放射线成像装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供放射线成像装置。所述放射线成像装置能够使用格栅进行放射线摄影，在所述格栅中，各自具有条纹形状并在第一方向上延伸的放射线透射层和放射线吸收层在第二方向上交替布置，所述放射线成像装置包括像素单元，所述像素单元包括多个成像像素和多个检测像素，其中，所述多个检测像素包括在所述第二方向上成对的第一检测像素和第二检测像素，所述第一检测像素的输出信号值大于所述多个成像像素和所述多个检测像素的输出信号值的平均值，而所述第二检测像素的输出信号值小于所述平均值。值。值。

【技术实现步骤摘要】
放射线成像装置


[0001]本专利技术涉及放射线成像装置。

技术介绍

[0002]已知具有自动曝光控制(AEC)功能的放射线成像装置。这种放射线成像装置可以测量发射期间的放射线剂量，并基于测量的结果，终止放射线的发射。例如，放射线成像装置通过在发射放射线期间仅高速操作设置为用于放射线检测的像素，来监测放射线剂量。
[0003]另一方面，在X射线成像中，当X射线穿过被摄体时，生成散射射线。为了去除散射射线，通常使用格栅(grid)。格栅具有如下结构，其中，交替布置各自具有条纹形状的X射线透射层和X射线吸收层，并且在摄像期间，格栅被设置在被摄体与成像装置之间。
[0004]由于格栅的X射线吸收层与放射线检测像素之间的交叠，一些放射线检测像素可以检测到与被X射线吸收层衰减的X射线相对应的信号。根据像素大小、放射线检测像素的布置以及格栅的X射线吸收层的阵列间距，可能存在由于格栅的X射线吸收层引起的衰减而导致的、对关注区域中的多个放射线检测像素的信号的不成比例的影响。在这种情况下，在关注区域中的平均放射线剂量与同由放射线检测像素检测到的放射线剂量相对应的信号之间产生差异，这导致自动曝光控制的精度劣化。
[0005]日本特许第5969950号公报讨论了一种放射线成像装置，其中，剂量检测传感器的布置的周期性和格栅的放射线吸收部分的布置的周期性彼此不同。该构造是为了抑制，即使在剂量检测传感器与格栅之间的位置关系改变的情况下，由于格栅的剂量衰减而导致的对剂量检测传感器的不成比例的影响。然而，在日本特许第5969950号公报的技术中，可能还有改进构造的余地，以进一步减少由于格栅引起的剂量衰减而导致的对剂量检测传感器的不成比例的影响。

技术实现思路

[0006]本专利技术的目的是提供如下技术：通过减少或抑制由于格栅的X射线吸收层引起的衰减而导致的、对关注区域中的多个放射线检测像素的信号的不成比例的影响，来提高自动曝光控制精度。
[0007]根据本专利技术的一方面，提供了一种放射线成像装置，其能够使用格栅进行放射线摄影，在所述格栅中，各自具有条纹形状并在第一方向上延伸的放射线透射层和放射线吸收层在第二方向上交替布置，所述放射线成像装置包括：像素单元，其包括设置在成像区域中的用于获取放射线图像的多个成像像素和用于检测放射线剂量的多个检测像素；驱动单元，其被构造为驱动所述多个成像像素和所述多个检测像素；读取单元，其被构造为从所述多个成像像素和所述多个检测像素中的各个中读出信号；以及控制单元，其被构造为确定向所述放射线成像装置发射的放射线的量，其中，所述多个检测像素包括在所述第二方向上成对的第一检测像素和第二检测像素，所述第一检测像素的输出信号值大于所述多个成像像素和所述多个检测像素的输出信号值的平均值，而所述第二检测像素的输出信号值小
于所述平均值。
[0008]根据本专利技术的另一方面，提供了一种放射线成像装置，其包括：像素单元，其包括设置在成像区域中的用于获取放射线图像的多个成像像素和用于检测放射线剂量的多个检测像素；驱动单元，其被构造为驱动所述多个成像像素和所述多个检测像素；读取单元，其被构造为从所述多个成像像素和所述多个检测像素中的各个中读出信号；以及控制单元，其被构造为确定向所述放射线成像装置发射的放射线的量，其中，所述多个检测像素包括第一检测像素和第二检测像素，并且在使用各自具有条纹形状并在第一方向上延伸的放射线透射层和放射线吸收层在第二方向上交替布置的格栅进行放射线摄影的情况下，所述第一检测像素和所述第二检测像素成对设置在所述第二方向上，使得所述第一检测像素的输出信号值大于所述多个成像像素和所述多个检测像素的输出信号值的平均值，并且所述第二检测像素的输出信号值小于所述平均值。
[0009]根据本专利技术的又一方面，所述多个成像像素和所述多个检测像素的输出信号值的平均值是设置在检测区域中的成像像素和检测像素的输出信号值的平均值，所述检测区域是检测放射线的区域。
[0010]根据本专利技术的又一方面，所述第一检测像素和所述第二检测像素的输出信号值的平均值等于所述多个成像像素和所述多个检测像素的输出信号值的平均值。
[0011]根据本专利技术的又一方面，所述第一检测像素和所述第二检测像素设置在所述第二方向上满足以下公式的各位置处：
[0012]C＝(1+2n)/fg，其中，
[0013]fg＝2|D
×
P/10
‑
k|，其中，
[0014]C表示所述第二检测像素相对于所述第一检测像素的位置，D表示格栅密度(数量/厘米)，P表示像素间距(毫米)，k表示满足0≤fg≤1的整数，并且n表示大于等于0的整数。
[0015]根据本专利技术的又一方面，设置了多对所述第一检测像素和所述第二检测像素。
[0016]根据本专利技术的又一方面，以非周期性布置来设置所述多对第一检测像素和第二检测像素。
[0017]通过以下参照附图对示例性实施例的描述，本专利技术的其他特征将变得清楚。
附图说明
[0018]图1是示出根据本专利技术的第一示例性实施例的放射线成像装置的构造的图。
[0019]图2是示出根据本专利技术的第一示例性实施例的放大单元的构造的图。
[0020]图3是根据本专利技术的第一示例性实施例的像素的构造的平面图。
[0021]图4是根据本专利技术的第一示例性实施例的像素的构造的截面图。
[0022]图5是示出包括根据本专利技术的第一示例性实施例的放射线成像装置的放射线成像系统的构造的示例的图。
[0023]图6A和图6B是示出根据本专利技术的第一示例性实施例的放射线成像装置的检测区域的图。
[0024]图7是示出根据本专利技术的第一示例性实施例的格栅的图。
[0025]图8是示出根据本专利技术的第一示例性实施例的像素布置的图。
[0026]图9是示出根据本专利技术的第一示例性实施例的像素布置的图。
[0027]图10是示出根据本专利技术的第二示例性实施例的像素布置的图。
[0028]图11是示出根据本专利技术的第三示例性实施例的像素布置的图。
[0029]图12是示出放射线成像系统的构造的示例的图。
具体实施方式
[0030]下面将参照附图描述本专利技术的示例性实施例。在各种示例性实施例中，类似的部件由相同的附图标记表示，并且将不重复冗余的描述。可以适当修改和组合示例性实施例。
[0031]图1示出了根据本专利技术的第一示例性实施例的、能够使用格栅进行放射线摄影的放射线成像装置100的构造的示例。放射线成像装置100具有多个驱动线110、多个信号线120和以多行和多列的形式布置在成像区域IR中的多个像素。多个驱动线110被设置为与多个像素行相对应，并且各驱动线110与不同的一个像素行相对应。多个信号线120被设置为与多个像素列相对应，并且各信号线120与不同的一个像素列相对应。
[0032]多个像素包括用于获取放射线图像的多个成像像素101以及用于监测放射线剂量的一本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种放射线成像装置，其能够使用格栅进行放射线摄影，在所述格栅中，各自具有条纹形状并在第一方向上延伸的放射线透射层和放射线吸收层在第二方向上交替布置，所述放射线成像装置包括：像素单元，其包括设置在成像区域中的用于获取放射线图像的多个成像像素和用于检测放射线剂量的多个检测像素；驱动单元，其被构造为驱动所述多个成像像素和所述多个检测像素；读取单元，其被构造为从所述多个成像像素和所述多个检测像素中的各个中读出信号；以及控制单元，其被构造为确定向所述放射线成像装置发射的放射线的量，其中，所述多个检测像素包括在所述第二方向上成对的第一检测像素和第二检测像素，所述第一检测像素的输出信号值大于所述多个成像像素和所述多个检测像素的输出信号值的平均值，而所述第二检测像素的输出信号值小于所述平均值。2.根据权利要求1所述的放射线成像装置，其中，所述多个成像像素和所述多个检测像素的输出信号值的平均值是设置在检测区域中的成像像素和检测像素的输出信号值的平均值，所述检测区域是检测放射线的区域。3.根据权利要求1所述的放射线成像装置，其中，所述第一检测像素和所述第二检测像素的输出信号值的平均值等于所述多个成像像素和所述多个检测像素的输出信号值的平均值。4.根据权利要求1至3任一项所述的放射线成像装置，其中，所述第一检测像素和所述第二检测像素设置在所述第二方向上满足以下公式的各位置处：C＝(1+2n)/fg...

【专利技术属性】
技术研发人员：三浦亮介，高桥直人，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：