一种化工废水深度处理净化装置制造方法及图纸

技术编号:37877550 阅读:17 留言:0更新日期:2023-06-15 21:06
本实用新型专利技术属于化工领域,具体涉及一种化工废水深度处理净化装置,该净化装置包括:废水处理贮槽、光源引发装置和光催化接收装置,光催化接收装置包括光催化剂镀膜,光催化接收装置位于废水处理贮槽内部,光源引发装置位于废水处理贮槽外部,并安装于废水处理贮槽顶部开设的通孔处,光源引发装置所辐照的紫外线覆盖整个光催化接收装置的光催化剂镀膜。本实用新型专利技术装置通过光源引发,激发接收设备表面的光催化剂,从而消除废水中的甲醛、氨等杂质,具有设备结构简单、操作简单、生产过程安全稳定、易于操作控制、处理效果好等优点。处理效果好等优点。处理效果好等优点。

【技术实现步骤摘要】
一种化工废水深度处理净化装置


[0001]本技术属于化工领域,具体涉及一种化工废水深度处理净化装置。

技术介绍

[0002]光催化剂是一种以纳米级二氧化钛为代表的具有光催化功能的光半导体材料。在紫外线及可见光的作用下,产生强催化降解功能,能有效消除甲醛、氨等杂质。
[0003]现有的光催化装置所产生的光生活性基团大部分富集在装置附近,催化使用效率低,无法与容器中的废水进行全面接触。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种化工废水深度处理净化装置,该装置通过光源引发,激发接收设备表面的光催化剂,从而消除废水中的甲醛、氨等杂质,具有设备结构简单、操作简单、生产过程安全稳定、易于操作控制、处理效果好等优点。
[0005]实现本技术目的的技术方案:
[0006]一种化工废水深度处理净化装置,所述净化装置包括:废水处理贮槽、光源引发装置和光催化接收装置,光催化接收装置包括光催化剂镀膜,光催化接收装置位于废水处理贮槽内部,光源引发装置位于废水处理贮槽外部,并安装于废水处理贮槽顶部开设的通孔处,光源引发装置所辐照的紫外线覆盖整个光催化接收装置的光催化剂镀膜。
[0007]所述光催化接收装置还包括搅拌桨,搅拌桨位于废水处理贮槽内部,搅拌桨顶端安装于废水处理贮槽正上方,搅拌桨表面电镀光催化剂镀膜。
[0008]所述净化装置还包括电机,电机位于废水处理贮槽外部,固定安装于废水处理贮槽的正上方,搅拌桨顶端与电机固定连接,搅拌桨通过电机驱动搅拌。
[0009]所述搅拌桨包括叶片和搅拌中心轴,叶片固定连接于搅拌中心轴底端,搅拌中心轴顶端与电机固定连接。
[0010]所述光催化剂镀膜的光催化剂为纳米级二氧化钛、氧化锌、氧化钨。
[0011]所述光催化剂镀膜的膜层厚度为1~3cm。
[0012]所述废水处理贮槽材质为不锈钢、铜、镍、蒙乃尔或因科镍。
[0013]所述搅拌桨材质为碳钢、不锈钢、铜或蒙乃尔。
[0014]本技术的有益技术效果在于:
[0015]1、本技术提供的一种化工废水深度处理净化装置将光催化剂低温电镀到搅拌桨表面,产生的光生活性基团被搅拌至溶液的其他区域,最终达到废水处理的彻底化和全面化。
[0016]2、本技术提供的一种化工废水深度处理净化装置采用光源对光催化剂进行照射,产生强催化降解能力,能有效消除废水中的甲醛、氨等杂质,适用于含甲醛、氨等污染物的化工废水.
[0017]3、本技术提供的一种化工废水深度处理净化装置可实现含甲醛、氨等化工废
水处理的彻底化和全面化,具有不消耗化学试剂,减少危险化学品的使用风险和消耗的特点。
[0018]4、本技术提供的一种化工废水深度处理净化装置结构合理,安全性好,装置易于操作和检修维护。适合规模化工业生产。
附图说明
[0019]图1为本技术所提供的一种化工废水深度处理净化装置结构示意图;
[0020]图中:1

废水处理贮槽;2

光源引发装置;3

搅拌桨;4

光催化剂镀膜;5

电机。
具体实施方式
[0021]下面结合附图和实施例对本技术作进一步详细说明。
[0022]如图1所示,本技术提供的一种化工废水深度处理净化装置,包括:废水处理贮槽1、光源引发装置2和光催化接收装置。
[0023]废水处理贮槽1为暂存、处理化工废水的容器,容器上设有废水接收管道、废水转移管道、废气排放管道。废水处理贮槽1材质可以为不锈钢、铜、镍、蒙乃尔、因科镍等。
[0024]光源引发装置2为紫外线发射器,能发射紫外线。
[0025]光催化接收装置包括搅拌桨3和光催化剂镀膜4。
[0026]电机5位于废水处理贮槽1外部,固定安装于废水处理贮槽1的正上方。
[0027]搅拌桨3位于废水处理贮槽1内部,搅拌桨3包括2个叶片和搅拌中心轴,2个叶片固定连接于搅拌中心轴底端,搅拌中心轴顶端与电机5固定连接,搅拌桨3通过电机5驱动搅拌。搅拌桨3材质可以为碳钢、不锈钢、铜、蒙乃尔等。
[0028]搅拌桨3表面低温电镀有光催化剂镀膜4,光催化剂镀膜4的光催化剂为纳米级二氧化钛、氧化锌、氧化钨等材料,光催化剂镀膜4的膜层厚度为1~3cm。
[0029]光源引发装置2位于废水处理贮槽1外部,废水处理贮槽1的顶部开设有通孔,光源引发装置2安装于废水处理贮槽1的通孔处,光源引发装置2所辐照的紫外线覆盖整个搅拌桨3。
[0030]本技术提供的一种化工废水深度处理净化装置的工作原理为:
[0031]光源引发装置激发出紫外线,照射在光催化接收装置的搅拌桨上,搅拌桨通过电机驱动,在化工废水中形成搅拌,搅拌桨上的光催化剂受到紫外线的照射激发,将废水中的水和氧气催化成氧化能力的羟基自由基(

OH)和超氧阴离子自由基(O2‑
)、活性氧(HO2‑
,H2O2)等具有净化能力的光生活性基团,这些光生活性基团具有很强的氧化性,可强效分解甲醛、氨等化工废水中的杂质。同时通过搅拌桨的不断搅拌,将这些活性基团搅拌至溶液的其他区域,光催化剂不断接收紫外线,重新再次催化废水中的水和氧气,最终达到废水处理的彻底化和全面化。
[0032]实施例1
[0033]废水处理贮槽采用不锈钢材质,全体积为2.5m3。光源引发装置激发紫外线,型号为OP124。紫外线直接照射在搅拌桨的光催化剂膜上,搅拌桨由2个叶片和搅拌中心轴构成,搅拌中心轴长可为1m,搅拌叶片为0.3m,搅拌叶片圆周速度一般为10m/s,搅拌叶片表面低温镀以纳米级二氧化钛为主要材质的光催化剂,镀膜层为1cm。搅拌桨驱动电机电压、频率
为380V、50HZ。
[0034]上面结合附图和实施例对本技术作了详细说明,但是本技术并不限于上述实施例,在本领域普通技术人员所具备的知识范围内,还可以在不脱离本技术宗旨的前提下作出各种变化。本技术中未作详细描述的内容均可以采用现有技术。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种化工废水深度处理净化装置,其特征在于,所述净化装置包括:废水处理贮槽(1)、光源引发装置(2)和光催化接收装置,光催化接收装置包括光催化剂镀膜(4),光催化接收装置位于废水处理贮槽(1)内部,光源引发装置(2)位于废水处理贮槽(1)外部,并安装于废水处理贮槽(1)顶部开设的通孔处,光源引发装置(2)所辐照的紫外线覆盖整个光催化接收装置的光催化剂镀膜(4)。2.根据权利要求1所述的一种化工废水深度处理净化装置,其特征在于,所述光催化接收装置还包括搅拌桨(3),搅拌桨(3)位于废水处理贮槽(1)内部,搅拌桨(3)顶端安装于废水处理贮槽(1)正上方,搅拌桨(3)表面电镀光催化剂镀膜(4)。3.根据权利要求2所述的一种化工废水深度处理净化装置,其特征在于,所述净化装置还包括电机(5),电机(5)位于废水处理贮槽(1)外部,固定安装于废水处理贮槽(...

【专利技术属性】
技术研发人员:李晓杰殷学军敖海麒李罗西韩悌刚
申请(专利权)人:四川红华实业有限公司
类型:新型
国别省市:

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