一种足弓测量方法及装置制造方法及图纸

技术编号:3810355 阅读:941 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种足弓测量方法,包括一个获取足印的步骤、一个测量足印的步骤和一个评价足印的步骤,在获取足印的步骤中,先将染料涂覆在一个平面上,然后将该平面转移到测试对象的足底,并利用该平面来承载测试对象的足底压力并向足底转移染料,然后从足底移开该平面并将一个透明平板转移到足底,再利用透明平板的上表面来承载测试对象的足底压力并沾取足底的染料,在测量足印的步骤中,将一个评价图尺放置到透明平板的下表面进行测量。一种足弓测量装置,由一个薄层海棉和一个透明玻璃平板构成。本发明专利技术在透明平板上获得的足底印记与足底接触染料的情态相同,是测试对象的足底的真实承载重力面,再利用评价图尺进行测量,操作简便,准确性强,易于推广。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种足弓测量方法,包括一个获取足印的步骤、一个测量足印的步骤和一个评价足印的步骤,其特征在于:在所述的获取足印的步骤中,先将染料涂覆在一个平面上,然后将该平面转移到测试对象的足底,并利用该平面来承载测试对象的足底压力并向足底转移染料,然后从足底移开该平面并将一个透明平板转移到足底,再利用所述的透明平板的上表面来承载测试对象的足底压力并沾取足底的染料,从而在透明平板上取得足底印记,在所述的测量足印的步骤中,将一个评价图尺放置到透明平板的下表面,所述的评价图尺中设置有纵向标尺、横向标尺和两根以上数目的平行的纵轴线,将一根所述的纵轴线的前端对准所述的足底印记中的足第一跖骨头外侧缘,并将该纵轴线的后端对准足底印记中的足跟内侧缘,同时将另一根纵轴线对准足底印记中的足内侧缘,然后读取足第一跖骨头外侧缘与足第五跖骨侧头外侧缘的宽度,并记录为足底最宽印记宽度,同时读取足底印记最窄处的宽度,并记录为足底最窄印记宽度,在所述的评价足印的步骤中,根据足底最窄印记宽度与足底最宽印记宽度的比值获得足弓指数。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:余竹生
申请(专利权)人:上海体育学院
类型:发明
国别省市:31[中国|上海]

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