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一种异质结构及其制备方法和应用技术

技术编号:37864067 阅读:31 留言:0更新日期:2023-06-15 20:53
本发明专利技术属于光催化材料技术领域,具体涉及一种异质结构及其制备方法和应用。该异质结构该异质结构是通过Cu2O与Cu复合,然后与GaON复合形成的Cu2O/Cu/GaON异质结构。该异质结构增加了电荷的转移,同时Cu中间层极大地增加了对光的吸收效率,其较Cu2O材料的催化活性大幅度增加,光解水效率比较高。光解水效率比较高。光解水效率比较高。

【技术实现步骤摘要】
一种异质结构及其制备方法和应用


[0001]本专利技术属于光催化材料
,具体涉及一种异质结构及其制备方法和应用。

技术介绍

[0002]随着化石燃料的大量消耗,随之带来的是严峻的环境问题和能源问题,故开发清洁、环境友好、再生能源迫在眉捷。氢能具有能量密度高、产物清洁、燃烧热值高等优点,被认为是传统的化石燃料的理想替代者。在众多的制备的方法中,光解水制氢工艺简单,产物清洁,是一种获得高效的氢气的途径,但其反应动力学缓慢,制备过程会消耗额外的能量,故高活性催化剂的加入是关键。
[0003]目前,贵金属的催化性能是最好的,但是由于价格昂贵和贮量少,妨碍了其商业化应用。开发资源丰富、高效、稳定性突出等的非金贵属催化剂代替贵金属,在未来可实现大规模生产。Cu2O是一种可以吸收可见光的P型半导体,具有无毒、合成方法多样且可控等优点,但由于光催化活性较弱,限制了Cu2O在环境、能源领域的应用。特别是Cu2O的表面会形成一层具有很大能垒的超薄膜,在光照时不利于电荷的产生和转移。构筑异质结通常是提高光催化活性的有效手段,例如Cu2O与金属、半导体、本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种异质结构,其特征在于,包括Cu2O层、Cu层和GaON层,其中,Cu2O层与Cu层以免连接,Cu层另一面和GaON层连接。2.根据权利要求1所述的异质结构,其特征在于,Cu层的厚度为0.1μm

1μm。3.根据权利要求1或2所述的异质结构,其特征在于,还包括基板,基板与Cu2O层连接。4.根据权利要求3所述的三元异质结构,其特征在于,基板包括FTO基板。5.权利要求1所述的异质结构的制备方法,其特征在于,包括:在Cu2O层上生长Cu层形成Cu2O/Cu异质结构;然后在Cu2O/Cu异质结上生长GaON形成Cu2O/Cu/GaON异质结构。6.权利要求3或4所述的异质结构的制...

【专利技术属性】
技术研发人员:马宏平
申请(专利权)人:复旦大学
类型:发明
国别省市:

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