放射线敏感性树脂组合物制造技术

本发明专利技术的目的在于提供一种即使在低温进行热处理的情况下也能够形成耐化学品性和绝缘可靠性优异的树脂膜的放射线敏感性树脂组合物。本发明专利技术的放射线敏感性树脂组合物的特征在于包含碱可溶性树脂(A)、产生酸的pKa为

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】放射线敏感性树脂组合物


[0001]本专利技术涉及放射线敏感性树脂组合物，特别是涉及能够优选用于形成电子部件所使用的平坦化膜、保护膜和绝缘膜等的放射线敏感性树脂组合物。

技术介绍

[0002]在液晶显示装置、有机EL显示装置、集成电路元件、固体摄像元件、触摸面板等电子部件中，设置有各种树脂膜作为平坦化膜、保护膜、绝缘膜等。
[0003]具体而言，例如在有机EL显示装置、液晶显示装置等中，使用形成有图案的层间绝缘膜(钝化膜)来形成再布线层。而且，形成有图案的层间绝缘膜例如通过如下方式形成：对涂敷在基板上的放射线敏感性树脂组合物进行预烘焙，对得到的涂膜进行曝光和显影形成图案后，对形成有图案的涂膜进行曝光和后烘焙使其固化，由此形成(例如，参考专利文献1)。
[0004]此外，作为用于形成形成有图案的层间绝缘膜等树脂膜所使用的树脂组合物，提出了例如含有碱可溶性树脂、醌二叠氮化合物、以及具有比醌二叠氮化合物的极大吸收波长短的极大吸收波长的光产酸剂的正型放射线敏感性树脂组合物等(例如，参考专利文献2)。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1：国际公开第2014/030441号；
[0008]专利文献2：日本特开2016
‑
042127号公报。

技术实现思路

[0009]专利技术要解决的问题
[0010]在此，近年来，从也可以使用耐热性低的基板作为形成树脂膜的基板的观点出发，要求即使在低温进行后烘焙等热处理也可以良好地形成树脂膜(固化膜)的放射线敏感性树脂组合物。
[0011]但是，对于上述现有的放射线敏感性树脂组合物，当在低温(例如150℃以下，优选130℃以下)进行热处理时，有时得到的树脂膜的耐化学品性和绝缘可靠性降低。
[0012]因此，本专利技术的目的在于提供一种即使在低温进行热处理的情况下也能够形成耐化学品性和绝缘可靠性优异的树脂膜的放射线敏感性树脂组合物。
[0013]用于解决问题的方案
[0014]本专利技术人以解决上述问题为目的进行了深入研究。然后，本专利技术人新发现：如果使用下述放射线敏感性树脂组合物，该放射线敏感性树脂组合物包含碱可溶性树脂、照射放射线时分解产生pKa为规定值以下的酸的产酸剂以及交联剂，且该产酸剂的分解率为规定值以上，则即使在低温进行热处理时也能够形成耐化学品性和绝缘可靠性优异的树脂膜，从而完成了本专利技术。
[0015]即，本专利技术的目的在于有利地解决上述问题，本专利技术的放射线敏感性树脂组合物的特征在于包含碱可溶性树脂(A)、产生酸的pKa为
‑
3以下的产酸剂(B)以及交联剂(C)，上述产酸剂(B)的分解率为40％以上。像这样，如果使用包含碱可溶性树脂、产生酸的pKa为规定值以下且分解率为规定值以上的产酸剂、交联剂的放射线敏感性树脂组合物，则即使在低温进行热处理的情况下也能够形成耐化学品性和绝缘可靠性优异的树脂膜。
[0016]另外，在本专利技术中，产生酸的pKa是指通过OECD测试指南112“Dissociation Constants in Water”(在水中的离解常数)中记载的方法得到的测定值。
[0017]此外，在本专利技术中，产酸剂(B)的分解率能够通过本说明书的实施例中记载的方法进行测定。
[0018]另外，在产酸剂(B)为包含两种以上产生酸的pKa为
‑
3以下的产酸剂的混合物的情况下，本专利技术中的“产酸剂(B)的分解率”能够如下所述地求出。即，在产酸剂(B)为包含产生酸的pKa为
‑
3以下的产酸剂(B1)～(B
n
)的混合物(n为2以上的整数)的情况下，产酸剂(B)的分解率能够如下求出：将按照本说明书的实施例中记载的方法测定的各产酸剂(B1)～(B
n
)的分解率设为R1～R
n
，将放射线敏感性树脂组合物中的各产酸剂(B1)～(B
n
)的含量设为S1～S
n
，将放射线敏感性树脂组合物中的产酸剂(B1)～(B
n
)的合计含量(即，产酸剂(B)的含量)设为T，通过下述式求出。
[0019]产酸剂(B)的分解率＝∑(R
i
·
S
i
)/T〔i为1以上且n以下的整数〕
[0020]在此，本专利技术的放射线敏感性树脂组合物优选上述交联剂(C)包含环氧化合物和氧杂环丁烷化合物中的至少一种。如果交联剂(C)包含环氧化合物和氧杂环丁烷化合物中的至少一种，则使用放射线敏感性树脂组合物在低温进行热处理而形成的树脂膜能够发挥更优异的耐化学品性和绝缘可靠性。
[0021]此外，本专利技术的放射线敏感性树脂组合物优选上述产酸剂(B)的含量相对于100质量份的上述交联剂(C)为0.004质量份以上且1.2质量份以下。如果产酸剂(B)的含量在上述规定的范围内，则使用放射线敏感性树脂组合物在低温进行热处理而形成的树脂膜能够发挥更优异的耐化学品性和绝缘可靠性，并且拉伸强度和低吸水性也优异。
[0022]此外，本专利技术的放射线敏感性树脂组合物优选上述碱可溶性树脂(A)包含具有羧基的树脂。如果使用具有羧基的树脂作为碱可溶性树脂(A)，则使用放射线敏感性树脂组合物在低温进行热处理而形成的树脂膜能够发挥更优异的耐化学品性和绝缘可靠性。
[0023]进而，本专利技术的放射线敏感性树脂组合物优选上述碱可溶性树脂(A)包含选自丙烯酸树脂、酰胺酰亚胺树脂和环状烯烃系树脂中的至少一种，更优选包含环状烯烃系树脂。
[0024]此外，本专利技术的放射线敏感性树脂组合物优选进一步包含醌二叠氮化合物(D)。如果放射线敏感性树脂组合物进一步包含醌二叠氮化合物(D)，则使用放射线敏感性树脂组合物在低温进行热处理而形成的树脂膜能够发挥更优异的绝缘可靠性并且拉伸强度优异。
[0025]专利技术效果
[0026]根据本专利技术，能够提供一种即使在低温进行热处理的情况下也能够形成耐化学品性和绝缘可靠性优异的树脂膜的放射线敏感性树脂组合物。
具体实施方式
[0027]以下，对本专利技术的实施方式进行详细说明。
[0028](放射线敏感性树脂组合物)
[0029]在此，本专利技术的放射线敏感性树脂组合物没有特别限定，能够在形成例如液晶显示装置、有机EL显示装置、集成电路元件、固体摄像元件、触摸面板等电子部件具有的树脂膜(例如，平坦化膜、保护和绝缘膜等)时使用。其中，本专利技术的放射线敏感性树脂组合物能够优选在形成绝缘膜时使用，能够特别优选在形成构成触摸面板的绝缘膜时使用。
[0030]而且，本专利技术的放射线敏感性树脂组合物包含碱可溶性树脂(A)、产生酸的pKa为规定值以下的产酸剂(B)以及交联剂(C)，能够任意地进一步包含选自醌二叠氮化合物、添加剂和溶剂中的至少一种。而且，本专利技术的放射线敏感性树脂组合物所包含的产酸剂(B)的分解率为规定值以上。
[0031]本专利技术的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种放射线敏感性树脂组合物，包含碱可溶性树脂(A)、产生酸的pKa为
‑
3以下的产酸剂(B)以及交联剂(C)，所述产酸剂(B)的分解率为40％以上。2.根据权利要求1所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，所述交联剂(C)包含环氧化合物和氧杂环丁烷化合物中的至少一种。3.根据权利要求1或2所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，所述产酸剂(B)的含量相对于100质量份的所述交联剂(C)为0.004质量份以上且1.2质量份以下。4.根据权利要求1～3中任...

【专利技术属性】
技术研发人员：江头绫子，
申请(专利权)人：日本瑞翁株式会社，
类型：发明
国别省市：