一种阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置制造方法及图纸

本申请实施例提供了一种阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置，阵列基板包括：衬底基板以及阵列排布于衬底基板一侧的多个滤光单元；各滤光单元包括：叠层设置的多个第一滤光层以及位于多个第一滤光层之间的第二滤光层；第一滤光层，用于对光进行干涉，以使预设波长范围内的光能够透过滤光单元和使其余波长的光被滤除；第二滤光层，具有与多个第一滤光层的翘曲系数之和的负值基本相等的目标翘曲系数，以使各滤光单元的翘曲系数趋近于0或者等于0。本申请实施例在保障彩色滤光功能的情况下，由具有与多个第一滤光层的翘曲系数之和的负值基本相等的目标翘曲系数的第二滤光层，使滤光单元的翘曲系数趋近于0，进而避免牵连衬底基板翘曲。连衬底基板翘曲。连衬底基板翘曲。

【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置


[0001]本申请实施例涉及显示器件
，尤其涉及一种阵列基板、一种阵列基板的制作方法、一种显示面板以及一种显示装置。

技术介绍

[0002]液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)为了实现屏幕显示，往往采用彩色滤光膜精确选择需要通过的小范围波段的光线，而反射掉其他不希望通过的波段的光线。为了提高LCD显示设备的像素分辨率，相关技术提出利用加工精度更高的Array工艺对彩色滤光膜进行图案化处理，形成阵列化的滤光单元，以突破现有彩色滤光膜技术对LCD显示设备的像素分辨率的限制。然而，对彩色滤光膜进行图案化处理，需要在透明基板上进行，而彩色滤光膜中的介质层往往高达十几层甚至数十层，其中折射率不同的介质层的厚度及薄膜应力也存在差异，因此，经过多层介质层逐层沉积所得到的滤光单元通常会存在较大的薄膜应力，这些薄膜应力会传导至下方的透明基板，使得透明基板出现翘曲，进而影响到显示面板乃至整个显示器的制造装配，并可能造成显示产品的显示效果变差、显示摩尔纹现象增加等显示问题。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底基板以及阵列排布于所述衬底基板一侧的多个滤光单元；各所述滤光单元包括：叠层设置的多个第一滤光层以及位于所述多个第一滤光层之间的第二滤光层；所述第一滤光层，用于对光进行干涉，以使预设波长范围内的光能够透过所述滤光单元和使其余波长的光被滤除；所述第二滤光层，具有与所述多个第一滤光层的翘曲系数之和的负值基本相等的目标翘曲系数，以使各所述滤光单元的翘曲系数趋近于0或者等于0。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第二滤光层具有预设厚度和预设薄膜应力，以使所述第二滤光层具有所述目标翘曲系数。3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述预设厚度在0到500纳米之间，并且，所述预设薄膜应力在
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500MPa到500MPa之间。4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第二滤光层的折射率在2.3到2.5之间。5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述多个第一滤光层包括：多个第一介质层和多个第二介质层，所述第一介质层与所述第二介质层沿远离所述衬底基板的方向交替设置，所述多个第一滤光层中距离所述衬底基板最近的第一滤光层为所述第一介质层；所述第一介质层和所述第二介质层的折射率不同；其中，所述第二滤光层位于相邻的所述第一介质层和所述第二介质层之间。6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述第一介质层的材料包括以下一者：氧化硅、氟化镁；所述第二介质层的材料包括以下一者：氮化硅、二氧化钛、五氧化二钛、五氧化二铌、二氧化锆、三氧化二钇、硫化锌。7.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述第一介质层及所述第二介质层的数量分别为8，并且，所述第二滤光层的数量为1；所述第二滤光层位于自所述衬底基板起的第六层第一介质层与自所述衬底基板起的第五层第二介质层之间。8.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述第一介质层、所述第二介质层及所述第二滤光层的数量分别为8。9.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述预设波长范围包括：多个预设波长子范围；所述滤光单元包括...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨维，卢鑫泓，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：