用于磁共振成像的靶向性纳米粒子制造技术

在一些实施方式中，本发明专利技术涉及用于磁共振成像（ＭＲＩ）的新型靶向性造影剂。本发明专利技术也涉及制备该靶向性ＭＲＩ造影剂的方法和使用该ＭＲＩ造影剂的方法。通常，这种靶向性ＭＲＩ造影剂提供增强的弛豫率、改善的信噪比、靶向性和抗凝聚性。制备这种ＭＲＩ造影剂的方法通常提供更好的控制粒度，并且使用这种ＭＲＩ造影剂的方法通常提供提高的血清除率和生物分布。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种靶向性ＭＲＩ造影剂，其包括：　ａ）一种无机基磁芯；　ｂ）一种有机基非磁性涂层，其包含硅烷，所述非磁性涂层分布在所述无机基磁芯周围并连接在该无机基磁芯上，从而在整体上，所述磁芯和所述非磁性涂层形成了核／壳纳米粒子；和　ｃ）一种粘附在所述核／壳纳米粒子上的标靶物，从而在整体上，所述核／壳纳米粒子和所述标靶物形成了靶向性ＭＲＩ造影剂。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：A托雷斯，F斯尤德，A库尔卡尼，N伍德，M贝利，B莫瑟，B贝尔斯，A贝莱特斯基，P小博尼塔特巴斯，
申请(专利权)人：通用电气公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]