专利技术的实施例中的特征可以相互结合。
[0025]划片机广泛应用于半导体领域，划片机主要用于对晶圆进行切割加工。在对晶圆进行切割时，由于切割温度较高因此需要对晶圆的切割道进行降温处理，一般采用朝向切割道喷水实现降温处理。为了避免喷水产生的水雾对划片机的其他结构造成影响，一般会在划片机上设置防水雾装置进行防水雾处理。
[0026]相关技术中的防水雾装置存在安装和拆卸困难，且防水雾效果不佳的问题。
[0027]请参考图1
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图5，本实施例提供了一种划片机清洁防水雾装置100，其可以有效改善上述提到的技术问题，能够实现快速安装以及快速拆卸，提高生产效率，同时提高了防水雾效果。
[0028]请参考图1
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图5，本实施例提供了一种划片机清洁防水雾装置100包括防水罩10以及防水帘20，防水罩10用于罩设于切割区域的上方，防水帘20设置于防水罩10的侧面开口处，防水帘20的上端和防水罩10固定连接，防水本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种划片机清洁防水雾装置，其特征在于，包括：防水罩（10），所述防水罩（10）用于罩设于切割区域的上方；防水帘（20），所述防水帘（20）设置于所述防水罩（10）的侧面开口处，所述防水帘（20）的上端和所述防水罩（10）固定连接，所述防水帘（20）的下端和所述防水罩（10）可拆卸地连接。2.根据权利要求1所述的划片机清洁防水雾装置，其特征在于，所述防水帘（20）包括连接板（21）和多个帘体（22），多个所述帘体（22）依次连接，所述连接板（21）和位于端部的所述帘体（22）连接，所述连接板（21）的上端和所述防水罩（10）固定连接，所述连接板（21）的下端和所述防水罩（10）可拆卸地连接。3.根据权利要求2所述的划片机清洁防水雾装置，其特征在于，所述划片机清洁防水雾装置（100）还包括弹性密封件（30），所述弹性密封件（30）设置于所述连接板（21）远离所述帘体（22）的一侧，且所述弹性密封件（30）和所述连接板（21）粘接，所述弹性密封件（30）用于对所述防水罩（10）的侧面以及所述连接板（21）之间的间隙进行密封。4.根据权利要求3所述的划片机清洁防水雾装置，其特征在于，所述防水罩（10）的侧面设有凸起压条（40），所述凸起压条（40）和所述弹性密封件（30）抵接。5.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：张明明，余胡平，李艳丽，徐双双，孙兴运，董海昌，
申请(专利权)人：沈阳和研科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：