聚酰胺基薄膜、其制造方法及包含其的覆盖窗和显示设备技术

多个实施方式涉及一种聚酰胺基薄膜及其制造方法，以及包括该聚酰胺基薄膜的覆盖窗和显示设备，其中聚酰胺基薄膜具有优异的光学特性，例如透射率、雾度和黄度，以及优异的机械特性，例如模量和厚度均匀性。聚酰胺基薄膜含有聚酰胺基聚合物，并包括一总XRD峰，该总XRD峰通过将在XRD图上2θ值为(含)10

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】聚酰胺基薄膜、其制造方法及包含其的覆盖窗和显示设备


[0001]多个实施方式涉及光学性能和机械性能优异的聚酰胺基薄膜、其制备方法及包含其的覆盖窗和显示设备。

技术介绍

[0002]聚酰胺基聚合物具有优异的耐摩擦、耐热和耐化学品性能。因此，将它们用于初级电绝缘、涂料、黏合剂、挤出树脂、耐热涂料、耐热板、耐热黏合剂、耐热纤维和耐热薄膜等应用中。
[0003]将聚酰胺用于各种领域。例如，将聚酰胺制成粉末状并用作金属线或磁线的涂层。根据其应用将其与其他添加剂混合。此外，将聚酰胺与含氟聚合物一起用作装饰涂料和防腐涂料。其还起到将含氟聚合物粘合到金属基板上的作用。此外，聚酰胺还用于厨具涂层，凭借其耐热性和耐化学性用作气体分离膜，在天然气井中用于过滤二氧化碳、硫化氢和杂质等污染物。
[0004]近年来，已将聚酰胺开发成薄膜的形式，这种薄膜价格较为低廉，并且具有优异的光学、机械和热学特性。可将此类聚酰胺基薄膜应用于有机发光二极管(OLED)或液晶显示器(LCD)等显示材料中，并且如果实现延迟特性的话，则可将其应用于抗反射膜、补偿膜和延迟膜。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种聚酰胺基薄膜，所述聚酰胺基薄膜包括聚酰胺基聚合物并且具有在XRD图上2θ为10
°
至小于20
°
的部分具有最大值的第一峰，其中第一XRD峰具有6
°
或更小的半峰宽。2.如权利要求1所述的聚酰胺基薄膜，所述聚酰胺基薄膜还具有在2θ为20
°
至25
°
的部分具有最大值的第二XRD峰，其中，所述第一XRD峰的半峰宽相对于所述第一XRD峰的半峰宽与所述第二XRD峰的半峰宽之和的百分比为40％或更低。3.一种聚酰胺基薄膜，所述聚酰胺基薄膜包括聚酰胺基聚合物并且具有在红外光谱中波数为2,950cm
‑1至2,900cm
‑1的部分具有最大值的第一红外峰和在波数为2,875cm
‑1至2,825cm
‑1的部分具有最大值的第二红外峰，其中所述第一红外峰的面积是所述第二红外峰的面积的1.4倍或更小。4.如权利要求3所述的聚酰胺基薄膜，其中所述第一红外峰的面积是所述第二红外峰的面积的0.6倍或更大。5.如权利要求3所述的聚酰胺基薄膜，其中所述第一红外峰的面积是所述第二红外峰的面积的0.8倍至1.2倍。6.如权利要求1或3所述的聚酰胺基薄膜，其中所述聚酰胺基聚合物包括两种或更多种类型的酰胺基重复单元。7.如权利要求6所述的聚酰胺基薄膜，其中所述两种或更多种类型的酰胺基重复单元包括衍生自第一二羰基化合物的第一酰胺基重复单元和衍生自第二二羰基化合物的第二酰胺基重复单元，所述第一二羰基化合物含有的两个羰基之间的角度为160
°
至180
°
，和所述第二二羰基化合物含有的两个羰基之间的角度为80
°
至140
°
。8...

【专利技术属性】
技术研发人员：金汉俊，吴大成，金善焕，李辰雨，金兴植，柳智娟，
申请(专利权)人：爱思开迈克沃有限公司，
类型：发明
国别省市：