【技术实现步骤摘要】
激光整形装置
[0001]本专利技术涉及激光整形
,特别涉及一种激光整形装置。
技术介绍
[0002]激光在材料加工、光刻照明、半导体退火、光镊等诸多领域具有重要的应用,不同领域对激光的空间分布提出了不同要求,因此需要对激光进行整形以满足不同领域的应用需求。可以选择微透镜阵列对激光进行整形;但是现有的微透镜阵列采用周期性分布,当激光入射微透镜阵列,微透镜阵列的子透镜将激光分为多束,这样每一个微透镜相当于一个光源,由于子透镜周期性分布,又由于激光通常具有很强的空间相干性,因此每一个微透镜的出射光都会在整形系统最终的焦面上相干叠加从而形成干涉点阵,最终形成均匀性较差的光斑。但是大部分领域中,均希望激光的空间分布均匀,这样更有利于对器件进行精确加工。传统的激光整形装置难以满足人们对激光空间分布均匀性的要求,因此需要一种能产生空间分布更均匀的激光光斑的激光整形装置。
技术实现思路
[0003]本专利技术的主要目的是提供一种激光整形装置,旨在产生空间分布更均匀的激光光斑。
[0004]为实现上述目的,本专 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种激光整形装置,其特征在于,包括:第一透镜阵列,包括多个第一子透镜;多个所述第一子透镜的出光面的面型均为在一母透镜的表面随机选取的面型;所述母透镜的尺寸大于所述第一子透镜尺寸的一倍,且小于或等于所述第一子透镜的尺寸的三倍;第二透镜阵列,包括多个第二子透镜;所述第二透镜阵列设置在所述第一透镜阵列的出光侧;所述第二子透镜与所述第一子透镜一一对应设置;傅里叶透镜,所述傅里叶透镜设置在所述第二透镜阵列的出光侧。2.如权利要求1所述的激光整形装置,其特征在于,所述第一透镜阵列与所述第二透镜阵列的距离等于所述第二子透镜的焦距。3.如权利要求2所述的激光整形装置,其特征在于,所述第一子透镜的焦距大于所述第二子透镜的焦距。4.如权利要求1所述的激光整形装置,其特征在于,所述傅里叶透镜配置为平凸透镜或双凸透镜。5.如权利要求1所述的激光整形装置,其特征在于,所述第一透镜阵列有多个,不同的所述第一透镜阵列的所述第一子透镜具有不同的形状和/或焦距和/或大小;使用时,在多个所述第一透镜阵列中择一安装;和/或所述第二透镜阵列有多个,不同的所述第二透镜阵列的所述第二子...
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