一种用于丝网直接制版机的光源光路制造技术

技术编号:37865902 阅读:7 留言:0更新日期:2023-06-15 20:55
本发明专利技术提供了一种用于丝网直接制版机的光源光路,包括:第一UVLED光源、第二UVLED光源、第一TIR全反棱镜、第二TIR全反棱镜和DMD光学微镜阵列;第一UVLED光源经第一汇聚准直透镜组入射至第一TIR全反棱镜,出射光束入射至第二TIR全反棱镜,反射光束入射至DMD光学微镜阵列;第二UVLED光源经第二汇聚准直透镜组入射至第一TIR全反棱镜,出射光束入射至第二TIR全反棱镜,反射光束入射至DMD光学微镜阵列;第一UVLED光源和第二UVLED光源的中心波长为两种不同波段的组合。本发明专利技术整体使用成本降低,适用的感光胶波段范围广,感光胶固化牢靠,耐印率更高。印率更高。

【技术实现步骤摘要】
一种用于丝网直接制版机的光源光路


[0001]本专利技术涉及丝网制版
,具体涉及一种用于丝网直接制版机的光源光路。

技术介绍

[0002]目前常见的丝网制版技术一是晒版机,需要使用菲林片,晒版光源的波段范围以及感光胶的感光波长范围较宽,另一种技术为CTS(丝网激光直接制版机),不需要菲林片,使用的光源是半导体激光器,晒版光源的波段范围以及感光胶的感光波长范围较窄。
[0003]晒版机使用光源波长在350nm

450nm范围内,配套的感光胶吸收波长范围为350

420nm,由于晒版机使用时间长的原因,市面上配套的感光胶种类和品牌比较多也比较完善,基于这些感光胶的丝网印刷版的相关印刷工艺也比较完善,如印刷耐印率就较好,所以这种感光胶的受众面更广。
[0004]CTS(丝网直接制版机)使用光源为半导体激光器波段范围为400

410nm,配套的感光胶吸收波长范围为400

410nm,CTS(丝网直接制版机)技术出现的比较晚,相关配套的感光胶不是很多,感光胶的其它参数不很完善,基于这种感光胶的后续印刷工艺也不是很完善,所以大多数用户还仍沿用原来的感光胶,来保证后续印刷和制版工艺的稳定。
[0005]基于上述现有技术的实际情况,制版技术使用CTS技术,感光胶使用晒版机使用的感光胶,是市场的主流需求,但是这种组合存在晒版机感光胶吸收波段和CTS光源波段不匹配的问题,表现比较突出的就是耐印率比较低,满足不了用户需求。
>[0006]因此,如何提供一种能够提升与感光胶吸收波长的匹配性的丝网直接制版机光源光路是本领域技术人员亟需解决的问题。

技术实现思路

[0007]有鉴于此,本专利技术提出了一种用于丝网直接制版机的光源光路,解决现有技术中CTS的半导体激光光源波长跟传统晒版机感光胶的吸收波长不匹配的技术问题。
[0008]为了实现上述目的,本专利技术采用如下技术方案:
[0009]本专利技术公开了一种用于丝网直接制版机的光源光路,包括:第一UVLED光源、第二UVLED光源和DMD光学微镜阵列;其中,
[0010]所述第一UVLED光源经第一传输光路入射至所述DMD光学微镜阵列,形成第一UVLED光源光路;
[0011]所述第二UVLED光源经第二传输光路入射至所述DMD光学微镜阵列,形成第二UVLED光源光路;
[0012]所述第一UVLED光源和第二UVLED光源的中心波长为两种不同波段的组合。
[0013]优选的,所述第一UVLED光源光路的光束和所述第二UVLED光源光路的光束经过所述DMD光学微镜阵列调制反射后,进入成像系统。
[0014]优选的,还包括第一TIR全反棱镜和第二TIR全反棱镜;其中,
[0015]所述第一UVLED光源经第一汇聚准直透镜组入射至所述第一TIR全反棱镜,出射光
束经反射镜入射至所述第二TIR全反棱镜的反射面,反射光束入射至所述DMD光学微镜阵列,形成第一UVLED光源光路;
[0016]所述第二UVLED光源经第二汇聚准直透镜组入射至所述第一TIR全反棱镜,出射光束经所述反射镜入射至所述第二TIR全反棱镜的反射面,反射光束入射至所述DMD光学微镜阵列,形成第二UVLED光源光路。
[0017]优选的,所述中心波长包括365nm、385nm、395nm或405nm。
[0018]优选的,所述第一UVLED光源的波长范围为350
ˉ
380nm,所述第二UVLED光源的波长范围为390
ˉ
420nm。
[0019]优选的,所述第一UVLED光源和第二UVLED光源每个波段的UVLED功率单独可调整。
[0020]优选的,所述第一汇聚准直透镜组包括沿光路传播方向依次设置的第一汇聚准直镜头、第一光棒、第二汇聚准直镜头和第三汇聚准直镜头。
[0021]优选的,所述第二汇聚准直透镜组包括沿光路传播方向依次设置的第四汇聚准直镜头、第二光棒、第五汇聚准直镜头和第六汇聚准直镜头。
[0022]优选的,所述第一UVLED光源光路的光束和所述第二UVLED光源光路的光束经过所述DMD光学微镜阵列调制反射后,穿透所述第二TIR全反棱镜,进入成像系统。
[0023]经由上述的技术方案可知,与现有技术相比,本专利技术的有益效果包括:
[0024]相较传统晒版机技术,本专利技术更加环保,且能耗更低:
[0025]传统晒版机使用的菲林片含有过高的有害重金属对环境污染非常严重,会直接危害长期接触使用者的身体健康;本专利技术适用的CTS摒弃了菲林片,因此更加环保,大大降低了对使用者的危害;
[0026]传统晒版机绝大部分能源被灯管(金属卤素灯,如碘镓灯)所产生的热能和部分冷系统损耗掉,能耗较高;本专利技术LED光源比传统的金属卤素灯晒版在电能消耗上节省90%以上;
[0027]相较现有CTS光源技术,本专利技术成本更低,且具有更大的感光胶匹配范围:
[0028]本专利技术以UVLED光源替代传统的激光光源,成本大幅降低,仅是半导体激光器成本的10%,
[0029]本专利技术采用两种波段的UVLED光源耦合进CTS光学系统,可以跟传统晒版机使用的感光胶完美匹配,并且能够直接沿用现有的印刷工艺,无需改变后续印刷工艺,工艺改造成本低,为环保的CTS技术替代不环保的晒版机技术提供了技术支持,使得本专利技术具有更高的耐印率。
附图说明
[0030]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据提供的附图获得其他的附图;
[0031]图1为本专利技术一种实施例提供的用于丝网直接制版机的光源光路的原理图。
具体实施方式
[0032]下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。
[0033]如图1所示,本专利技术实施例公开了一种用于丝网直接制版机的光源光路,包括:第一UVLED光源1、第二UVLED光源9和DMD光学微镜阵列13;其中,
[0034]第一UVLED光源1经第一传输光路入射至DMD光学微镜阵列13,形成第一UVLED光源1光路;
[0035]第二UVLED光源9经第二传输光路入射至DMD光学微镜阵列13,形成第二UVLED光源9光路;
[0036]第一UVLED光源1和第二UVLED光源9的中心波长为两种不同波段的组合,即第一UVLED光源1的波段区别于第二UVLED光源9的波段。
[0037]在一个实施例本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于丝网直接制版机的光源光路,其特征在于,包括:第一UVLED光源、第二UVLED光源和DMD光学微镜阵列;其中,所述第一UVLED光源经第一传输光路入射至所述DMD光学微镜阵列,形成第一UVLED光源光路;所述第二UVLED光源经第二传输光路入射至所述DMD光学微镜阵列,形成第二UVLED光源光路;所述第一UVLED光源和第二UVLED光源的中心波长为两种不同波段的组合。2.根据权利要求1所述的用于丝网直接制版机的光源光路,其特征在于,还包括第一TIR全反棱镜和第二TIR全反棱镜;其中,所述第一UVLED光源经第一汇聚准直透镜组入射至所述第一TIR全反棱镜,出射光束经反射镜入射至所述第二TIR全反棱镜的反射面,反射光束入射至所述DMD光学微镜阵列,形成第一UVLED光源光路;所述第二UVLED光源经第二汇聚准直透镜组入射至所述第一TIR全反棱镜,出射光束经所述反射镜入射至所述第二TIR全反棱镜的反射面,反射光束入射至所述DMD光学微镜阵列,形成第二UVLED光源光路。3.根据权利要求1所述的用于丝网直接制版机的光源光路,其特征在于,所述中心波长包括:365nm、38...

【专利技术属性】
技术研发人员:石俊民
申请(专利权)人:北京弘浩千瑞科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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