一种高纯铜制备设备及方法技术

本发明专利技术属于铜制备技术领域，尤其公开了一种高纯铜制备设备及方法，该高纯铜制备设备包括电解槽，电解槽内部存放电解液；供电机构，供电机构位于电解槽顶部，用于对电解槽进行供电；补充机构，补充机构有两个，均位于电解槽前侧；电极，电极的数量为两个，分别插接在电解槽顶部，且通过补充机构与供电机构电性连接。通过补充机构的设置，利用浮球在电解液中的浮力，实现自动的断电，安全性高。安全性高。安全性高。

【技术实现步骤摘要】
一种高纯铜制备设备及方法


[0001]本专利技术属于铜制备
，尤其涉及一种高纯铜制备设备及方法。

技术介绍

[0002]现今电解制铜是将粗铜进行提炼的重要一种方式，进行电解时，将电能转变为化学能，整个电解反应在电解池中进行，来将粗铜中杂质如比铜活泼的铁和锌等会随铜一起溶解为离子，进行离子提取制备。市场上的电解制备7N高纯铜的设备技术主要依靠电流来将粗铜进行制备。
[0003]如申请号为2021208371912的中国技术专利，公开了一种电解制备7N高纯铜的设备，能够使数据触头与铜板进行接触，来进行供电处理，当铜板离开时，其数据触头回弹进行断电处理，来完成整个电解制备的供电作业；
[0004]但是其无法在电解完成后自动进行断电，在人工将铜板拿开时，容易发生触电的危险，影响使用时的安全。

技术实现思路

[0005]本专利技术针对现有技术中无法自动断电的问题，提出如下技术方案：
[0006]一种高纯铜制备设备，包括：
[0007]电解槽，电解槽内部存放电解液；
[0008]供电机构，供电机构位于电解槽顶部，用于对电解槽进行供电；
[0009]补充机构，补充机构有两个，均位于电解槽前侧；
[0010]电极，电极的数量为两个，分别插接在电解槽顶部，且通过补充机构与供电机构电性连接。
[0011]通过补充机构能够实现自动断电，安全性高。
[0012]作为上述技术方案的优选，补充机构包括补充箱，补充箱底部设置有连通管，连通管与电解槽连通，补充箱内部设置有浮球，浮球顶部设置有连接杆，连接杆中心处转动连接在补充箱顶部，连接杆另一端设置有导电杆，导电杆两端分别与供电机构和电极接触。
[0013]作为上述技术方案的优选，浮球与连接杆之间设置有延缓组件，延缓组件包括连接管和插接在连接管底端的插杆，插杆底端与浮球螺纹连接，连接杆水平时，连接杆到补充箱底部的距离大于延缓组件的竖直长度。
[0014]作为上述技术方案的优选，电解槽内壁对应连通管出水口的位置处设置有导流框，导流框两侧靠近底部的位置处均开设有条形口，导流框内部设置有移动块，移动块两侧均设置有与两个条形口对应的直角板，直角板底端靠近电解槽内侧底部。
[0015]通过导流框、移动块和直角板的设置，能够使直角板移动，对电解液起到扰动作用，保证电解液各个位置的浓度的均匀性。
[0016]作为上述技术方案的优选，条形口的高度逐渐向远离补充箱的方向变大，移动块为中空设置，且为塑料材料。
[0017]作为上述技术方案的优选，直角板底部与条形口接触的位置处设置有滚珠，滚珠嵌入到导流框内部。
[0018]通过滚珠的设置，降低直角板向后移动时的摩擦。
[0019]作为上述技术方案的优选，直角板底部开设有通孔，通孔内部设置有搅动叶片。
[0020]搅动叶片能够提高电解液的均匀性。
[0021]作为上述技术方案的优选，直角板表面开设有导流槽，导流槽的宽度逐渐向底部变小。
[0022]本专利技术还提供了一种使用上述高纯铜制备设备的方法，该方法包括以下步骤：
[0023]步骤一：首先在两个电极上分别安装粗铜板和细铜板，并向电解槽内注入电解液；
[0024]步骤二：随后向补充箱内存放需要补充的电解液，电解液对浮球由向上的浮力作用，完成电极和供电机构的电性连接；
[0025]步骤三：随后通过连通管使补充箱内的电解液逐渐补充到电解槽内，补充箱内的电解液通过连通管首先到达导流框内部，电解液在进入导流框内部后，会逐渐将导流框内的移动块推动，使移动块逐渐向后侧移动，进而通过移动块带动直角板移动；
[0026]步骤四：补充箱内的电解液逐渐流出后，此时浮球受到自身重力作用而下降，带动连接杆一端下降而连接有导电杆的另一端上升，使导电杆与电极和供电机构分离，完成断电。
[0027]本专利技术的有益效果为：
[0028](1)通过补充机构的设置，利用浮球在电解液中的浮力，实现自动的断电，安全性高；
[0029](2)通过电解液逐渐将导流框内的移动块推动，使移动块逐渐向后侧移动，进而通过移动块带动直角板移动，对电解槽内的电解液起到推动作用，从而使电解液的浓度更均匀。
附图说明
[0030]图1示出的是实施例1中高纯铜制备设备的整体结构示意图；
[0031]图2示出的是实施例1中图1的其中一个角度的示意图；
[0032]图3示出的是实施例1中高纯铜制备设备的电解槽的内部结构示意图；
[0033]图4示出的是实施例1中导流框、连接杆和导电杆的位置示意图；
[0034]图5示出的是本专利技术的方法流程图。
[0035]图中：1、电解槽；2、供电机构；3、补充机构；31、补充箱；32、连通管；33、浮球；34、连接杆；35、导电杆；4、电极；5、延缓组件；51、连接管；52、插杆；6、导流框；7、条形口；8、移动块；9、直角板；10、搅动叶片；11、导流槽。
具体实施方式
[0036]为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合实施例对本专利技术技术方案进行清楚、完整地描述。
[0037]实施例1
[0038]图1示出的是作为本专利技术一个具体实施例高纯铜制备设备的结构示意图。一种高
纯铜制备设备，包括：电解槽1，电解槽1内部存放电解液；
[0039]供电机构2，供电机构2位于电解槽1顶部，用于对电解槽1进行供电；
[0040]补充机构3，补充机构3有两个，均位于电解槽1前侧；
[0041]电极4，电极4的数量为两个，分别插接在电解槽1顶部，且通过补充机构3与供电机构2电性连接。
[0042]在两个电极4上分别安装粗铜板和细铜板，供电机构2对两个电极4进行供电，随后先向电解槽1内注入电解液，进而通过电解原理将粗铜板电解，电解后的铜离子逐渐析出在细铜板上，完成高纯铜的制备，而在制备过程中，补充机构3能够实时向电解槽1内补充电解液，补充的电解液不仅能够使电解槽1内的电解液起到震荡作用，防止内部离子溶度不均匀，并且补充机构3内的电解液完全进入到电解槽1内时，可自动实现电源的断开，实现自动的断电，无需人员手动断电。
[0043]图1
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3示出的是作为本专利技术一个具体实施例补充机构的结构示意图。图1中，补充机构3包括补充箱31，补充箱31底部设置有连通管32，连通管32与电解槽1连通，补充箱31内部设置有浮球33，浮球33顶部设置有连接杆34，连接杆34中心处转动连接在补充箱31顶部，连接杆34另一端设置有导电杆35，导电杆35两端分别与供电机构2和电极4接触。
[0044]补充箱31内存放需要补充的电解液，电解液对浮球33由向上的浮力作用，使导电杆35将电极4和供电机构2电性连接在一起，通过连通管32使补充箱31内的电解液逐渐补充到电解槽1内，补充箱31内的电解液逐渐流出后，此时浮球33受到自身重力作用而下降本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高纯铜制备设备，其特征在于，包括：电解槽(1)，电解槽(1)内部存放电解液；供电机构(2)，供电机构(2)位于电解槽(1)顶部，用于对电解槽(1)进行供电；补充机构(3)，补充机构(3)有两个，均位于电解槽(1)前侧；电极(4)，电极(4)的数量为两个，分别插接在电解槽(1)顶部，且通过补充机构(3)与供电机构(2)电性连接。2.根据权利要求1所述的高纯铜制备设备，其特征在于，补充机构(3)包括补充箱(31)，补充箱(31)底部设置有连通管(32)，连通管(32)与电解槽(1)连通，补充箱(31)内部设置有浮球(33)，浮球(33)顶部设置有连接杆(34)，连接杆(34)中心处转动连接在补充箱(31)顶部，连接杆(34)另一端设置有导电杆(35)，导电杆(35)两端分别与供电机构(2)和电极(4)接触。3.根据权利要求2所述的高纯铜制备设备，其特征在于，浮球(33)与连接杆(34)之间设置有延缓组件(5)，延缓组件(5)包括连接管(51)和插接在连接管(51)底端的插杆(52)，插杆(52)底端与浮球(33)螺纹连接，连接杆(34)水平时，连接杆(34)到补充箱(31)底部的距离大于延缓组件(5)的竖直长度。4.根据权利要求2所述的高纯铜制备设备，其特征在于，电解槽(1)内壁对应连通管(32)出水口的位置处设置有导流框(6)，导流框(6)两侧靠近底部的位置处均开设有条形口(7)，导流框(6)内部设置有移动块(8)，移动块(8)两侧均设置有与两个条形口(7)对应的直角板(9)，直角板(9)底端靠近电解槽(1)内侧底部。5....

【专利技术属性】
技术研发人员：魏传兵，
申请(专利权)人：山东海特金属材料有限公司，
类型：发明
国别省市：