一种防污染的电子分析天平制造技术

本实用新型专利技术公开了一种防污染的电子分析天平，该电子分析天平旨在解决现在的电子分析天平清洁表面残留材料和脏污时需要一定时间，影响设备的继续使用的技术问题，该电子分析天平包括外壳体、设置于外壳体内侧的擦洗机构、安装于外壳体上端的机座、设置于机座中间的载料平台，该电子分析天平采用上下对称设置的载料平台，通过旋转电机驱动其进行一百八十度翻转，可以切换使用不同的载料平台使用，清洗机构处于外壳体内部对处于下方的载料平台进行清洁不影响上部载料平台的使用，提高电子分析天平的使用效率，有利于大批量的材料连续检测，载料平台上的脏污经过水洗和烘干操作，在外壳体的封闭环境内进行清理，清洁效果好。清洁效果好。清洁效果好。

【技术实现步骤摘要】
一种防污染的电子分析天平


[0001]本技术属于电子分析天平领域，具体涉及一种防污染的电子分析天平。

技术介绍

[0002]电子天平以其操作简单、称量准确可靠等优点,迅速在工业生产、科研、贸易等方面得到广泛应用，电子分析天平使用一段时间后，需要进行定期检定，而现有的电子分析天平在不甚将物料倾撒出来，一些灰尘杂质粘附在称量平台上后，不能自动清洁，需要进行人工清洁，耽误工作人员的时间。
[0003]现有公告号为CN214173533U的中国技术专利，其公开了一种可进行自清洁的电子分析天平，包括电子分析天平本体，所述电子分析天平本体的顶部固定连接有防护罩，所述防护罩的内部固定连接有驱动组件，所述驱动组件的底部固定连接有连接杆，所述连接杆的底端设置有擦洗组件，所述擦洗组件包括套管和第一卡杆，所述套管套接于所述连接杆的底端，本技术涉及电子分析天平
该可进行自清洁的电子分析天平，通过驱动组件带动固定板等在防护罩内部左右移动，便可通过吸尘管将电子分析天平本体的表面进行称量物及灰尘等的吸走，不需要人工进行清洁，节省了工作人员的时间，也方便对海绵块进行更换，保证海绵块的清洁效果。但是这种自清洁的电子分析天平在使用时，需要一定的时间对表面清洁，不方便连续对材料进行分析测定，面对大量的材料分批分析效率较低。
[0004]因此，针对上述电子分析天平表面清洁脏污需要一定时间，不利于材料的批量化分析测定的情况，开发一种新型电子分析天平，利用搭载有两组分析检测模块的材料分析平台，可以双面使用，清洁装置隐藏在设备的底部，分析材料的过程中不断切换使用上下两侧的分析平面，并在粘附有脏污物质的平台表面切换朝向下方时同步进行清洁，不影响电子分析天平的正常使用。

技术实现思路

[0005](1)要解决的技术问题
[0006]针对现有技术的不足，本技术的目的在于提供一种防污染的电子分析天平，该电子分析天平旨在解决现在的电子分析天平清洁表面残留材料和脏污时需要一定时间，影响设备的继续使用的技术问题。
[0007](2)技术方案
[0008]为了解决上述技术问题，本技术提供了这样一种防污染的电子分析天平，该电子分析天平包括外壳体、设置于所述外壳体内侧的擦洗机构、安装于所述外壳体上端的机座、设置于所述机座中间的载料平台，所述外壳体内侧安装有供水机构，所述外壳体后端安装有热风机构，所述机座中间设置有与所述载料平台直径相匹配的活动口，所述载料平台上下对称设置有两组，所述载料平台之间安装有分析模块，所述分析模块和所述载料平台设置于所述活动口内侧。
[0009]使用本技术方案的一种防污染的电子分析天平时，使用人使用载料平台对上部的材料进行称量与分析之后，将材料回收，该载料平台上残留部分脏污杂质，使用人通过控制台控制旋转电机启动，令载料平台翻转一百八十度，使得原本朝向下方的载料平台朝向上方，而残留有脏污杂质的载料平台朝向下方并处于外壳体内，然后再通过控制台控制供水机构向擦洗机构上的海绵垫喷出清水润湿，然后擦洗机构中的垂直油缸和驱动电机控制海绵垫纵向上移与载料平台底面接触并高速转动，对其进行擦洗，擦洗结束后，擦洗机构复位，热风机构启动对载料平台进行烘干，清洁的同时，上部的载料平台同时对另一批材料进行分析称量。
[0010]进一步的，所述外壳体内壁一周设置有承托台，所述机座设置于所述承托台上侧，所述机座与所述擦洗机构之间的高度大于载料平台的半径长度。载料平台翻转的同时，其边缘不会与下部的擦洗机构和供水机构之间发生干涉。
[0011]进一步的，所述外壳体左右两侧开设有一号滑槽，所述机座左右两端开设有二号滑槽，所述一号滑槽内侧活动连接有锁定架，所述锁定架上端设置于所述二号滑槽内侧，锁定架通过沿一号滑槽和二号滑槽水平移动的方式将机座锁定在外壳体上。
[0012]进一步的，所述外壳体右端设置有通风口，所述外壳体前端安装有控制台，所述控制台与所述擦洗机构、所述供水机构、所述热风机构和所述分析模块之间均为电控连接，擦洗机构、供水机构、热风机构的启停控制单元均通过控制台上的电脑界面控制。
[0013]进一步的，所述擦洗机构包括垂直油缸、驱动电机和安装于垂直油缸和驱动电机的动力执行元件上的平台结构，所述擦洗机构顶端设置有通过魔术贴粘附固定的海绵垫，擦洗机构可以纵向升降和水平转动，通过海绵垫与载料平台之间的摩擦作用清洁脏污。
[0014]进一步的，所述机座前后两端开设有活动孔，所述分析模块前后两端安装有活动轴，所述活动轴设置于所述活动孔内侧，所述机座前端安装有旋转电机，所述活动轴安装于所述旋转电机的动力执行元件上，旋转电机通过动力执行元件带动活动轴转动，使载料平台往复翻转。
[0015](3)有益效果
[0016]与现有技术相比，本技术的有益效果在于：本技术的一种防污染的电子分析天平采用上下对称设置的载料平台，通过旋转电机驱动其进行一百八十度翻转，可以切换使用不同的载料平台使用，清洗机构处于外壳体内部对处于下方的载料平台进行清洁不影响上部载料平台的使用，提高电子分析天平的使用效率，有利于大批量的材料连续检测，载料平台上的脏污经过水洗和烘干操作，在外壳体的封闭环境内进行清理，清洁效果好。
附图说明
[0017]图1为本技术一种防污染的电子分析天平具体实施方式的组装结构示意图；
[0018]图2为本技术一种防污染的电子分析天平具体实施方式的外壳体内部结构示意图；
[0019]图3为本技术一种防污染的电子分析天平具体实施方式的机座结构示意图；
[0020]图4为本技术一种防污染的电子分析天平具体实施方式的载料平台结构示意图。
[0021]附图中的标记为：1、外壳体；2、擦洗机构；3、供水机构；4、热风机构；5、机座；6、活动口；7、分析模块；8、载料平台；9、承托台；10、一号滑槽；11、二号滑槽；12、锁定架；13、通风口；14、控制台；15、海绵垫；16、活动孔；17、活动轴；18、旋转电机。
具体实施方式
[0022]本具体实施方式是用于一种防污染的电子分析天平，其组装结构示意图如图1所示，外壳体1内部结构示意图如图2所示，机座5结构示意图如图3所示，载料平台8结构示意图如图4所示，该电子分析天平包括外壳体1、设置于外壳体1内侧的擦洗机构2、安装于外壳体1上端的机座5、设置于机座5中间的载料平台8，外壳体1内侧安装有供水机构3，外壳体1后端安装有热风机构4，机座5中间设置有与载料平台8直径相匹配的活动口6，载料平台8上下对称设置有两组8，载料平台8之间安装有分析模块7，分析模块7和载料平台8设置于活动口6内侧。
[0023]针对本具体实施方式，分析模块7设置有两组，分别电连两侧的载料平台8，载料平台8上具有压力感应模块，材料放置其上则相对应的分析模块7自动运行，对该材料进行称量和检测。
[0024]其中，外壳体1内壁一周设置有承托台9，机座5设置于承托台9上侧，机座5与擦洗机构本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种防污染的电子分析天平，该电子分析天平包括外壳体、设置于所述外壳体内侧的擦洗机构、安装于所述外壳体上端的机座、设置于所述机座中间的载料平台；其特征在于，所述外壳体内侧安装有供水机构，所述外壳体后端安装有热风机构，所述机座中间设置有与所述载料平台直径相匹配的活动口，所述载料平台上下对称设置有两组，所述载料平台之间安装有分析模块，所述分析模块和所述载料平台设置于所述活动口内侧。2.根据权利要求1所述的一种防污染的电子分析天平，其特征在于，所述外壳体内壁一周设置有承托台，所述机座设置于所述承托台上侧，所述机座与所述擦洗机构之间的高度大于载料平台的半径长度。3.根据权利要求1所述的一种防污染的电子分析天平，其特征在于，所述外壳体左右两侧开设有一号滑槽，所述机座左右两端开设有二号滑槽，所述一号滑槽内...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘汉泉，吴淏伟，黄名忠，陈俊新，李屹，郭燕春，
申请(专利权)人：赣州市综合检验检测院，
类型：新型
国别省市：