【技术实现步骤摘要】
装调基准平面的构建方法
[0001]本专利技术涉及光学装调
,具体提供一种装调基准平面的构建方法。
技术介绍
[0002]伴随着科学技术的不断进步,光机装调领域对装调基准平面建立的要求日趋提升。众所周知,大面积装调基准平台加工难度大且成本极高,故工程中多选择将多个小面积光学基准平台进行拼接的方式构建大面积装调基准平台。基准平台拼接过程中,如何保证拼接后的整体平面度,成为了急需解决的问题。已有的调整方式常基于高精度气浮设备以及激光水平尺,目测激光切割线,通过气浮作用改变单块光学平台的角度来对拼接面进行调平。但高精度气浮平台价格昂过,且保养成本较高,而激光水平尺由于激光线粗以及被照面反射等原因,亦无法提供较高精度的拼接。
[0003]因此,亟需一种操作简单、高精度、高性价比的装调基准平面的构建方法。
技术实现思路
[0004]本专利技术为解决上述问题,提供了一种装调基准平面的构建方法,主要通过徕卡经纬仪确定待测平面上各点位的高度差,并通过垫片将各点位调平,即可在该平面上进行大平面拼接,如大面积反射镜 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种装调基准平面的构建方法,其特征在于,包括以下步骤:S1、测量待测平台的平面度;S11、将徕卡经纬仪的俯仰角度调整至90度0分0秒,利用所述徕卡经纬仪建立一个与大地平行的90度平面;S12、在待测平台上均匀划分多个相同的小平面区域,并在每个小平面区域上均匀设置至少三个点位,利用所述徕卡经纬仪测量每个点位与所述徕卡经纬仪的90度平面之间的夹角θ,通过激光测距测量每个点位与所述徕卡经纬仪之间的距离Y;S13、利用夹角θ和距离Y计算每个点位与90度平面之间的高度差Z;S2、依据高度差Z数据确定待测平台的最高点位,以最高点位为基准,利用徕卡经纬仪依次扫其他点位,并利用垫片的方式调整其他点位与最高点位等高,则由垫片和待测平台组成的新平面即为装调基准平面。2.如权利要求1所述的装调基准平面的构建方法,其特征在于,利用所述徕卡经纬仪的扫平功能,建立与大地平行的90度平面。3.如权利要求1...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵记彤,程路超,张健,闫佳钰,张春林,刘震宇,余毅,
申请(专利权)人:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,
类型:发明
国别省市:
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