【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种射流等离子体消毒装置，其特征在于：包括一端接地的高压电源（７）、与高压电源（７）连接的第一金属电极（１）和接地的第二金属电极（４）；所述第一金属电极（１）内侧面覆盖有第一绝缘介质（２），第二金属电极（４）内侧面覆盖有第二绝缘介质（５），第一绝缘介质（２）与第二绝缘介质（５）相对设置并存在间隙，间隙对应于器皿（３）的一端为等离子体射流口；气体（６）进入间隙并由等离子体射流口射向器皿（３）内盛放的医疗器械，医疗器械位于等离子体射流口下方０．５－３ｃｍ处。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张冠军，马跃，石兴民，许桂敏，
申请(专利权)人：西安交通大学，
类型：发明
国别省市：87[中国|西安]
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