聚芳硫醚膜制造技术

本发明专利技术提供透明性和色调优异的聚芳硫醚膜。本发明专利技术的聚芳硫醚膜以聚芳硫醚(PAS)类树脂为主要构成成分，波长550nm的分光光线透射率Ta为75％以上，b值为5.0以下。b值为5.0以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】聚芳硫醚膜


[0001]本专利技术涉及聚芳硫醚膜。

技术介绍

[0002]近年来，对于需要透明性的电路基板材料，正在对玻璃进行研究。但是，玻璃基材存在着容易破裂、重、薄型化困难等缺点，另外，对于与汽车挡风玻璃和室内外的弯曲表面接触的部位来说，也没有柔性充分的材料。
[0003]聚芳硫醚树脂具有优异的耐热性、阻燃性、刚性、耐化学药品性、电绝缘性和低吸湿性等性质，特别适合用于电气/电子设备、机械部件和汽车部件等。在电气、电子部件领域中，由于高速、大容量化的趋势，需要传输损耗小的材料，以聚苯硫醚(以下，有时简称为PPS。)膜为代表的聚芳硫醚膜，利用其优异的传输损耗性、低吸湿性，正在被应用于电路材料中。然而，PPS膜的透明性低、色调差，因此，例如在用作透明电路基板的情况下，容易因PPS膜而产生由透明性、色调的原因所导致的视觉辨认度恶化，期待透明性和色调的提高。
[0004]迄今为止，对于PPS膜而言，尚未对提高色调的技术进行充分研究。例如，作为使透明性和滑动性提高的材料，已公开了对PPS膜实施摩擦处理的技术(专利文献1)。另外，还公开了减少聚合反应时所副产的杂质的含量、改善挥发性成分和色调的技术(专利文献2)。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1：日本特开2013
‑
67748号公报
[0008]专利文献2：日本特开2009
‑
138206号公报

技术实现思路

[0009]专利技术所要解决的问题
[0010]然而，专利文献1中记载的技术存在不足以改善PPS树脂所具有的色调的问题。另外，专利文献2中记载的技术在应用于膜用途的情况下，存在透明性不足的问题。
[0011]本专利技术的课题在于解决上述问题。即，提供透明性和色调优异的聚芳硫醚膜。
[0012]解决问题的手段
[0013]为了解决上述问题，本专利技术的聚芳硫醚膜具有以下构成。即，其为一种聚芳硫醚膜，以聚芳硫醚(PAS)类树脂为主要构成成分，波长550nm的分光光线透射率Ta为75％以上，b值为5.0以下。
[0014]专利技术效果
[0015]本专利技术的聚芳硫醚膜的透明性和色调优异。因此，利用该特性，能够适合用作汽车用构件、电池用构件、显示器用构件、工业用包装材料、设计用材料、电气/电子材料中特别需要透明性的各种部件，例如透明电路基板、透明天线基板、高频用透明电路基板、高频用透明天线基板。
具体实施方式
[0016]本专利技术中的聚芳硫醚膜是指，将以聚芳硫醚(以下记作PAS)类树脂为主要构成成分的树脂组合物熔融成型而制成片状的膜，优选可以进行双轴拉伸、热处理。
[0017]在本专利技术中，将PAS类树脂作为主要构成成分是指，包含50质量％以上、优选60质量％以上、更优选70质量％以上的PAS类树脂。PAS类树脂的含量低于50质量％时，有时损害作为PAS膜特征的耐热性、尺寸稳定性、机械特性。
[0018]本专利技术中使用的PAS类树脂是指，具有
‑
(Ar
‑
S)
‑
重复单元的共聚物。
[0019]作为Ar，可以列举下述式(A)～式(K)等表示的单元等。
[0020][0021]R1、R2为选自氢、烷基、烷氧基、卤素基的取代基，R1和R2可以相同也可以不同。
[0022]作为重复单元，在上述式中优选对亚芳基硫醚单元。作为它们的代表例，可以列举聚苯硫醚、聚砜、聚醚砜、聚苯硫醚砜、聚苯硫醚酮等，作为特别优选的对亚芳基硫醚单元，从膜物性和经济性方面考虑，可以例示对苯硫醚单元。
[0023]对于本专利技术中使用的聚芳硫醚类树脂，优选其结构是由占全部重复单元的80摩尔％以上且99.9摩尔％的下述结构式表示的对苯硫醚单元作为主要结构单元。通过将本发
明中使用的PAS类树脂设定为上述组成，可以表现出优异的耐热性、耐化学药品性。
[0024][0025]另外，对于本专利技术中使用的PAS类树脂，也可以与占重复单元的0.01摩尔％以上且20摩尔％以下范围的共聚单元进行共聚。
[0026]优选的共聚单元可以列举如下，特别优选的共聚单元为间苯硫醚单元。
[0027][0028]其中X表示亚烷基、CO、SO2单元。
[0029][0030]其中R表示烷基、硝基、苯基或烷氧基。
[0031]在本专利技术中使用的PAS类树脂的主要结构单元中，与共聚单元进行共聚的方式没有特别限制，优选为无规共聚物。
[0032]在构成本专利技术的PAS膜的PAS类树脂组合物中，可以在不损害本专利技术的效果的范围内，含有抗氧化剂、热稳定剂、抗静电剂、防粘连剂等各种添加剂。
[0033]本专利技术的PAS膜，需要波长550nm下的光线透射率(Ta)为75％以上。通过使Ta为75％以上，可得到透明性优异的膜。Ta低于75％时，膜的浑浊变大，在作为透明电路基板、光学构件的保护基板的情况下，有时透明性降低。波长550nm的光线透射率更优选为78％以上，进一步优选为80％以上。为了使波长550nm的光线透射率为上述范围，可以列举后述的为了移动性而控制膜中含有的颗粒及其他树脂的方法、后述的用溶剂对聚合后的聚合物或得到的膜实施清洗处理而除去杂质的方法。
[0034]本专利技术的PAS膜，优选波长400nm的光线透射率(Tb)和600nm的光线透射率(Tc)满足下述式(i)。
[0035]Tc
‑
Tb≤8.2％式(i)。
[0036]通过具有上述特性，是指在波长400nm～600nm的范围内吸收光的杂质少，可得到着色少的膜。另外，Tc
‑
Tb超过8.2％时，在制成基板材料时，有时会发生着色、色调降低。更优选Tc
‑
Tb≤8.0％。为了使Tc
‑
Tb为上述范围，可以通过利用后述的清洗处理减少PAS膜中的残留杂质来进行控制。在本专利技术中，杂质是指作为聚合溶剂的N
‑
甲基
‑2‑
吡咯烷酮(NMP)、作为聚合时的副产物的硫氢化钠(NaSH)、4
‑
氯苯硫醇盐等在400～600nm的范围具有光吸收的物质。波长550nm、400nm、600nm的光线透射率可以通过后述的方法进行评价。
[0037]本专利技术的PAS膜，需要作为黄度指标的b值为5.0以下。通过使b值为5.0以下，可得到色调优异的膜。b值超过5.0时，在制成透明电路基板、光学构件的保护基板时，有时由于色调的原因而导致视觉辨认度变差，从而遗漏缺陷。更优选为3.0以下，进一步优选为2.5以下，最优选为2.0以下。下限没有特别限制，从生产率方面考虑，优选为0.0以上。为了得到b值为上述范围的聚芳硫醚膜，例如可以列举如后述那样将聚合后的聚合物或所得到的膜用溶剂实施清洗处理而去除杂质的方法。
[0038]本专利技术的PAS膜，优选作为亮度指标的L值为85以上。通过将L值设定为本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种聚芳硫醚膜，其以聚芳硫醚(PAS)类树脂为主要构成成分，波长550nm的分光光线透射率Ta为75％以上，b值为5.0以下。2.根据权利要求1所述的聚芳硫醚膜，b值为3.0以下。3.根据权利要求1或2所述的聚芳硫醚膜，波长400nm的分光光线透射率Tb与波长600nm的分光光线透射率Tc满足下述式(i)：Tc
‑
Tb≤8.2％式(i)。4.根据权利要求1～3中任一项所述的聚芳硫醚膜，至少一个膜表面的表面粗糙度(Ra)为10nm以上且200nm以下。5.根据权利要求1～4中任一项所述的聚芳硫醚膜，至少一个膜表面的自基准面起的深度体积(Vv)为50μm3以上且800μm3以下。6.根据权利要求1～5中任一项所述的聚芳硫醚膜，至少一个膜表面的自基准面起的深度体积(Vv)和突起个数(n)满足下述式(iii)：0.01≤Vv/n≤3.0式(iii)。7.根据权利要求1～6中任一项所述的聚芳硫醚膜，至少一个膜表面的光泽度为140％以上且小于200％。8.根据权利要求1～7中任一项所述的聚芳硫醚膜，其含有颗粒和/或分散体，所述颗粒、分散体的空隙形成比率为10％以下。9.根据权利要求1～8中任一项所述的聚芳硫醚膜，在利用傅里叶变换红外光谱法(FT
‑
IR)得到的红外吸收光谱中，在1145cm
‑1～1160cm
‑1之间具有至少1个吸收峰。10.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：高桥健太，浜崎莉沙，前川茂俊，
申请(专利权)人：东丽株式会社，
类型：发明
国别省市：