一种对温度场和电磁波同时有效的双场片上隐身结构制造技术

技术编号:37851025 阅读:17 留言:0更新日期:2023-06-14 22:41
本发明专利技术涉及电磁波或温度场的隐身结构,现有结构中有很多结构可以实现单独对电磁波或者温度场的隐身效果,然而并没有同时可以对温度场和电磁波有效的双物理场隐身结构,本发明专利技术提供一种对温度场和电磁波同时有效的双场片上隐身结构,包括对称设置的两个隐藏区域边框以及两个隐藏区域边框围成的被隐藏区域,隐藏区域边框通过金属片和聚苯乙烯片交错排列填充,工作时,入射到片上隐身结构入射面的热流或者电磁波都能够被该结构引导绕过被隐藏区域后继续按照原先的方向传播,进而实现了被隐藏区域同时对电磁波和温度场的双场片上隐身;本发明专利技术用于片上热能与电磁辐射的管理、电子元件间的电磁兼容调控等场合。件间的电磁兼容调控等场合。件间的电磁兼容调控等场合。

【技术实现步骤摘要】
一种对温度场和电磁波同时有效的双场片上隐身结构


[0001]本专利技术涉及电磁波或温度场的隐身结构,更具体地说,涉及一种对温度场和电磁波同时有效的双场片上隐身结构。

技术介绍

[0002]近年来,不同物理场的隐身结构被逐个提出,并在各个领域得到了相应应用。电磁波的隐身结构可以让探测波绕过被隐藏区域,导致了探测波并没有接触到被隐藏的物体,同时对外界的探测波没有产生任何扰动,进而实现了电磁波隐身的效果。类似地,温度场的隐身结构可以让热流绕过被隐藏区域,使得被隐藏区域内温度场梯度变化为零,同时对外界的温度场不产生任何扰动,进而实现了温度场的隐身效果。虽然已经有很多结构可以实现单独对电磁波或者温度场的隐身效果,然而并没有同时可以对温度场和电磁波有效的双物理场隐身结构。

技术实现思路

[0003]针对现有技术的不足,本专利技术提出了一种可实现对片内的温度场与其表面的电磁波同时隐身的双场片上隐身结构,解决了目前只有对电磁波或者温度场单独一个物理场隐身的问题,可实现片内温度场与表面电磁波的同时隐身。该结构可用于片上热能与电磁辐射的协同调控、电本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种同时对电磁波和温度场有效的双场片上隐身结构,其特征在于,包括背景平板(1.6)和嵌入背景平板(1.6)的双场片上隐身结构,所述双场片上隐身结构为片状结构,包括对称设置的两个隐藏区域边框以及两个隐藏区域边框围成的被隐藏区域(1.3),两个隐藏区域边框连接端形成对称的两个区域分别为入射面和出射面。2.根据权利要求1所述的同时对电磁波和温度场有效的双场片上隐身结构,其特征在于,所述隐藏区域边框通过金属片(1.1)和聚苯乙烯片(1.2)交错排列填充,两个隐藏区域边框内的金属片(1.1)和聚苯乙烯片(1.2)的排列顺序关于被隐藏区域(1.3)对称。3.根据权利要求2所述的同时对电磁波和温度场有效的双场片上隐身结构,其特征在于,所述金属片(1.1...

【专利技术属性】
技术研发人员:孙非马晓敏刘一超王建刚
申请(专利权)人:太原理工大学
类型:发明
国别省市:

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