基坑冠梁顶截水构造及其施工方法技术

本发明专利技术公开了一种基坑冠梁顶截水构造及其施工方法，包括沿着基坑周边布置且固定安装在基坑地下室底板上的地下室连续墙，地下室连续墙沿高度方向的顶部固定安装有冠梁，冠梁在所述基坑的外部固定安装有地下室连续墙导墙，并且地下室连续墙导墙沿基坑高度方的顶端相对于冠梁的顶面向外延伸至地面标高处，沿基坑高度方向的底端相对于冠梁的底面向远离冠梁的方向延伸，冠梁的顶面在相对于地下室连续墙导墙的一侧固定安装有截水沟侧墙，本发明专利技术通过在施工时加深地下连续墙导墙的深度并利用侧边并作为截水沟的侧壁，并在冠梁靠近基坑一侧设置另一半截水沟侧壁，从而防止地表水流入基坑内，有效地隔绝了地下潜水，具有较高的推广价值。价值。价值。

【技术实现步骤摘要】
基坑冠梁顶截水构造及其施工方法


[0001]本专利技术涉及建筑施工
，尤其涉及一种基坑冠梁顶截水构造及其施工方法。

技术介绍

[0002]基坑是指在基础设计位置按基底标高和基础平面尺寸所开挖的土坑，深基坑是开挖深度超过5米(含5米)，或深度虽未超过5米的，但地质条件和周围环境及地下管线特别复杂的工程，截水是地下水控制的方法之一，目的是为了放置地下水渗透到基坑内，影响工程施工。
[0003]传统的基坑工程中，往往只在距离围护结构顶部1米位置设置地表水排水沟用于截水，但这种方法无法完全将地表水排除干净，特别是一般冠梁顶部距离地面还有一定距离，因此冠梁顶面与基坑外侧交界处进场渗水，导致地表水源源不断的流入基坑。

技术实现思路

[0004]为克服现有技术中存在的缺陷，本专利技术提供了一种基坑冠梁顶截水构造及其施工方法，通过在施工时加深地下连续墙导墙的深度至冠梁底标高下，冠梁顶部截水沟可利用地下连续墙导墙的侧边作为截水沟的侧壁，并在冠梁靠近基坑一侧设置另一半截水沟侧壁，从而防止地表水流入基坑内。
[0005]为了实现上述目的，本专利技术提供了一种基坑冠梁顶截水构造及其施工方法，包括：
[0006]沿着基坑周边布置且固定安装在所述基坑地下室底板上的地下室连续墙，所述地下室连续墙沿高度方向的顶部固定安装有冠梁，所述冠梁在所述基坑的外部固定安装有地下室连续墙导墙，并且所述地下室连续墙导墙沿所述基坑高度方的顶端相对于所述冠梁的顶面向外延伸至地面标高处，沿所述基坑高度方向的底端相对于所述冠梁的底面向远离所述冠梁的方向延伸，所述冠梁的顶面在相对于所述地下室连续墙导墙的一侧固定安装有截水沟侧墙。
[0007]较佳地，所述地下室连续墙在所述基坑的外部固定安装有止水帷幕，且所述止水帷幕沿高度方向的顶标高与所述地下室连续墙导墙的顶标高相同。
[0008]较佳地，所述冠梁远离所述地下室连续墙导墙的一侧与所述基坑顶部的首道支撑固定连接。
[0009]较佳地，所述地面标高处在远离所述基坑的一侧安装有地面排水沟，且所述地面标高处在所述基坑的边缘固定安装有防护栏杆。
[0010]较佳地，所述地下室连续墙远离所述止水帷幕的一侧通过传力带与基坑支撑固定连接。
[0011]一种基坑冠梁顶截水构造的施工方法，其特征在于，包括如下步骤：
[0012]在基坑的顶部并且沿着基坑的周边浇筑地下室连续墙导墙，所述地下室连续墙导墙的上端浇筑至地面标高处；
[0013]根据所述地下室连续墙导墙，沿着基坑的周边挖掘地下室连续墙沟槽并砌筑地下室连续墙，砌筑时，所述地下室连续墙的顶标高高于所述地下室连续墙导墙的底标高，所述地下室连续墙与所述基坑地下室底板固定连接，并且靠近基坑的一侧通过传力带与基坑支撑固定连接；
[0014]在所述地下室连续墙的顶部浇筑冠梁，所述冠梁远离所述基坑的一侧与所述地下室连续墙导墙固定连接；
[0015]在所述冠梁的顶面相对于所述地下室连续墙导墙的一侧砌筑截水沟侧墙；
[0016]在地面标高处远离所述基坑的一侧开挖地面排水沟，并在靠近基坑的边缘固定安装防护栏杆。
[0017]由于采用上述技术方案，使得本专利技术具有以下有益效果：
[0018]本专利技术突破了传统的基坑工程中，往往只在距离围护结构顶部1米位置设置地表水排水沟用于截水，但这种方法无法完全将地表水排除干净，通过在施工时加深地下连续墙导墙的深度至冠梁底标高下，冠梁顶部截水沟可利用地下连续墙导墙的侧边作为截水沟的侧壁，并在冠梁靠近基坑一侧设置另一半截水沟侧壁，从而防止地表水流入基坑内，有效地隔绝了地下潜水。
附图说明
[0019]为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0020]图1为本专利技术基坑冠梁顶截水构造的结构示意图。
[0021]附图中标号对应关系如下：
[0022]1‑
地下室底板；2
‑
地下室连续墙；3
‑
地下室连续墙导墙；4
‑
冠梁；5
‑
首道支撑；6
‑
基坑支撑；7
‑
传力带；8
‑
止水帷幕；9
‑
地面排水沟；10
‑
防护栏杆；11
‑
未施工的地下室顶板；12
‑
未施工的主楼结构；13
‑
截水沟侧墙。
具体实施方式
[0023]下面结合附图对本专利技术的具体实施方式作进一步说明。在此需要说明的是，对于这些实施方式的说明用于帮助理解本专利技术，但并不构成对本专利技术的限定。此外，下面所描述的本专利技术各个实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互组合。
[0024]本专利技术所要解决的技术问题是针对传统的基坑工程中，往往只在距离围护结构顶部1米位置设置地表水排水沟用于截水，但这种方法无法完全将地表水排除干净，特别是一般冠梁顶部距离地面还有一定距离，因此冠梁顶面与基坑外侧交界处进场渗水，导致地表水源源不断的流入基坑等问题提，提供一种基坑冠梁顶截水构造及其施工方法，通过在施工时加深地下连续墙导墙的深度并利用侧边并作为截水沟的侧壁，并在冠梁靠近基坑一侧设置另一半截水沟侧壁，从而防止地表水流入基坑内，有效地隔绝了地下潜水。
[0025]请参阅图1所示，本专利技术提供了一种基坑冠梁顶截水构造，包括沿着基坑周边布置并且固定安装在基坑地下室底板1上的地下室连续墙2，地下室连续墙2沿高度方向的顶部
固定安装有冠梁4，冠梁4在基坑的外部固定安装有地下室连续墙导墙3，这里，地下室连续墙导墙3沿基坑高度方向的顶端相对于冠梁4的顶面向外延伸至地面标高处，较优地，地下室连续墙3沿基坑高度方向的底端相对于冠梁4的底面向远离冠梁4的方向延伸，冠梁4的顶面在相对于地下室连续墙导墙3的一侧固定安装有截水沟侧墙13，并且冠梁4远离地下室连续墙导墙3的一侧与基坑顶部的首道支撑5固定连接，需要说明的是，附图中标高11未施工的地下室顶板，标号12为未施工的主楼结构，这里地下室连续墙2在基坑的外部固定安装有止水帷幕8，并且止水帷幕8沿高度方向的顶标高与地下室连续墙导墙3的顶标高相同，与此同时，地下室连续墙2远离止水帷幕8的一侧通过多个传力带7与多个基坑支撑6固定连接，通过在施工时加深地连墙导墙的深度至冠梁底标高以下，其作用是隔绝地下潜水，冠梁顶部截水沟可利用地连墙导墙的侧边做为截水沟的侧墙，然后仅在冠梁靠近基坑一侧设置另一半截水沟侧墙即可形成截水沟，同时在地面标高处远离基坑的一侧开挖有地面排水沟9，且地面标高处在基坑的边缘固定安装有防护栏杆，通过地面排水沟9以及截水沟，可以有效防止地表水流入基坑内，从而隔绝了地下潜水。
[0026]本专利技术基坑冠梁顶截水本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基坑冠梁顶截水构造，其特征在于，包括沿着基坑周边布置且固定安装在所述基坑地下室底板上的地下室连续墙，所述地下室连续墙沿高度方向的顶部固定安装有冠梁，所述冠梁在所述基坑的外部固定安装有地下室连续墙导墙，并且所述地下室连续墙导墙沿所述基坑高度方的顶端相对于所述冠梁的顶面向外延伸至地面标高处，沿所述基坑高度方向的底端相对于所述冠梁的底面向远离所述冠梁的方向延伸，所述冠梁的顶面在相对于所述地下室连续墙导墙的一侧固定安装有截水沟侧墙。2.如权利要求1所述的基坑冠梁顶截水构造，其特征在于：所述地下室连续墙在所述基坑的外部固定安装有止水帷幕，且所述止水帷幕沿高度方向的顶标高与所述地下室连续墙导墙的顶标高相同。3.如权利要求1所述的基坑冠梁顶截水构造，其特征在于：所述冠梁远离所述地下室连续墙导墙的一侧与所述基坑顶部的首道支撑固定连接。4.如权利要求1所述的基坑冠梁顶截水构造，其特征在于：所述地面标高处在远离所述基坑的一侧安装有地面排水沟，且所述地面标高处在所述基坑的边缘...

【专利技术属性】
技术研发人员：王方亮，刘郢龙，曹传伟，史志昂，王武国，
申请(专利权)人：中国建筑第八工程局有限公司，
类型：发明
国别省市：