一种用于检测子宫内膜胚胎种植窗偏移状态的基因标志物组合及其应用制造技术

本发明专利技术公开了一种用于检测子宫内膜胚胎种植窗偏移状态的基因标志物组合，所述基因标志物包含SEQ ID NO.1～SEQ ID NO.10所示胚胎种植窗偏移相关特征基因序列。本发明专利技术能够准确有效地判断子宫内膜的胚胎种植窗(WOI)是否出现时间偏移，并据此对受检者的WOI是否进行相应调整给出指导建议，可以显著提升体外受精

【技术实现步骤摘要】
一种用于检测子宫内膜胚胎种植窗偏移状态的基因标志物组合及其应用


[0001]本专利技术涉及分子生物学
，具体地说，涉及一种用于检测子宫内膜胚胎种植窗(WOI)偏移状态的基因标志物组合及其应用。

技术介绍

[0002]辅助生殖治疗(ART)，尤其是体外受精
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胚胎移植(IVF
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ET)技术，是当前公认的治疗不孕不育的有效手段。但数据显示，当前采用传统IVF
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ET方案进行胚胎移植的成功率仅40％左右，且有相当部分的患者经历反复种植失败(recurrent implantation failure,RIF)即经历3次以上的胚胎种植，仍未实现临床妊娠。
[0003]研究发现，约2/3的失败案例由错误判断患者的胚胎种植窗(WOI)导致。传统认知中，女性子宫内膜的WOI在月经周期第19
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21天开放，然而反复移植失败或罹患继发性不孕症的女性，其WOI的时间节点往往会发生前移或后移，如按照传统胚胎植入方案，即在自然周期LH+7天或人工周期P+5天实施IVF
‑...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于检测子宫内膜胚胎种植窗偏移状态的基因标志物组合，其特征在于，所述基因标志物组合为SEQ ID NO.1～SEQ ID NO.10所示的子宫内膜WOI偏移相关特征基因序列。2.一种核酸组合物，其特征在于，包含多个多核苷酸或其片段的组合产品，所述多个多核苷酸的序列为SEQ ID NO.1～SEQ ID NO.10所示的子宫内膜WOI偏移相关特征基因序列。3.权利要求1所述基因标志物组合或权利要求2所述核酸组合物在用于制备检测子宫内膜WOI偏移状态的产品中的应用。4.根据权利要求3所述的应用，其特征在于，所述检测子宫内膜WOI偏移状态的产品包括：用RNA测序、基因芯片、实时定量PCR对子宫内膜WOI偏移状态进行检测评估的产品。5.根据权利要求4所述的应用，其特征在于，所述用RNA测序检测子宫内膜WOI偏移状态的产品包含SEQ ID NO.1～SEQ ID NO.10所示子宫内膜WOI偏移状态相关特征基因序列的信使RNA序列以及对应的检测引物和/或探针。6.根据权利要求4所述的应用，其特征在于，所述用基因芯片检测子宫内膜WOI偏移状态的...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴涵，李珏，张雯碧，李庆，陈晨，陈究成，丁碧粉，
申请(专利权)人：和卓生物科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：