一种喷砂不锈钢超高洁净度清洗的方法技术

本发明专利技术属于IC半导体超高洁净度清洗技术领域，具体涉及一种喷砂不锈钢超高洁净度清洗的方法，包括如下步骤：(1)抛光；(2)预清洗；(3)有机溶剂擦拭和高压水清洗；(4)第一次脱脂清洗；(5)第一次酸洗水洗；(6)N2吹干

【技术实现步骤摘要】
一种喷砂不锈钢超高洁净度清洗的方法


[0001]本专利技术属于IC半导体超高洁净度清洗
，具体涉及一种喷砂不锈钢超高洁净度清洗的方法。

技术介绍

[0002]随着IC领域的发展，半导体材料的洁净度自始至终是重中之重，不洁净的设备或工件会携带大量的污染物及其他金属离子，这对于半导体加工的刻蚀或沉积工艺产生非常大的影响，而一旦设备封装之后，将会污染其他的真空连接腔体，会花费更大的代价去恢复洁净度、排查污染源，如何保证半导体材料的超高洁净度是一个亟待解决的问题。

技术实现思路

[0003]为解决上述技术问题，本专利技术提出一种喷砂不锈钢超高洁净度清洗的方法。
[0004]具体技术方案如下：
[0005]一种喷砂不锈钢超高洁净度清洗的方法，包括如下步骤：(1)对来料抛光；(2)预清洗；(3)有机溶剂擦拭和高压水清洗；(4)第一次脱脂清洗；(5)第一次酸洗水洗；(6)N2吹干
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喷砂
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高压水清洗；(7)第二次脱脂清洗；(8)第二次酸洗水洗；(9)超声波纯水洗
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溢流
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N2吹干；(10)包装。
[0006]步骤(1)所述抛光为机械抛光打磨，用砂纸进行初步打磨，无肉眼可见缺陷后，使用菜瓜布细化表面纹路，面粗Ra＜0.8μm。
[0007]步骤(2)所述预清洗为：经过抛光后，确认表面没有异常问题，使用弱碱性温和脱脂剂进行预清洗，清洗表面脏污；使用高压水清洗或使用蒸汽枪清洗小孔工位内部，预清洗后必须进行两次水膜连续性检测，确保表面洁净，无油污。
[0008]步骤(3)操作为：进入千级洁净间使用有机溶剂擦拭工件表面、挂点内以及挂具，擦拭两遍以上，然后进入洁净间进行高压水清洗，挂具和孔内重点冲洗。
[0009]步骤(4)操作为：试片经高压水清洗后，进入洁净间，使用洁净的脱脂剂进行第一次脱脂清洗，并溢流水洗。
[0010]步骤(5)所述第一次酸洗水洗具体操作为：第一次脱脂清洗后，采用HNO3与HF质量分数比为20％：1～5％的混酸进行酸蚀，酸蚀时间10
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120s，然后水洗2
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3min，再采用质量分数40
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55％的HNO3酸洗10
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60min，再次水洗2
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3min，喷水洗净。
[0011]步骤(6)中使用N2吹干，并使用PE袋包好，转运至喷砂车间，进行喷砂处理，喷砂的砂材是高纯低钠氧化铝介质，喷枪为专用的洁净喷枪；完成喷砂后，使用洁净的压缩空气吹净表面余砂、浮砂，使用尼龙袋或PE袋包好，返回洁净间重新进行高压水清洗，挂具和孔内重点冲洗。
[0012]步骤(7)中所述第二次脱脂清洗和步骤(8)中所述第二次酸洗水洗过程与第一次脱脂清洗和第一次酸洗水洗过程一致。
[0013]所述步骤(9)在完成第二次酸洗水洗后，进行超声波溢流水洗，保持2
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4h，水质电
阻率＞2MΩ，使用洁净N2吹干。
[0014]所述步骤(10)所述包装为内层采用尼龙袋包装，外层采用PE袋真空包装，操作过程中手不得触碰PE袋内侧。
[0015]与现有技术相比，本专利技术具有如下有益技术效果：
[0016]采用本专利技术清洗方法，可有效的保证工件或试片表面达到半导体高洁净度的使用要求，且清洗后试片表面的痕量金属污染物通过ICP
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MS检测结果表明，对IC设备最为敏感的铜离子含量仅为50E10atoms/cm2，其他元素也远低于IC领域的国际常用痕量污染物标准水平，是一种可靠性及操作性较高的喷砂不锈钢超高洁净度清洗方法，清洗后零件可以实现在超高真空的洁净环境中的使用要求。
具体实施方式
[0017]下面结合实施例对本专利技术进行详细说明，但本专利技术的保护范围不受实施例所限。
[0018]实施例1
[0019]采用以下步骤对半导体材料进行超高洁净度的清洗，其中脱脂剂为U
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151脱脂剂。
[0020](1)对来料首先进行机械抛光打磨，用砂纸进行初步打磨，无肉眼可见缺陷后，使用菜瓜布细化表面纹路，面粗Ra＜0.8μm
[0021](2)经过抛光后，确认表面没有异常问题，使用脱脂剂进行预清洗，清洗表面脏污，必要时应当使用高压水清洗，亦可使用蒸汽枪清洗小孔工位内部
[0022](3)在进行完脱脂清洗后必须进行2次水膜连续性检测，确保表面洁净，无油污
[0023](4)脱脂清洗后，进入千级洁净间使用IPA擦拭工件表面及挂点内以及挂具，擦拭2遍以上，然后进入百级洁净间进行高压水清洗
[0024](5)试片经高压水清洗后，使用洁净的脱脂剂再次进行脱脂清洗，并溢流水洗
[0025](6)脱脂水洗后，进行酸蚀(混酸)，时间10
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120s，水洗2
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3min，酸洗(HNO3)时间10
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60min，水洗2
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3min，喷水洗净
[0026](7)喷水洗后，使用N2吹干，并使用PE袋包好，转运至喷砂车间，进行喷砂处理，喷砂砂材是高纯低钠氧化铝介质，喷枪为专用的洁净喷枪
[0027](8)完成喷砂后，使用洁净的压缩空气吹净表面余砂、浮砂，使用尼龙袋或PE袋包好，返回洁净间
[0028](9)重新进行高压水清洗过程，并再次重复进行脱脂到酸洗操作流程
[0029](10)完成第二次酸洗水洗后，进行超声波溢流水洗，保持2
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4h，水质电阻率＞2MΩ，之后使用N2吹干，内层尼龙袋包装，外层真空包装。
[0030]实施例2
[0031]与实施例1不同之处在于，脱脂剂为弱碱性温和脱脂剂。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种喷砂不锈钢超高洁净度清洗的方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)对来料抛光；(2)预清洗；(3)有机溶剂擦拭和高压水清洗；(4)第一次脱脂清洗；(5)第一次酸洗水洗；(6)N2吹干
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喷砂
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高压水清洗；(7)第二次脱脂清洗；(8)第二次酸洗水洗；(9)超声波纯水洗
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溢流
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N2吹干；(10)包装。2.根据权利要求1所述的喷砂不锈钢超高洁净度清洗的方法，其特征在于：步骤(1)所述抛光为机械抛光打磨，用砂纸进行初步打磨，无肉眼可见缺陷后，使用菜瓜布细化表面纹路，面粗Ra＜0.8μm。3.根据权利要求1所述的喷砂不锈钢超高洁净度清洗的方法，其特征在于，步骤(2)所述预清洗为：经过抛光后，确认表面没有异常问题，使用弱碱性温和脱脂剂进行预清洗，清洗表面脏污；使用高压水清洗或使用蒸汽枪清洗小孔工位内部，预清洗后必须进行两次水膜连续性检测，确保表面洁净，无油污。4.根据权利要求1所述的喷砂不锈钢超高洁净度清洗的方法，其特征在于，步骤(3)操作为：进入千级洁净间使用有机溶剂擦拭工件表面、挂点内以及挂具，擦拭两遍以上，然后进入洁净间进行高压水清洗，挂具和孔内重点冲洗。5.根据权利要求1所述的喷砂不锈钢超高洁净度清洗的方法，其特征在于，步骤(4)操作为：试片经高压水清洗后，进入洁净间，使用洁净的脱脂剂进行第一次脱脂清洗，并溢流水洗。6.根据权利要求1所述的喷砂不锈钢超高洁净度清洗的方...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔鑫，徐宏岩，金艳艳，秦洪达，
申请(专利权)人：沈阳富创精密设备股份有限公司，
类型：发明
国别省市：