基板处理模块及移动工件的方法技术

本文中所公开的实施方式包括基板处理模块及移动工件的方法。基板处理模块包括遮件堆叠及两个处理站。遮件堆叠设置在处理站之间。移动工件的方法包括以下步骤：在第一方向上将支撑部分从第一位置移动到遮件堆叠，从遮件堆叠取回工件，及将支撑部分移动至第二位置。传输腔室组件及方法允许将工件移动至遮件堆叠及将工件从遮件堆叠移动到两个处理站。基板处理模块的中心传输机器人被配置为抓取基板及遮挡盘两者，从而在一般会需要两个机器人的时候允许使用一个机器人。候允许使用一个机器人。候允许使用一个机器人。

【技术实现步骤摘要】
基板处理模块及移动工件的方法
[0001]本申请是申请日为2021年4月9日、申请号为202180045093.8、专利技术名称为“基板处理模块及移动工件的方法”的专利技术专利申请的分案申请。


[0002]本公开内容的实施方式大体涉及装置及方法，且更特定而言，涉及基板处理模块及移动工件的方法。

技术介绍

[0003]常规的集群工具被配置为在基板处理期间执行一个或多个处理。例如，集群工具可以包括用来在基板上执行物理气相沉积(PVD)处理的PVD腔室、用于在基板上执行原子层沉积(ALD)处理的ALD腔室、用于在基板上执行化学气相沉积(CVD)处理的CVD腔室、和/或一个或多个其他的处理腔室。
[0004]上述集群工具包括传输系统以向系统内的各种处理腔室及从这些处理腔室移动工件(例如基板及遮挡盘(shutter disc))。例如，使用具有多个臂的转盘系统来抓取基板或遮挡盘中的任一者。旋转转盘系统使工件移动进入集群工具中的各种处理腔室中及从这些处理腔室移动出来。取决于要抓取的期望工件，转盘一般具有不同形式及功能的不同抓取臂。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板处理系统，包括：处理模块，所述处理模块包括至少部分地界定传输区域的多个壁，其中所述多个壁包括：第一壁，所述第一壁包括第一中心开口和围绕所述第一中心开口的上处理站开口的阵列；和第二壁，所述第二壁包括第二中心开口和围绕所述第二中心开口的下处理站开口的阵列，其中所述第二壁定位于所述处理模块的与所述第一壁相对的一侧；中心机器人，所述中心机器人包括：中心支撑件，所述中心定位于所述第二中心开口上方并定位于所述传输区域内；多个支撑臂，所述多个支撑臂耦接至中心支撑件并且沿着径向方向从所述中心支撑件延伸，所述径向方向从中心轴延伸；和致动器，所述致动器被配置为围绕所述中心轴旋转所述中心支撑件和所述多个支撑臂；定位于所述第一壁上的两个或更多个处理站，其中每个处理站设置于所述上处理站开口的一者的上方并且包括：源组件；和处理套件组件，所述处理套件组件包括多个处理区域部件和密封组件；和基板支撑件致动组件，所述基板支撑件致动组件包括耦接至所述第二壁的致动器；和基板支撑件，所述基板支撑件包括主体，所述主体具有基板接收表面和设置于其中的一个或多个电气元件，并且所述基板支撑件被配置为通过使用所述基板支撑件致动组件的所述致动器从传输位置传输到处理位置，其中所述传输位置定位于所述多个支撑臂下方，并且所述处理位置定位于所述多个支撑臂上方。2.根据权利要求1所述的基板处理系统，其中所述两个或更多个处理站中的源组件中的至少一者包括物理气相沉积(PVD)靶材。3.根据权利要求2所述的基板处理系统，其中所述两个或更多个处理站的一者中的源组件包括淋喷头。4.根据权利要求1所述的基板处理系统，其中形成在所述基板支撑件上的密封表面被配置为当所述基板支撑件定位于所述处理位置时与所述密封组件的表面形成密封，其中形成的所述密封被配置为将处理区域与所述传输区域流体地隔离。5.根据权利要求1所述的基板处理系统，其中所述密封组件进一步包括：第一板、第二板、和耦接至所述第一板和所述第二板的顺应构件，其中所述第一板的表面被配置为当所述基板支撑件被定位于所述处理位置中时接触形成在所述基板支撑件上的密封表面，并且所述第二板的表面耦接至所述多个处理区域部件的一者并与其形成密封。6.根据权利要求5所述的基板处理系统，其中当所述第一板的所述表面接触所述密封表面时，所述第一板的所述表面实质上平行于所述源组件的所述下表面。7.根据权利要求1所述的基板处理系统，其中所述中心机器人进一步包括：每个支撑臂的支撑区域进一步包括多个支撑臂电触点，所述多个支撑臂电触点被配置为电性耦接至电源，
其中所述基板支撑件进一步包括多个基板支撑件电触点，所述多个基板支撑件电触点电性耦接至所述一个或多个电气元件，并且所述多个支撑臂电触点各自被配置为当所述基板支撑件设置于所述多个支撑臂的支撑臂的支撑区域上时接触所述基板支撑件电触点的不同的电触点。8.根据权利要求1所述的基板处理系统，进一步包括：遮件堆叠，所述遮件堆叠被配置为储存一个或多个工件，所述一个或多个工件包括基板或遮挡盘中的一者或多者，所述遮件堆叠包括：遮件基部；和一个或多个遮挡盘支撑件，所述一个或多个遮挡盘支撑件耦接到所述堆叠基部，所述一个或多个遮挡盘支撑件的每一者被配置为支撑遮挡盘，其中所述基板支撑件耦接至所述遮件基部，所述基板支撑件被配置为在所述基板接收表面上支撑基板；并且所述遮件堆叠设置于所述两个或更多个处理站之间。9.一种基板处理系统，包括：处理模块，所述处理模块包括至少部分地界定传输区域的多个壁，其中所述多个壁包括：第一壁，所述第一壁包括第一中心开口和围绕所述第一中心开口的处理站开口的阵列；和第二壁，所述第二壁包括第二中心开口，其中所述第二壁定位于所述处理模块的与所述第一壁相对的一侧；定位于所述第一壁上的两个或更多个处理站，其中所述两个或更多个处理站的每个处理站单独地设置于处理站开口的上方并且包括：源组件，所述源组件包括处理表面，所述处理表面邻近所述处理站的处理区域，并被定位为与水平面呈平行关系；和结构支撑组件，所述结构支撑组件包括：支撑元件，所述支撑元件具有环形形状和安装表面；和安装元件的阵列，所述安装元件设置在所述支撑元件和所述处理模块的所述第一壁之间，并且各自包括：第一端，所述第一端在径向线上的径向位置处耦接至所述第一壁，所述径向线在所述处理站开口的阵列的两...

【专利技术属性】
技术研发人员：克兰库玛尔，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：