离子分析装置制造方法及图纸

一种离子分析装置(10)，其是通过向源自试样成分的前体离子照射自由基而生成产物离子并对该产物离子进行分析的离子分析装置(10)，该离子分析装置(10)包括：反应室(142)，其供所述前体离子导入；自由基生成部(151)，其生成自由基；以及自由基输送管(152)，其将自由基生成部(151)和反应室(142)连接，自由基输送管(152)的内壁面的至少局部由与氧化铝或石英相比所述自由基对于自由基输送管(152)的内壁面的附着量较少或附着力较小的材料构成。优选的是，自由基输送管(152)的一端(1523)配置于反应室(142)内，在反应室(142)内朝向离子偏置的预定的区域(1424)的方向。预定的区域(1424)的方向。预定的区域(1424)的方向。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】离子分析装置


[0001]本专利技术涉及通过向源自试样成分的前体离子照射自由基而生成产物离子并进行质谱分析、离子迁移率的分析等的离子分析装置。

技术介绍

[0002]为了确定高分子化合物或分析其构造，使用如下质谱分析法：使源自高分子化合物的离子(前体离子)解离一次或多次而生成产物离子，与质荷比相应地分离并检测该产物离子。作为使离子解离的代表性的方法，已知使氮气等非活性气体分子与离子碰撞的碰撞诱导解离(CID：Collision
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Induced Dissociation)法。在CID法中利用与非活性分子的碰撞能量使离子解离，因此能够使各种离子解离，但离子解离的位置的选择性较低。因此，CID法不适用于为了构造分析而需要在离子内的特定的位置解离的情况。
[0003]作为在特定的位置使离子解离的方法，一直以来使用使负离子与前体离子碰撞的电子转移解离(ETD：Electron Transfer Dissociation)法、向前体离子照射电子的电子捕获解离(ECD：Electron Capture Dissociation)法。在这些方法中，通过向前体离子照射负离子、电子，从而在前体离子内的特定的位置生成未成对电子，在该位置发生解离。不过，在ETD法、ECD法中，在前体离子是正离子的情况下在解离时离子的价数降低，因此若使1价的正离子解离，则生成中性分子。因此，在包含较多的作为1价的正离子的前体离子的情况下，不适用ETD法、ECD法。
[0004]在专利文献1中记载了通过向前体离子照射自由基而在特定的位置使离子解离的方法。在该方法中，通过自由基的照射而在前体离子内的特定的位置生成未成对电子，由此在离子内的特定的位置发生解离。该方法在生成未成对电子这一点上与ETD法、ECD法是共通的，但在解离时离子的价数不变化，因此也能够应用于前体离子是1价的正离子的情况。向前体离子照射的自由基能够使用氢自由基、羟基自由基、氧自由基、氮自由基等。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1：国际公开WO2020/152806号
[0008]非专利文献
[0009]非专利文献1：D.R.Warren著、“Surface effects in combustion reactions.Part 2.
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Activity of surfaces towards some possible chain
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carriers and combustion intermediates”、Transactions of the Faraday Society、王立化学会发行、(英国)、1957年、第53卷、第206
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209页

技术实现思路

[0010]专利技术要解决的问题
[0011]在专利文献1所记载的装置中，使在自由基生成室生成的自由基通过由氧化铝或石英形成的自由基输送管而向离子阱、碰撞室等反应室导入。然后，通过在该反应室中将自
由基向前体离子照射而使前体离子解离。此时，自由基的一部分附着于自由基输送管的内壁面，向反应室供给的自由基的量减少与附着于该内壁面的自由基对应的量。其结果，使前体离子解离的效率降低。
[0012]至此以对通过照射自由基而使前体离子解离而生成的产物离子进行质谱分析的情况为例而进行了说明，但在利用其他方法对产物离子进行分析的情况下也产生上述同样的问题。
[0013]本专利技术要解决的问题是，提供能够利用自由基使前体离子更高效地解离的离子分析装置。
[0014]用于解决问题的方案
[0015]为了解决上述问题而完成的本专利技术的离子分析装置的第1技术方案是通过向源自试样成分的前体离子照射自由基而生成产物离子并对该产物离子进行分析的离子分析装置，其中，
[0016]该离子分析装置包括：
[0017]反应室，其供所述前体离子导入；
[0018]自由基生成部，其生成自由基；以及
[0019]自由基输送管，其将所述自由基生成部和所述反应室连接，
[0020]所述自由基输送管的内壁面的至少局部由与氧化铝或石英相比所述自由基对于该自由基输送管的内壁面的附着量较少或附着力较小的材料构成。
[0021]本专利技术的离子分析装置的第2技术方案是通过向源自试样成分的前体离子照射自由基而生成产物离子并对该产物离子进行分析的离子分析装置，其中，
[0022]该离子分析装置包括：
[0023]反应室，其供所述前体离子导入；
[0024]自由基生成部，其生成自由基；以及
[0025]自由基输送管，其将所述自由基生成部和所述反应室连接，
[0026]所述自由基输送管的一端配置于所述反应室内，在所述反应室内朝向离子偏置的预定的区域的方向。
[0027]本专利技术的离子分析装置的第3技术方案是通过向源自试样成分的前体离子照射自由基而生成产物离子并对该产物离子进行分析的离子分析装置，其中，
[0028]该离子分析装置包括：
[0029]反应室，其供所述前体离子导入；
[0030]自由基生成部，其生成自由基；以及
[0031]自由基输送管，其将所述自由基生成部和所述反应室连接，
[0032]该离子分析装置还包括：
[0033]接头，其具有筒部和扩径部，该筒部的一端通过设于所述反应室的开口而与该反应室的内部连接，该筒部具有比该开口的直径小的内径，供所述自由基输送管插入，该扩径部与该筒部的另一端连接地设置，随着远离该另一端而内径扩径；以及
[0034]保持件，其将所述接头保持为能够沿着所述反应室的外表面移动。
[0035]专利技术的效果
[0036]＜第1技术方案＞
[0037]在第1技术方案的离子分析装置中，使用内壁面的至少局部由与氧化铝、石英等相比所述自由基(即在自由基生成部生成的自由基)的附着量较少或附着力较小的材料构成的自由基输送管，从而能够抑制在自由基生成部生成的自由基附着于自由基输送管的内壁面，增多向反应室供给的自由基的量。因此，利用第1技术方案的离子分析装置，能够提高使前体离子解离的效率。在此，自由基对于某个物体的表面(在本专利技术中是自由基输送管的内壁面)的“附着量”、“附着力”与同该物体的表面接触的自由基附着于该物体的概率(附着概率)关联地确定。可以说，附着概率越小，对于该物体的表面的附着量越少，附着力越小。作为与氧化铝、石英相比自由基对于表面的附着量较少或附着力较小的材料，例如，能够举出硼硅酸玻璃。硼硅酸玻璃具有与氧化铝、石英等相比特别是氢自由基、氧自由基难以附着这样的优势。
[0038]＜第2技术方案＞
[0039]在离子阱、碰撞室等反应室中，通常形成的电场的分布变得不均匀。此外，在碰撞室中，为了使离子高速地会聚而有意地进行使电场相对于离子的行进方向倾斜的操作。若形成这样的不均匀或倾斜的电场分布，则离子(包含前体离本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种离子分析装置，其是通过向源自试样成分的前体离子照射自由基而生成产物离子并对该产物离子进行分析的离子分析装置，其中，该离子分析装置包括：反应室，其供所述前体离子导入；自由基生成部，其生成自由基；以及自由基输送管，其将所述自由基生成部和所述反应室连接，所述自由基输送管的内壁面的至少局部由与氧化铝或石英相比所述自由基对于该自由基输送管的内壁面的附着量较少或附着力较小的材料构成。2.根据权利要求1所述的离子分析装置，其中，所述材料是硼硅酸玻璃。3.根据权利要求2所述的离子分析装置，其中，所述自由基生成部生成氧自由基。4.根据权利要求1所述的离子分析装置，其中，所述自由基输送管的一端配置于所述反应室内，在所述反应室内朝向离子偏置的预定的区域的方向。5.根据权利要求4所述的离子分析装...

【专利技术属性】
技术研发人员：古田匡智，高桥秀典，
申请(专利权)人：株式会社岛津制作所，
类型：发明
国别省市：