【技术实现步骤摘要】
一种过渡金属氧化物核壳纳米复合阵列制备方法
[0001]本专利技术主要涉及WO3薄膜制备
,具体涉及一种过渡金属氧化物核壳纳米复合阵列制备方法。
技术介绍
[0002]纳米氧化钨(WO3)具有许多优异的光电特性,是研究最广泛的光催化剂之一,WO3还具有在酸性条件下化学稳定性好、耐光腐蚀、无毒、制备方便等优点。同时,WO3可与一些过渡金属氧化物形成复合薄膜材料﹐并广泛地应用于电致变色材料、气敏材料、共催化剂制备等领域。WO3作为一种半导体光催化材料,可以用于制备光催化剂,进而用于有机污染物的降解等领域。半导体光催化是利用光催化剂在光照条件下生成一系列具有强氧化能力的空穴和自由基,进一步发生氧化分解反应使有机物污染物降解为CO2和H2O等无机物,从而达到对有机物的彻底氧化分解。纳米WO3薄膜的制备方法有多种,发展更好的经济实用的工艺无疑是有必要的。电化学沉积法具有工艺简单、设备成本低、便于制备大面积薄膜﹑易于控制薄膜组成和微观结构等特点,易于实验室制备。热处理操作方法简单,是制备材料常用的方法之一。
[0003]三 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种过渡金属氧化物核壳纳米复合阵列制备方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一:在FTO导电玻璃上制备WO3晶种;步骤二:水热法在FTO导电玻璃表面沉积氧化钨纳米棒薄膜;步骤三:利用恒电位沉积法在氧化钨纳米棒表面沉积普鲁士蓝颗粒,获得WO3/PB核壳纳米棒薄膜;步骤四:通过热处理将PB原位转换成Fe2O3,获得WO3/Fe2O3核壳纳米棒薄膜。2.根据权利要求1所述的一种过渡金属氧化物核壳纳米复合阵列制备方法,其特征在于,所述步骤一中,将钨酸钠或钨酸铵加水搅拌至完全溶解,然后加入盐酸,至没有更多沉淀产生,离心后去除上层清液并向沉淀中加入过氧化氢溶液,所得溶液旋涂在FTO表面,再在马弗炉中退火,在FTO导电玻璃上制备WO3晶种。3.根据权利要求2所述的一种过渡金属氧化物核壳纳米复合阵列制备方法,其特征在于,所述步骤一中,马弗炉中退火温度为400
‑
450℃,时间为1
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2h。4.根据权利要求1所述的一种过渡金属氧化物核壳纳米复合阵列制备方法,其特征在于,所述步骤二中,将钨源溶于过氧化氢并加入水获得前驱溶液,再将前驱溶液、水和乙腈混合溶剂、HCl和尿素混合得到反应溶液,并将其转移到反应釜中,然后将带有WO3晶种的FTO浸入到反应溶液中进行水热反应,在FTO导电玻璃表面沉积氧化钨纳米棒薄膜。5.根据权利要求4所述的一种过渡金属氧化物核壳纳米复合阵列制备方法,其特征在于,所述步骤二中,将带有WO3晶...
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