【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
自组装单层膜表面制备BiFeO↓[3]薄膜图案化的方法,其特征在于,按照以下步骤: (1)制备洁净基片; (2)制备OTS-SAMs基体:首先把OTS和甲苯按体积分数比1∶99的比例配制OTS-甲苯溶液,将洁净基片浸入OTS-甲 苯溶液中浸泡,浸泡后的基片用丙酮在超声波下清洗后并用氮气吹干,置于120℃下保温5-10min去掉残留杂质得到OTS-SAMs基体; (3)制备图案化SAMs:将OTS-SAMs基体在光掩膜的覆盖下,在紫外光下照射120-240min ,得到图案化SAMs;紫外光λ=184.9nm; (4)制备前驱体溶液:将Fe(N ...
【技术特征摘要】
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