叠置误差的测量标记制造技术

本公开提供一种叠置误差的测量标记。测量标记包括一第一图案和一第二图案。第一图案设置在一基底上，并位于一第一水平高度上。第一图案包括多个第一次图案和多个第二次图案。第一次图案沿一第一方向延伸并沿不同于第一方向的一第二方向排列。第二次图案沿第二方向排列，其中多个第一次图案中的每一个的轮廓与多个第二次图案中的每一个的轮廓不同。第二图案设置在与第一水平高度不同的一第二水高度上。设置在与第一水平高度不同的一第二水高度上。设置在与第一水平高度不同的一第二水高度上。

【技术实现步骤摘要】
叠置误差的测量标记
[0001]交叉引用
[0002]本申请案主张美国第17/568,033及17/568,151号专利申请案的优先权(即优先权日为“2022年1月4日”)，其内容以全文引用的方式并入本文中。


[0003]本公开涉及一种叠置测量标记。

技术介绍

[0004]随着半导体产业的发展，在光刻操作中减少光刻胶图案和底层图案的叠置误差(overlay error)变得更加重要。由于各种因素，例如测量结构的不对称形状，使得正确测量叠置误差变得更加困难，因此需要一种新的叠置测量标记和测量方法以更精确地测量叠置误差。
[0005]上文“的“现有技术”说明仅提供
技术介绍
，并未承认上文“的“现有技术”说明揭示本公开的标的，不构成本公开的现有技术，且上文“的“现有技术”的任何说明均不应作为本公开的任一部分。

技术实现思路

[0006]本公开的一个方面提供一种叠置校正的标记。该标记包括一第一图案和一第二图案。该第一图案设置在一基底上，并位于一第一水高度。该第一图案包括多个第一次图案和多个第二次图案。该第一次图案沿本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种叠置误差的测量标记，包括：一第一图案，以一第一水平高度设置在一基底上，其中该第一图案包括：多个第一次图案，沿一第一方向延伸并沿不同于该第一方向的一第二方向排列；以及多个第二次图案，沿该第二方向排列，其中该多个第一次图案中的每一个的轮廓与该多个第二次图案中的每一个的轮廓不同；以及一第二图案，设置在与该第一水平高度不同的一第二水平高度上。2.如权利要求1所述的测量标记，其中该多个第二次图案的间距与该多个第一次图案的间距不同。3.如权利要求1所述的测量标记，其中在一平视图中，该多个第二次图案中的每一个沿不同于该第一方向和该第二方向的一第三方向延伸。4.如权利要求3所述的测量标记，其中该第三方向相对于该第一方向倾斜。5.如权利要求4所述的测量标记，其中该多个第二次图案中的每一个具有一第一边缘和相对倾斜于该第一边缘的一第二...

【专利技术属性】
技术研发人员：马士元，
申请(专利权)人：南亚科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：