光纤抛光研磨液、制备方法及光纤抛光研磨工艺技术

本发明专利技术涉及一种光纤抛光研磨液、制备方法及光纤抛光研磨工艺，属于光纤加工技术领域。光纤抛光研磨液包括纳米氧化铈粉、纯化水、亲水性分散剂、水溶性悬浮剂、二元醇单体保湿剂；其中，纳米氧化铈粉、纯化水、二元醇单体保湿剂重量比为(2

【技术实现步骤摘要】
光纤抛光研磨液、制备方法及光纤抛光研磨工艺


[0001]本专利技术属于光纤加工
，具体地，涉及一种光纤抛光研磨液、制备方法及光纤抛光研磨工艺。

技术介绍

[0002]光纤通信是以光纤为传输媒质，以光信号为信息载体的通信方式。现代通信网的三大支柱是光纤通信、卫星通信和无线电通信，而其中光纤通信是主体。光纤在信息高速公路的基础设施建设中具有不可替代的作用。
[0003]光纤通信主要通过光纤线路进行通信，其中光纤线路由光纤、光纤接头和光纤连接器组成，光纤线路的功能是把来自光发射机的光信号，以尽可能小的畸变和衰减传输到光接收机。光纤连接器，俗称活接头，主要用于实现系统中设备间、设备与仪表间、设备与光纤间以及光纤与光纤间的非永久性固定连接，是光纤通信系统中各种装置连接所必不可少的器件，也是目前使用量最大的光纤器件。光纤连接器包括FC、SC、ST、LC、D4、DIN、MU、MT等连接器
[0004]目前MT活动光纤连接器的插入损耗已经能够达到小于0.2dB，多模回波损耗也可达到40dB(PC面)和65dB(APC面)以上。然而，由于光纤属于硬脆性材料，该类材料的弹性极限与强度极限的理论值很接近，机械加工过程中当其承受载荷略高于弹性极限时就会发生断裂破坏，导致加工表面产生裂纹、破碎和凹坑，影响材料表面质量和光学性能。因此，MT连接器的加工质量难以控制，严重影响产品性能和生产成本。而MT连接器在高端应用领域要求其具有纳米级超光滑加工表面且材料性能保持良好，在此情况下，对MT连接器加工工艺中核心抛光研磨液配方具有较高要求，而现有的抛光研磨液研磨加工后光纤纤芯容易凹陷，连接器物理对接时有间隙，增大产品的回波损耗。
[0005]因此，有必要提供一种光纤抛光研磨液、制备方法及光纤抛光研磨工艺，以克服上述问题。

技术实现思路

[0006]本专利技术的目的在于提供一种光纤抛光研磨液、制备方法及光纤抛光研磨工艺，以提高光纤端面抛光研磨质量以及光纤连接器的光学性能。
[0007]为了实现上述目的，本专利技术的第一方面提供一种光纤抛光研磨液，包括纳米氧化铈粉、纯化水、亲水性分散剂、水溶性悬浮剂、二元醇单体保湿剂；
[0008]其中，所述纳米氧化铈粉、所述纯化水、所述二元醇单体保湿剂重量比为(2
‑
4)：(4
‑
8)：(1
‑
3)，所述分散剂为所述纯化水重量的3％
‑
15％，所述悬浮剂为所述纯化水重量的5％
‑
10％；
[0009]所述纳米氧化铈粉的粒度范围为0.2um≤α≤0.7um。
[0010]在一些实施例中，所述纳米氧化铈粉的粒度范围为0.3um≤α≤0.5um。
[0011]在一些实施例中，所述分散剂包括含亲水基团的改性聚醚磷酸酯类化合物。
[0012]在一些实施例中，所述分散剂为广州市润宏化工有限公司型号为8605分散剂。
[0013]在一些实施例中，所述悬浮剂包括水溶性液体聚合物、乳化剂、水溶性纤维素。
[0014]在一些实施例中，其特征在于：所述二元醇单体保湿剂包括乙二醇。
[0015]本专利技术的第二方面提供一种光纤抛光研磨液制备方法，包括以下步骤：
[0016]步骤一、重量比称取如下：纳米氧化铈粉20
‑
40重量份、纯化水40
‑
80重量份、二元醇单体保湿剂10
‑
30重量份，分散剂为所述纯化水重量的3％
‑
15％、悬浮剂为所述纯化水重量的5％
‑
10％，待用；
[0017]步骤二、将所述纯化水加入搅拌桶内低速搅拌；
[0018]步骤三、于所述纯化水内加入所述分散剂低速搅拌3
‑
8分钟；
[0019]步骤四、于所述纯化水内加入所述纳米氧化铈粉中速搅拌8
‑
12分钟；
[0020]步骤五、于所述纯化水内加入所述悬浮剂中速搅拌12
‑
18分钟；
[0021]步骤六、于所述纯化水内加入所述二元醇单体保湿剂中速搅拌8
‑
12分钟；
[0022]步骤七、配比完成封装入库。
[0023]在一些实施例中，所述步骤三中，所述分散剂低速搅拌5分钟；
[0024]所述步骤四中，所述纳米氧化铈粉中速搅拌10分钟；
[0025]所述步骤五中，所述悬浮剂中速搅拌15分钟；
[0026]所述步骤六中，所述二元醇单体保湿剂中速搅拌10分钟。
[0027]本专利技术的第三方面提供一种光纤抛光研磨工艺，采用上述制备方法制备上述光纤抛光研磨液对光纤进行抛光研磨；
[0028]在研磨过程中，研磨压力为2000
‑
3000克，研磨转速为120
‑
180r/s，研磨时间为20
‑
40s。
[0029]在一些实施例中，所述研磨压力为2500克，所述研磨转速为150r/s，所述研磨时间为30s。
[0030]本专利技术的有益效果：
[0031]本专利技术方案中，纳米氧化铈粉的粒度α小于等予0.7um可以使得氧化铈粉粒度较小，有利于减少纳米氧化铈粉的凝结程度以及减少对光纤端面的冲击力，提高抛光研磨精度，此外，纳米氧化铈粉的粒度α大于等予0.2um，使得纳米氧化铈粉的粒度不至于过小，保证具有一定抛光研磨力，使得研磨效率较高。当纳米氧化铈粉过小时，容易产生性质变化，导致研磨液中其他助剂在研磨过程中与纳米氧化铈粉发生不可预测的反应，影响研磨液的研磨效果，以及增加研磨液的研制难度，此外，颗粒太小影响磨削速率，需要加长时间影响生产效率，以及颗粒太小会导致纳米氧化铈粉的成本增加。并且，纳米氧化铈粉为0.2um≤α≤0.7um可以由国内厂商提供，降低成本。
[0032]分散剂有利于将纳米氧化铈粉均匀分散在研磨液中；悬浮剂作用是将纳米氧化铈颗粒均匀分散于水中保持悬浮状态使其不致迅速下沉，从而保持研磨液的浓度使纳米氧化铈颗粒均匀分散在研磨液中；通常分散剂和悬浮剂容易氧化，氧化后会失去或者降低原有的分散以及悬浮作用，导致配比出的抛光研磨液中纳米氧化铈颗粒会出现聚集形成大颗粒或悬浮性不好直接影响抛光研磨效果导致光纤高度偏高，在此情况下，通过配置二元醇单体保湿剂，使得在研磨光纤时防止水分蒸发吸湿保湿，降低和延缓分散剂和悬浮剂的氧化，从而使得在研磨过程中，研磨液能够保持良好的研磨效果。
[0033]此外，纳米氧化铈粉与所述二元醇单体保湿剂重量比为(2
‑
4)：(4
‑
8)，有利于纳米氧化铈粉在水中具有较高浓度，实现对光纤的良好研磨效果；所述分散剂为所述纯化水重量的3％
‑
15％，有利于对浓度较高的纳米氧化铈粉分散，从而更好将纳米氧化铈粉均匀分散在研磨液中；所述悬浮剂为所述纯化水重量的5％
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10％，有利于将浓度较高的纳米氧化铈颗粒均匀分本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光纤抛光研磨液，其特征在于：包括纳米氧化铈粉、纯化水、亲水性分散剂、水溶性悬浮剂、二元醇单体保湿剂；其中，所述纳米氧化铈粉、所述纯化水、所述二元醇单体保湿剂重量比为(2
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4)：(4
‑
8)：(1
‑
3)，所述分散剂为所述纯化水重量的3％
‑
15％，所述悬浮剂为所述纯化水重量的5％
‑
10％；所述纳米氧化铈粉的粒度范围为0.2um≤α≤0.7um。2.根据权利要求1所述的一种光纤抛光研磨液，其特征在于：所述纳米氧化铈粉的粒度范围为0.3um≤α≤0.5um。3.根据权利要求1所述的一种光纤抛光研磨液，其特征在于：所述分散剂包括含亲水基团的改性聚醚磷酸酯类化合物。4.根据权利要求1所述的一种光纤抛光研磨液，其特征在于：所述分散剂为广州市润宏化工有限公司型号为8605分散剂。5.根据权利要求1所述的一种光纤抛光研磨液，其特征在于：所述悬浮剂包括水溶性液体聚合物、乳化剂、水溶性纤维素。6.根据权利要求1至5中任一项所述的一种光纤抛光研磨液，其特征在于：所述二元醇单体保湿剂包括乙二醇。7.一种光纤抛光研磨液制备方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤一、重量比称取如下：纳米氧化铈粉20
‑
40重量份、纯化水40
‑
80重量份、二元醇单体保湿剂10
‑
30重量份，分散剂为所述纯化水重量的3％<...

【专利技术属性】
技术研发人员：金鑫，钱伟，祁超智，张京迪，何业明，吴婷，苏建平，
申请(专利权)人：蘅东光通讯技术深圳股份有限公司，
类型：发明
国别省市：