一种微纳米透镜阵列的制备方法技术

本发明专利技术涉及微纳器件制备技术和软刻蚀技术领域，特指一种应用软刻蚀技术制备微纳米透镜阵列的技术方法及工艺过程，具体的制备方法是：首先在模板上通过常规方法制备出微纳孔阵列；然后对制备出的模板进行硅烷化处理；接着滴加成型材料ＰＤＭＳ于模板表面，之后将涂有ＰＤＭＳ的模板置于真空干燥箱中，使ＰＤＭＳ液体成型；固化ＰＤＭＳ；最后分离模板和ＰＤＭＳ，得到的ＰＤＭＳ薄膜即带有微透镜阵列。本发明专利技术方法解决了透镜质量与微孔制备的矛盾，透镜焦距易于控制，制备工艺简单，设备要求较低。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种微纳米透镜阵列的制备方法，其特征在于，首先在模板上通过常规方法制备出微纳孔阵列，对制备出的模板进行硅烷化处理；接着滴加成型材料ＰＤＭＳ于模板表面，之后将涂有ＰＤＭＳ的模板置于真空干燥箱中，抽真空使ＰＤＭＳ成型为凹形界面；稳定后固化ＰＤＭＳ；最后分离模板和ＰＤＭＳ，得到的ＰＤＭＳ薄膜即带有微透镜阵列。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：周明，李健，李保家，叶霞，蔡兰，
申请(专利权)人：江苏大学，
类型：发明
国别省市：32[中国|江苏]