环焦卡塞格伦天线及其制备方法技术

本发明专利技术提供一种环焦卡塞格伦天线及其制备方法，属于卡塞格伦天线技术领域，天线包括至少一主反射面和至少一副反射面；第一母线绕旋转轴旋转形成主反射面，第一母线为抛物线；第二母线绕旋转轴旋转形成副反射面，第二母线为双曲线，第一母线的焦点和第二母线的右焦点重合，第一母线的焦点与旋转轴的垂直距离大于零。本发明专利技术设置第一母线的焦点和第二母线的右焦点重合，第一母线的焦点与旋转轴的垂直距离大于零，使馈源相位中心辐射出去的信号，经反射面后绕开馈源包络，最大程度利用主反射面面积，减少馈源对主反射面的口径形成遮挡面积，避免口径遮挡效应导致的天线效率降低的缺陷，提高了天线效率。提高了天线效率。提高了天线效率。

【技术实现步骤摘要】
环焦卡塞格伦天线及其制备方法


[0001]本专利技术涉及卡塞格伦天线
，尤其涉及一种环焦卡塞格伦天线及其制备方法。

技术介绍

[0002]反射面天线具有实现高增益、窄波束的优点，应用广泛。其中，标准卡塞格伦天线由主反射面和副反射面组成，主反射面为抛物面，副反射面为双曲面。标准卡塞格伦天线的馈源对主反射面的口径形成遮挡，产生口径遮挡效应，导致旁瓣电平升高，增益下降，即天线效率降低。

技术实现思路

[0003]本专利技术提供一种环焦卡塞格伦天线及其制备方法，用以解决现有技术中标准卡塞格伦天线的馈源对主反射面的口径形成遮挡，产生口径遮挡效应，导致旁瓣电平升高，增益下降，即天线效率降低的缺陷。
[0004]本专利技术提供一种环焦卡塞格伦天线，包括至少一主反射面和至少一副反射面；
[0005]所述主反射面，第一母线绕旋转轴旋转形成所述主反射面，所述第一母线为抛物线；
[0006]所述副反射面，第二母线绕旋转轴旋转形成所述副反射面，所述第二母线为双曲线，所述第一母线的焦点和所述第二母线的右焦点重合，所述第一母线本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种环焦卡塞格伦天线，其特征在于，包括至少一主反射面和至少一副反射面；所述主反射面，第一母线绕旋转轴旋转形成所述主反射面，所述第一母线为抛物线；所述副反射面，第二母线绕旋转轴旋转形成所述副反射面，所述第二母线为双曲线，所述第一母线的焦点和所述第二母线的右焦点重合，所述第一母线的焦点与所述旋转轴的垂直距离大于零。2.根据权利要求1所述的环焦卡塞格伦天线，其特征在于，所述主反射面设有开口区域，所述开口区域与固定机构配合以固定馈源；所述开口区域的边界基于所述副反射面在所述主反射面上的投影边缘确定。3.根据权利要求1所述的环焦卡塞格伦天线，其特征在于，所述第二母线的左焦点与馈源的相位中心点重叠。4.根据权利要求3所述的环焦卡塞格伦天线，其特征在于，所述馈源的相位中心点和所述副反射面的中心点的连接线与所述旋转轴重合。5.一种环焦卡塞格伦天线的制备方法，其特征在于，包括：基于第一母线的焦点与旋转轴的垂直距离，确定所述第一母线的表达式，所述第一母线绕所述旋转轴旋转形成主反射面，其中，所述第一母线为抛物线；基于所述垂直距离，确定第二母线的表达式，所述第二母线绕所述旋转轴旋转形成副反射面，其中，所述第二母线为双曲线，所述第一母线的焦点和所述第二母线的右焦点重合；至少一所述主反射面和至少一所述副反射面构成环焦卡塞格伦天线。6.根据权利要求5所述的环焦卡塞格伦天线的制备方法，其特征在于，所述基于第一母线的焦点与旋转轴的垂直距离，确定所述第一母线的表达式，包括：构建第一坐标系，根据所述第一母线的焦点与旋转轴的垂直距离以及预设的所述第一母线的焦距，确定所述第一母线在所述第一坐标系下的表达式。7.根据权利要求6所述的环焦卡塞格伦天线的制备方法，其特征在于，所述基于所述垂直距离，确定第二母线的表达式，包括：基于所述垂直距离，确...

【专利技术属性】
技术研发人员：李振宇，王楠，孙朋飞，
申请(专利权)人：齐鲁空天信息研究院，
类型：发明
国别省市：