基板检查装置和基板检查方法制造方法及图纸

提供基板检查装置和基板检查方法，基板检查装置具备：图像传感器，拍摄第一基板获得对于第一基板的第一图像数据，拍摄第二基板获得对于第二基板的第二图像数据；和处理器，利用第一图像数据和第二图像数据获得合成图像数据，处理器基于第一图像数据获得对于第一基板上的第1

【技术实现步骤摘要】
基板检查装置和基板检查方法


[0001]本专利技术的实施例涉及基板检查装置和基板检查方法，更详细而言，涉及可以提高对于多个基板而言在相同的位置处生成的污渍的检测程度的基板检查装置和基板检查方法。

技术介绍

[0002]在显示装置的制造过程中会在基板上生成污渍，这种污渍中的一部分对于多个基板而言会生成在相同的位置处。对于多个基板而言，生成在相同的位置处的污渍可能是制造设备或工序条件等引起的。另一方面，对于这种污渍的检查通过自动化设备来实现。与此同时，对于制造中的基板上的污渍的检查还通过肉眼实现。因为在制造显示装置之后，自动化设备检测出的制造中的基板上的污渍之中只有一部分会被显示装置的使用者识别出，因此这是为了防止对于污渍判断的基准变得过于严格。
[0003]但是，在这种传统的基板检查装置中存在制造显示装置之后在制造过程中未被肉眼识别出的污渍之中的一部分被使用者识别到的问题。

技术实现思路

[0004]本专利技术用于解决包括如上所述的问题在内的各种问题，目的在于提供一种可以提高在制造显示装置之后被使用者识别出的污渍之中对于多个基板而言在相同的位置处生成的污渍的检测程度的基板检查装置。但是，这种技术课题是例示，本专利技术的范围并不限于此。
[0005]根据本专利技术的一观点，提供一种基板检查装置，具备：图像传感器，拍摄第一基板来获得对于所述第一基板的第一图像数据，拍摄第二基板来获得对于所述第二基板的第二图像数据；以及处理器，利用所述第一图像数据和所述第二图像数据来获得合成图像数据，所述处理器基于所述第一图像数据来获得对于所述第一基板上的第1
‑
1污渍区域的第1
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1信息以及对于所述第一基板上的第一非污渍区域的第一信息，基于所述第二图像数据来获得对于与所述第一基板上的第1
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1污渍区域的位置对应的所述第二基板上的位置处的第2
‑
1污渍区域的第2
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1信息以及对于与所述第一基板上的所述第一非污渍区域的位置对应的所述第二基板上的位置处的第二非污渍区域的第二信息，利用所述第1
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1信息、所述第2
‑
1信息、所述第一信息和所述第二信息来获得所述合成图像数据。
[0006]可以是，所述第1
‑
1信息包括所述第1
‑
1污渍区域的位置、所述第1
‑
1污渍区域的大小、所述第1
‑
1污渍区域的形状以及所述第1
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1污渍区域的明亮度，所述第2
‑
1信息包括所述第2
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1污渍区域的位置、所述第2
‑
1污渍区域的大小、所述第2
‑
1污渍区域的形状以及所述第2
‑
1污渍区域的明亮度，所述第一信息包括所述第一非污渍区域的位置和所述第一非污渍区域的明亮度，所述第二信息包括所述第二非污渍区域的位置和所述第二非污渍区域的明亮度。
[0007]可以是，所述处理器运算出作为所述第1
‑
1污渍区域的明亮度和所述第2
‑
1污渍区
域的明亮度的平均的第一平均值以及作为所述第一非污渍区域的明亮度与所述第二非污渍区域的明亮度的平均的第二平均值，获得包括对于与所述第1
‑
1污渍区域对应且具有与所述第一平均值相同的明亮度的第一合成污渍区域的信息以及对于与所述第一非污渍区域对应且具有与所述第二平均值相同的明亮度的合成非污渍区域的信息的所述合成图像数据。
[0008]可以是，所述处理器运算出对所述第1
‑
1污渍区域的明亮度与所述第2
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1污渍区域的明亮度之和进行了归一化的第一归一化值以及对所述第一非污渍区域的明亮度与所述第二非污渍区域的明亮度之和进行了归一化的第二归一化值，获得包括对于与所述第1
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1污渍区域对应且具有与所述第一归一化值相同的明亮度的第一合成污渍区域的信息以及对于与所述第一非污渍区域对应且具有与所述第二归一化值相同的明亮度的合成非污渍区域的信息的所述合成图像数据。
[0009]可以是，所述处理器分别从所述第1
‑
1污渍区域的明亮度与所述第2
‑
1污渍区域的明亮度之和以及所述第一非污渍区域的明亮度与所述第二非污渍区域的明亮度之和减去相同的值来运算出所述第一归一化值和所述第二归一化值，使得所述第一归一化值与所述第二归一化值的平均值与所述第一基板的明亮度与所述第二基板的明亮度的平均值相同。
[0010]可以是，所述处理器运算出作为在所述第1
‑
1污渍区域的明亮度上相乘第一权重值而得到的值与在所述第2
‑
1污渍区域的明亮度上相乘与所述第一权重值不同的第二权重值而得到的值之和的第一补正值以及作为在所述第一非污渍区域的明亮度上相乘所述第一权重值而得到的值与在所述第二非污渍区域的明亮度上相乘所述第二权重值而得到的值之和的第二补正值，获得包括对于与所述第1
‑
1污渍区域对应且具有与所述第一补正值相同的明亮度的第一合成污渍区域的信息以及对于与所述第一非污渍区域对应且具有与所述第二补正值相同的明亮度的合成非污渍区域的信息的所述合成图像数据。
[0011]可以是，在从所述第1
‑
1污渍区域的明亮度减去所述第一非污渍区域的明亮度而得到的值小于从所述第2
‑
1污渍区域的明亮度减去所述第二非污渍区域的明亮度而得到的值的情况下，所述第一权重值小于所述第二权重值。
[0012]可以是，所述处理器基于所述第一图像数据来获得对于所述第一基板上的第1
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2污渍区域的第1
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2信息，基于所述第二图像数据来获得对于所述第二基板上的第2
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2污渍区域的第2
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2信息，所述第1
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2信息包括所述第1
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2污渍区域的位置、所述第1
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2污渍区域的大小、所述第1
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2污渍区域的形状以及所述第1
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2污渍区域的明亮度，所述第2
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2信息包括所述第2
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2污渍区域的位置、所述第2
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2污渍区域的大小、所述第2
‑
2污渍区域的形状以及所述第2
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2污渍区域的明亮度。
[0013]可以是，所述处理器在所述第1
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1污渍区域的位置与所述第1
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2污渍区域的位置重叠、所述第2
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1污渍区域的位置与所述第2
‑
2污渍区域的位置重叠、所述第1
‑
1污渍区域的形状与所述第2
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1污渍区域的形状相同并且所述第1
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2污渍区域的形状与所述第2
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2污渍区域的形状本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板检查装置，具备：图像传感器，拍摄第一基板来获得对于所述第一基板的第一图像数据，拍摄第二基板来获得对于所述第二基板的第二图像数据；以及处理器，利用所述第一图像数据和所述第二图像数据来获得合成图像数据，所述处理器基于所述第一图像数据来获得对于所述第一基板上的第1
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1污渍区域的第1
‑
1信息以及对于所述第一基板上的第一非污渍区域的第一信息，基于所述第二图像数据来获得对于与所述第一基板上的第1
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1污渍区域的位置对应的所述第二基板上的位置处的第2
‑
1污渍区域的第2
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1信息以及对于与所述第一基板上的所述第一非污渍区域的位置对应的所述第二基板上的位置处的第二非污渍区域的第二信息，利用所述第1
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1信息、所述第2
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1信息、所述第一信息和所述第二信息来获得所述合成图像数据。2.根据权利要求1所述的基板检查装置，其中，所述第1
‑
1信息包括所述第1
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1污渍区域的位置、所述第1
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1污渍区域的大小、所述第1
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1污渍区域的形状以及所述第1
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1污渍区域的明亮度，所述第2
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1信息包括所述第2
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1污渍区域的位置、所述第2
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1污渍区域的大小、所述第2
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1污渍区域的形状以及所述第2
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1污渍区域的明亮度，所述第一信息包括所述第一非污渍区域的位置和所述第一非污渍区域的明亮度，所述第二信息包括所述第二非污渍区域的位置和所述第二非污渍区域的明亮度。3.根据权利要求2所述的基板检查装置，其中，所述处理器运算出作为所述第1
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1污渍区域的明亮度和所述第2
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1污渍区域的明亮度的平均的第一平均值以及作为所述第一非污渍区域的明亮度与所述第二非污渍区域的明亮度的平均的第二平均值，获得包括对于与所述第1
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1污渍区域对应且具有与所述第一平均值相同的明亮度的第一合成污渍区域的信息以及对于与所述第一非污渍区域对应且具有与所述第二平均值相同的明亮度的合成非污渍区域的信息的所述合成图像数据。4.根据权利要求2所述的基板检查装置，其中，所述处理器运算出对所述第1
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1污渍区域的明亮度与所述第2
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1污渍区域的明亮度之和进行了归一化的第一归一化值以及对所述第一非污渍区域的明亮度与所述第二非污渍区域的明亮度之和进行了归一化的第二归一化值，获得包括对于与所述第1
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1污渍区域对应且具有与所述第一归一化值相同的明亮度的第一合成污渍区域的信息以及对于与所述第一非污渍区域对应且具有与所述第二归一化值相同的明亮度的合成非污渍区域的信息的所述合成图像数据。5.根据权利要求4所述的基板检查装置，其中，所述处理器分别从所述第1
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1污渍区域的明亮度与所述第2
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1污渍区域的明亮度之和以及所述第一非污渍区域的明亮度与所述第二非污渍区域的明亮度之和减去相同的值来运算出所述第一归一化值和所述第二归一化值，使得所述第一归一化值与所述第二归一化
值的平均值与所述第一基板的明亮度与所述第二基板的明亮度的平均值相同。6.根据权利要求2所述的基板检查装置，其中，所述处理器运算出作为在所述第1
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1污渍区域的明亮度上相乘第一权重值而得到的值与在所述第2
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1污渍区域的明亮度上相乘与所述第一权重值不同的第二权重值而得到的值之和的第一补正值以及作为在所...

【专利技术属性】
技术研发人员：金明铁，辛彦弼，李东勋，金泰准，徐智勋，龙文卿，郑址龙，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：