模拟IBDV多表位基因的分子设计及其应用制造技术

本发明专利技术涉及模拟ＩＢＤＶ多表位基因的分子设计及其应用，属于生物制药领域。根据对免疫保护有效的抗原表位基序设计合成具有免疫保护功能的模拟ＩＢＤＶ多表位基因ｅｐｉｓ，运用基因工程技术构建重组表达质粒ｐＥＴ－ｅｐｉｓ，使ｅｐｉｓ基因在大肠杆菌中表达，然后以大肠杆菌表达的重组ＩＢＤＶ多表位蛋白ｒＥＰＩＳ作为抗原，加上相应的佐剂制成ＩＢＤＶ表位基因工程疫苗，可用于预防控制传染性法氏囊病。在进行ｅｐｉｓ分子设计时，由于采用线性化序列模拟了ＩＢＤＶ空间构象依赖性表位基序，因此重组大肠杆菌表达的ｒＥＰＩＳ制备工艺简单、成本低、生物安全性高。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
模拟ＩＢＤＶ多表位基因ｅｐｉｓ，其特征在于，该基因的长度为４７１ｂｐ，编码１５５ａａ，命名为ｅｐｉｓ，其序列为ＳＥＱ　ＩＤ　ＮＯ．１。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王永山，王忠灿，唐雨德，谭维国，潘英，施正良，欧阳伟，李银，王晓丽，潘群兴，夏兴霞，诸玉梅，张改平，王选年，陈光华，
申请(专利权)人：江苏省农业科学院，中国人民解放军南京军区军事医学研究所，
类型：发明
国别省市：84[中国|南京]