一种聚酰亚胺清洗液的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种聚酰亚胺清洗液的制备方法。本发明专利技术的制备方法包括如下步骤：将清洗液的原料混合，即可，清洗液的原料包括下列质量分数的组分：30％

【技术实现步骤摘要】
一种聚酰亚胺清洗液的制备方法


[0001]本专利技术涉及一种酰亚胺清洗液的制备方法。

技术介绍

[0002]在半导体器件制造过程中，当在晶圆上形成器件结构和互连结构等后会在晶圆上形成阻挡层以保护内部的器件。在目前的技术中，聚酰亚胺(polyimide)由于具有很好的耐高温、低温、耐辐射性能和优良的电气绝缘性能，常用来作为阻挡层。然而在晶圆上形成聚酰亚胺的过程中由于各种异常，某些时候形成的聚酰亚胺阻挡层不符合要求，因此需要去除聚酰亚胺阻挡层，并重新形成符合要求的聚酰亚胺阻挡层。
[0003]在目前的工艺中一般使用可溶性有机溶剂和氧等离子体去除聚酰亚胺。例如厚度在60微米(um)的聚酰亚胺阻挡层去除时，首先通过有机溶剂处理100分钟来去除部分聚酰亚胺阻挡层，例如去除50um的聚酰亚胺阻挡层；接着通过灰化(Ash)刻蚀去除剩余的聚酰亚胺阻挡层，并通过光学检测观察聚酰亚胺阻挡层是否去除干净。若有灰化刻蚀的残余物，还需另外清洗，并通过光学检测观察灰化刻蚀的残余物是否去除干净。这些方法存在处理时间长，并且容易损伤晶圆表面的铝焊盘及介质层的问题，进而本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种聚酰亚胺清洗液的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：将清洗液的原料混合，即可，所述清洗液的原料包括下列质量分数的组分：30％
‑
80％有机溶剂、0.001％
‑
0.01％还原型谷胱甘肽、0.001％
‑
0.25％半胱氨酸、1％
‑
5％醇胺、1％
‑
5％有机碱、0.01％
‑
2％螯合剂、0.01％
‑
2％缓蚀剂、0.5％
‑
3％羧酸铵、0.01
‑
1％表面活性剂、0.01％
‑
2％流平剂和水，水补足余量；各组分质量分数之和为100％。2.如权利要求1所述聚酰亚胺清洗液的制备方法，其特征在于：所述聚酰亚胺清洗液满足如下1个或多个条件：(1)所述聚酰亚胺清洗液，所述有机溶剂为亚砜类溶剂、砜类溶剂、咪唑烷酮类溶剂、吡咯烷酮类溶剂、咪唑啉酮类溶剂、酰胺类溶剂和醇醚类溶剂中的一种或多种；优选亚砜类溶剂、砜类溶剂和吡咯烷酮类溶剂中的一种或多种；(2)所述聚酰亚胺清洗液，所述醇胺为单乙醇胺、N
‑
甲基乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、异丙醇胺、乙基二乙醇胺、N，N
‑
二乙基乙醇胺、N
‑
(2
‑
氨基乙基)乙醇胺和二甘醇胺中的一种或多种；(3)所述聚酰亚胺清洗液，所述有机碱为四甲基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、苄基三甲基氢氧化铵、胆碱、(2
‑
羟基乙基)三甲基氢氧化铵、三(2
‑
羟乙基)甲基氢氧化铵、单乙醇胺、二甘醇胺、三乙醇胺、异丁醇胺、异丙醇胺、四丁基氢氧化鏻和四甲基胍中的一种或多种；(4)所述聚酰亚胺清洗液，所述螯合剂为1,2
‑
环己二胺
‑
N,N,N',N'
‑
四乙酸、乙二胺四乙酸、次氮基三乙酸、二亚乙基三胺五乙酸、1,4,7,10
‑
四氮杂环十二烷
‑
1,4,7,10
‑
四乙酸、乙二醇四乙酸、1,2
‑
双(邻氨基苯氧基)乙烷
‑
N,N,N',N'
‑
四乙酸、N
‑
{2
‑
[双(羧甲基)氨基]乙基}
‑
N
‑
(2
‑
羟乙基)甘氨酸、乙二胺
‑
N,N'
‑
双(2
‑
羟基苯乙酸)、二氧杂八亚甲基二氮基四乙酸和三亚乙基四胺六乙酸中的一种或多种；(5)所述聚酰亚胺清洗液，所述缓蚀剂为苯并三唑、甲苯三唑、5
‑
苯基
‑
苯并三唑、5
‑
硝基
‑
苯并三唑、3
‑
氨基
‑5‑
巯基
‑
1,2,4
‑
三唑、1
‑
氨基
‑
1,2,4
‑
三唑、羟苯并三唑、2
‑
(5
‑
氨基
‑
戊基)
‑
苯并三唑、1
‑
氨基
‑
1,2,3
‑
三唑、1
‑
氨基
‑5‑
甲基
‑
1,2,3
‑
三唑、3
‑
氨基
‑
1,2,4
‑
三唑、3
‑
巯基
‑
1,2,4
‑
三唑、3
‑
异丙基
‑
1,2,4
‑
三唑、5
‑
苯硫醇
‑
苯并三唑、卤代
‑
苯并三唑(卤素＝F、Cl、Br或I)、萘并三唑、2
‑
巯基苯并咪唑、2
‑
巯基苯并噻唑、4
‑
甲基
‑2‑
苯基咪唑、2
‑
巯基噻唑啉、5
‑
氨基四唑、5
‑
氨基四唑一水合物、5
‑
氨基
‑
1,3,4
‑
噻二唑
‑2‑
硫醇、2,4
‑
二氨基
‑6‑
甲基
‑
1,3,5
‑
三嗪、噻唑、三嗪、甲基四唑、1,3
‑
二甲基
‑2‑
咪唑啉酮、1,5
‑
五亚甲基四唑、1
‑
苯基
‑5‑
巯基四唑、二氨基甲基三嗪、咪唑啉硫酮、巯基苯并咪唑、4
‑
甲基
‑
4H
‑
1,2,4
‑
三唑
‑3‑
硫醇、5
‑
氨基
‑
1,3,4
‑
噻二唑
‑2‑
硫醇和苯并噻唑中的一种或多种；(6)所述聚酰亚胺清洗液，所述羧酸铵为草酸铵、乳酸铵、酒石酸铵、柠檬酸三铵、乙酸铵、氨基甲酸铵、碳酸铵、苯甲酸铵、乙二胺四乙酸铵、乙二胺四乙酸二铵、乙二胺四乙酸三铵、乙二胺四乙酸四铵、琥珀酸铵、甲酸铵和1
‑
H
‑
吡唑
‑3‑
甲酸铵中的一种或多种；(7)所述聚酰亚胺清洗液，所述表面活性剂为为EO
‑
PO聚合物L81；(8)所述聚酰亚胺清洗液，所述流平剂为1
‑
(苯并三氮唑
‑1‑
甲基)
‑1‑
(2
‑
乙基咪唑)。3.如权利要求2所述聚酰亚胺清洗液的制备方法，其特征在于：所述聚酰亚胺清洗液满足如下1个或多个条件：(1)所述亚砜类溶剂为二甲基亚砜和/或甲乙基亚砜；
(2)所述砜类溶剂甲基砜和/或环丁砜；(3)所述咪唑烷酮类溶剂为2
‑
咪唑烷酮和/或1,3
‑
二甲基
‑2‑
咪唑烷酮；(4)所述吡咯烷酮类溶剂为N
‑
甲基吡咯烷酮和/或N
‑
环己基吡咯烷酮；(5)所述咪唑啉酮类溶剂为1,3
‑
二甲基
‑2‑
咪唑啉酮；(6)所述酰胺类溶剂为N,N
‑
二甲基甲酰胺和/或N,N
‑
二甲基乙酰胺；(7)所述醇胺为三乙醇胺；(8)所述有机碱为四甲基氢氧化铵和/胆碱；(9)所述螯合剂为乙二胺四乙酸和/或1,2
‑
环己二胺
‑
N,N,N',N'
‑
四乙酸；(10)所述缓蚀剂为苯并三唑和/或甲苯三唑；(11)所述羧酸铵为草酸铵和/或柠檬酸三铵。4.如权利要求3所述聚酰亚胺清洗液的制备方法，其特征在于：所述聚酰亚胺清洗液满足如下1个或多个条件：(1)所述亚砜类溶剂为二甲基亚砜；(2)所述砜类溶剂为环丁砜；(3)所述吡咯烷酮类溶剂为N
‑
甲基吡咯烷酮。5.如权利要求1所述聚酰亚胺清洗液的制备方法，其特征在于：所述聚酰亚胺清洗液满足如下1个或多个条件：(1)所述聚酰亚胺清洗液，所述有机溶剂的质量分数为40％
‑
65％；(2)所述聚酰亚胺清洗液，所述还原型谷胱甘肽的质量分数0.005％
‑
0.01％；(3)所述聚酰亚胺清洗液，所述半胱氨酸的质量分数为0.15％
‑

【专利技术属性】
技术研发人员：王溯，蒋闯，詹杨，冯强强，于仙仙，
申请(专利权)人：上海新阳半导体材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：