本申请提供一种双面涂布方法、装置、电子设备及存储介质，其中双面涂布方法包括：针对极片的每个涂层，确定涂层实际涂布流量与涂层目标涂布流量之间的偏差；根据涂层实际涂布流量与涂层目标涂布流量之间的偏差对涂层实际涂布流量进行调节。上述双面涂布方法根据涂层实际涂布流量与涂层目标涂布流量之间的偏差对极片每个涂层的实际涂布流量进行闭环调节，使得每个涂层的实际涂布流量与其涂层目标涂布流量之间的偏差满足预设要求，有效改善双面涂布效果。涂布效果。涂布效果。
【技术实现步骤摘要】
一种双面涂布方法、装置、电子设备及存储介质
[0001]本申请涉及电池
，具体而言，涉及一种双面涂布方法、装置、电子设备及存储介质。
技术介绍
[0002]涂布工艺是一种将一层或多层液体涂覆在基材上的工艺，涂覆的液体经过烘干或者固化后形成一层具有特殊功能的膜层。在锂离子电池的制造过程中，涂布工艺是用于将电池的正负极浆料均匀的涂抹在基材上，而涂布工序也是电池制造过程中的关键工序，涂布质量与电池容量、寿命、安全性等密切相关。
[0003]目前的双面涂布工艺通过干膜面密度来调节涂布流量，具体方式为：预先设定涂布面密度标准值，当实际涂布面密度与涂布面密度标准值之间存在偏差时，通过调节浆料输送装置的泵速来调节实际涂布面密度。
[0004]但上述通过干膜面密度来调节涂布流量的方式存在滞后，导致涂布效果较差。
技术实现思路
[0005]本申请实施例的目的在于提供一种双面涂布方法、装置、电子设备及存储介质，能够解决由于通过干膜面密度来调节涂布流量的方式存在滞后所导致的涂布效果较差的问题。
[0006]第一方面，本申请实施例提供一种双面涂布方法，该方法包括：针对极片的每个涂层，确定涂层实际涂布流量与涂层目标涂布流量之间的偏差；根据所述涂层实际涂布流量与所述涂层目标涂布流量之间的偏差对所述涂层实际涂布流量进行调节。
[0007]本申请实施例的技术方案中，本方案根据涂层实际涂布流量与涂层目标涂布流量之间的偏差对极片每个涂层的实际涂布流量进行闭环调节，使得每个涂层的实际涂布流量与其涂层目标涂布流量之间的偏差满足预设要求，有效改善双面涂布效果。
[0008]在第一方面的一种实现方式中，所述针对极片的每个涂层，确定涂层实际涂布流量与涂层目标涂布流量之间的偏差，包括：针对极片的第一面湿膜上涂层、第一面湿膜下涂层、第二面湿膜上涂层和第二面湿膜下涂层，确定涂层实际涂布流量与涂层目标涂布流量之间的偏差。
[0009]本申请实施例的技术方案中，本方案根据涂层实际涂布流量与涂层目标涂布流量之间的偏差，分别对极片的第一面湿膜上涂层、第一面湿膜下涂层、第二面湿膜上涂层和第二面湿膜下涂层的涂层实际涂布流量进行闭环控制，有效改善了双面涂布效果；同时，通过对分别涂覆在基材第一面和第二面上的第一面湿膜上涂层和第一面湿膜下涂层以及第二面湿膜上涂层和第二面湿膜下涂层分别进行闭环控制，改善了极片的涂布均匀性，进一步改善了双面涂布效果。
[0010]在第一方面的一种实现方式中，上述双面涂布方法还包括：针对所述极片的第一面干膜和第二面干膜，确定干膜实际重量与干膜目标重量之间的偏差；根据所述干膜实际
重量与所述干膜目标重量之间的偏差对所述涂层目标涂布流量进行调节。
[0011]本申请实施例的技术方案中，本方案根据干膜实际重量与干膜目标重量之间的偏差，分别对极片的第一面干膜和第二面干膜的干膜实际重量进行闭环控制，与流量闭环相配合，实现了双面涂布的流量闭环与重量闭环的双闭环控制，有效改善了双面涂布效果。
[0012]在第一方面的一种实现方式中，所述根据所述涂层实际涂布流量与所述涂层目标涂布流量之间的偏差对所述涂层实际涂布流量进行调节，包括：若所述涂层实际涂布流量与所述涂层目标涂布流量之间的偏差满足第一预设阈值要求，则根据所述涂层实际涂布流量与所述涂层目标涂布流量之间的偏差以及双面涂布首件泵速，计算泵速调节量；采用所述泵速调节量对所述涂层实际涂布流量进行调节。
[0013]本申请实施例的技术方案中，本方案在涂层实际涂布流量与涂层目标涂布流量之间的偏差满足第一预设阈值要求是采用双面涂布首件泵速来计算泵速调节量，从而采用泵速调节量对涂层实际涂布流量进行调节，实现双面涂布的流量闭环调节，有效改善了双面涂布效果。
[0014]在第一方面的一种实现方式中，所述采用所述泵速调节量对所述涂层实际涂布流量进行调节，包括：若所述泵速调节量满足第二预设阈值要求，则采用第一预设比例系数和所述泵速调节量对所述涂层实际涂布流量进行比例调节。
[0015]本申请实施例的技术方案中，本方案在泵速调节量满足第二预设阈值要求时，采用第一预设比例系数和泵速调节量对涂层实际涂布流量进行比例调节，使得涂层实际涂布流量快速达到预设阈值要求，避免由于调节滞后所导致的涂布效果较差的缺陷，有效改善了双面涂布效果。
[0016]在第一方面的一种实现方式中，所述根据所述干膜实际重量与所述干膜目标重量之间的偏差对所述涂层目标涂布流量进行调节，包括：若干膜实际重量与干膜目标重量之间的偏差满足第三预设阈值要求，则根据所述涂层目标涂布流量、所述泵速调节量、所述干膜实际重量以及所述干膜实际重量与所述干膜目标重量之间的偏差，分别计算所述第一面湿膜上涂层、所述第一面湿膜下涂层、所述第二面湿膜上涂层和所述第二面湿膜下涂层的第一目标流量调节量；采用所述第一目标流量调节量对所述涂层目标涂布流量进行调节。
[0017]本申请实施例的技术方案中，本方案在干膜实际重量与干膜目标重量之间的偏差满足预设阈值要求时，据涂层目标涂布流量、泵速调节量、干膜实际重量以及干膜实际重量与干膜目标重量之间的偏差共同计算第一目标流量调节量，通过调节涂层目标涂布流量来调整干膜实际重量，结合重量闭环控制与流量闭环控制，有效改善双面涂布效果。
[0018]在第一方面的一种实现方式中，在所述采用所述第一目标流量调节量对所述涂层目标涂布流量进行调节之后，所述方法还包括：等待第一预设时间，重新获取所述干膜实际重量；根据重新获取的干膜实际重量以及所述重新获取的干膜实际重量与所述干膜目标重量之间的偏差，计算第二目标流量调节量；若所述第二目标流量调节量与所述第一目标流量调节量之间的偏差不满足第四预设阈值要求，则将所述第二目标流量调节量的数值赋予所述第一目标流量调节量；采用所述第一目标流量调节量对所述涂层目标涂布流量进行调节；重复迭代上述步骤，直至所述第二目标流量调节量与所述第一目标流量调节量之间的偏差满足所述第四预设阈值要求。
[0019]本申请实施例的技术方案中，本方案为重量闭环控制增加防呆功能，在采用第一
目标流量调节量对涂层目标涂布流量进行调整后，通过第二目标流量调节量对第一目标流量调节量进行调整，一方面，避免由于第一目标流量数值较小而导致的重量闭环控制效果较差甚至失效的情况，有效改善了双面涂布效果；另一方面，避免由于第一目标流量数值较大而导致的涂布重量不均匀的问题，进一步改善了双面涂布效果。
[0020]在第一方面的一种实现方式中，所述采用所述第一目标流量调节量对所述涂层目标涂布流量进行调节，包括：采用所述第一目标流量和第二预设比例系数对所述涂层目标涂布流量进行比例调节。
[0021]本申请实施例的技术方案中，本方案采用第二预设比例系数和第一目标流量对涂层目标涂布流量进行比例调节，使得涂层目标涂布流量快速达到预设阈值要求，避免由于调节滞后所导致的涂布效果较差的缺陷，有效改善了双面涂布效果。
[0022]在第一方面的一种实现方式中，所述方本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种双面涂布方法，其特征在于，所述方法包括：针对极片的每个涂层，确定涂层实际涂布流量与涂层目标涂布流量之间的偏差；根据所述涂层实际涂布流量与所述涂层目标涂布流量之间的偏差对所述涂层实际涂布流量进行调节。2.根据权利要求1所述的双面涂布方法，其特征在于，所述针对极片的每个涂层，确定涂层实际涂布流量与涂层目标涂布流量之间的偏差，包括：针对极片的第一面湿膜上涂层、第一面湿膜下涂层、第二面湿膜上涂层和第二面湿膜下涂层，确定涂层实际涂布流量与涂层目标涂布流量之间的偏差。3.根据权利要求2所述的双面涂布方法，其特征在于，所述方法还包括：针对所述极片的第一面干膜和第二面干膜，确定干膜实际重量与干膜目标重量之间的偏差；根据所述干膜实际重量与所述干膜目标重量之间的偏差对所述涂层目标涂布流量进行调节。4.根据权利要求3所述的双面涂布方法，其特征在于，所述根据所述涂层实际涂布流量与所述涂层目标涂布流量之间的偏差对所述涂层实际涂布流量进行调节，包括：若所述涂层实际涂布流量与所述涂层目标涂布流量之间的偏差满足第一预设阈值要求，则根据所述涂层实际涂布流量与所述涂层目标涂布流量之间的偏差以及双面涂布首件泵速，计算泵速调节量；采用所述泵速调节量对所述涂层实际涂布流量进行调节。5.根据权利要求4所述的双面涂布方法，其特征在于，所述采用所述泵速调节量对所述涂层实际涂布流量进行调节，包括：若所述泵速调节量满足第二预设阈值要求，则采用第一预设比例系数和所述泵速调节量对所述涂层实际涂布流量进行比例调节。6.根据权利要求4所述的双面涂布方法，其特征在于，所述根据所述干膜实际重量与所述干膜目标重量之间的偏差对所述涂层目标涂布流量进行调节，包括：若干膜实际重量与干膜目标重量之间的偏差满足第三预设阈值要求，则根据所述涂层目标涂布流量、所述泵速调节量、所述干膜实际重量以及所述干膜实际重量与所述干膜目标重量之间的偏差，分别计算所述第一面湿膜上涂层、所述第一面湿膜下涂层、所述第二面湿膜上涂层和所述第二面湿膜下涂层的第一目标流量调节量；采用所述第一目标流量调节量对所述涂层目标涂布流量进行调节。7.根据权利要求6所述的双面涂布方法，其特...
【专利技术属性】
技术研发人员：胡呈红，肖健武，
申请(专利权)人：宁德时代新能源科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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