一种半导体离子注入机的智能化作业的系统和方法技术方案

一种半导体离子注入机的智能化作业系统和方法，所述系统包括：半导体离子注入机、KVM切换器、搭载RPA流程自动化模块的远程操控服务器或电脑；所述离子注入机能够对半导体工艺进行离子注入，被单独操作运行作业；所述KVM切换器用于把离子注入机切换到远程操控端服务器或电脑，通过网络通讯将离子注入机和远程操控端的服务器或电脑串联起来，远程操控服务器或电脑通过KVM切换器控制离子注入机的远程界面；所述RPA流程自动化模块搭载到远程操控端服务器或电脑，包括OCR文字识别单元、流程编辑单元、CV视觉处理单元、Dashboard单元。本发明专利技术大幅降低了人工工作的强度和时长、作业时的辐射风险，提升半导体离子注入机的作业效率。提升半导体离子注入机的作业效率。提升半导体离子注入机的作业效率。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体离子注入机的智能化作业的系统和方法


[0001]本专利技术涉及半导体器件加工
，具体涉及一种半导体离子注入机的智能化作业系统和方法。

技术介绍

[0002]半导体芯片离子注入机的注入工艺直接关系到芯片的最终性能，属于半导体最核心的主设备之一，但受限于离子注入机的作业方式，它只能单片作业，效率较低，单台价格又十分昂贵，严重制约半导体芯片的产能。
[0003]在离子注入机作业前，需要对离子注入机离子源部分进行暖机，并提前开启并加至作业时的束流，以确保离子源工作在稳定束流的状态，保证作业的均匀性，设备暖机过程一般需要1
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2小时，暖机后才能开始注入作业。操作人员到岗后的第一时间就需要立即开启离子源进行暖机，最大程度的保证一天内离子注入机的有效工作时长足够长。
[0004]离子注入机在注入作业时，会伴随着高能量辐射危害，经常需要厚厚的屏蔽墙体进行屏蔽，操作人员在作业时，需要在注入机的显示屏幕上进行束流开启、晶圆ID和对应加工程序的选取、参数的调整、异常处置、束流关闭等操作，不可避免的长时间接触离子注入机本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体离子注入机的智能化作业系统，其特征在于，所述系统包括：半导体离子注入机、KVM切换器、搭载RPA流程自动化模块的远程操控服务器，KVM：键盘视频鼠标，RPA：机器人流程自动化；所述离子注入机用于对半导体工艺进行离子注入；所述KVM切换器用于把离子注入机切换到远程操控端服务器，离子注入机和远程操控服务器进行通讯，远程操控服务器通过KVM切换器控制离子注入机的远程界面；所述RPA流程自动化模块搭载到远程操控服务器，包括OCR文字识别单元、流程编辑单元、CV视觉处理单元、Dashboard单元：所述OCR文字识别单元是用字符识别方法将形状翻译成计算机文字的单元模块；流程编辑单元是将流程中各个步骤进行设置、编辑和逻辑串联的单元模块，实现对各个步骤的衔接和逻辑的判定；CV视觉处理单元是利用图像识别模型与同步检测到的图像进行比对，方便计算机识别并做出判断；Dashboard单元用于将RPA流程各个界面进行集中展示和管理。2.根据权利要求1所述的半导体离子注入机的智能化作业系统，其特征在于，所述半导体离子注入机是大束流离子注入机、或中低束流离子注入机、或高能离子注入机。3.根据权利要求1所述的半导体离子注入机的智能化作业系统，其特征在于，所述RPA流程自动化模块根据远程操控服务器时间变化，定时开启离子注入机暖机流程。4.根据权利要求1所述的半导体离子注入机的智能化作业系统，其特征在于，所述RPA流程自动化模块用于根据设定，执行工程师设定束流调整以及不同的作业程序，RPA流程自动化模块还用于监控晶圆位置变化和单片晶圆的作业进度条。5.根据权利要求1所述的半导体离子注入机的智能化作业系统，其特征在于，所述RPA流程自动化模块在不同晶圆变更程序作业时，注入机设备自动停止运行，RPA流程自动化模块在界面特定坐标下触发选择程序的窗口，在弹出的窗口下根据坐标位置选择需要执行的稳定束流程序，在一定时间内没有检测到新的报错时，RPA流程自动化模块根据坐标位置开启继续作业...

【专利技术属性】
技术研发人员：阎海亮，李玲，魏晓光，朱涛，李青岭，李嘉琳，王锐，杨霏，汪玉，王鑫，
申请(专利权)人：国网安徽省电力有限公司电力科学研究院，
类型：发明
国别省市：