【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于增强蒸馏过程中的杂质去除的合金和方法
[0001]相关申请交叉引用
[0002]本申请要求于2020年8月6日提交的美国临时专利申请第63/062,039号的优先权的权益。本申请以全文引用的方式并入本文中。
技术介绍
[0003]从液体原料中去除杂质是工业工艺化学的关键组成。在历史上已经采用许多用于去除此类杂质的方法，但是这些方法中的很多方法存在缺点，如高成本或低效率。蒸馏已经成为液体原料，具体地酒精饮料的工业级纯化的常用技术。本文提供了用于通过反应性蒸馏增强从醇原料中去除杂质的金属合金和方法。
技术实现思路
[0004]在某些方面，本文提供了蒸馏设备的组件，所述组件包括金属或金属合金，其中所述金属或金属合金包括至少一种11族金属。在某些实施例中，所述组件包括金属合金，其中所述金属合金包括至少两种11族金属。在某些实施例中，所述至少两种11族金属选自铜、银和金。在另外的实施例中，所述至少两种11族金属是铜和银。在又另外的实施例中，所述金属合金组件进一步包括至少一种选自以下的另外的金属或类金属：锡、锌、铝、镍或锗。<...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种蒸馏设备的组件，所述组件包括金属或金属合金，其中所述金属或金属合金包括至少一种11族金属。2.根据权利要求1所述的组件，其中所述组件包括包含至少两种11族金属的金属合金。3.根据权利要求1或2所述的组件，其中所述至少一种11族金属选自铜、银和金。4.根据权利要求2所述的组件，其中所述至少两种11族金属是铜和银。5.根据权利要求1至4中任一项所述的组件，其中所述组件进一步包括至少一种选自以下的另外的金属或类金属：锡、锌、铝、镍或锗。6.根据权利要求2所述的组件，其中所述合金包括约5％至约98％的银(w/w)。7.根据权利要求2或权利要求6所述的组件，其中所述合金包括约2％至约90％的铜(w/w)。8.根据权利要求2、6或7中任一项所述的组件，其中所述合金包括约0.1％至约90％的所述另外的金属或类金属(w/w)。9.根据权利要求1至8中任一项所述的组件，其中所述金属或金属合金是安置在所述组件上的涂层。10.根据权利要求9所述的组件，其中所述涂层的厚度为约50nm至约100微米。11.根据权利要求9或10所述的组件，其中所述涂层的厚度选自约50nm、约100nm、约1微米、约5微米或约100微米。12.一种蒸馏设备，其包括根据权利要求1至11中任一项所述的组件。13.根据权利要求12所述的蒸馏设备，其中所述蒸馏设备是连续蒸馏设备。14.根据权利要求12或13所述的蒸馏设备，其中所述设备包括至少一个蒸馏柱。15.根据权利要求14所述的蒸馏设备，其中所述至少一个蒸馏柱包括填料组件。16.根据权利要求15所述的蒸馏设备，其中所述填料组件包括所述金属或金属合金。17.根据权利要求15所述的蒸馏设备，其中所述金属或金属合金安置在所述填料组件上。18.根据权利要求17所述的蒸馏设备，其中所述金属或金属合金是安置在所述填料组件上的涂层。19.根据权利要求18所述的蒸馏设备，其中所述涂层的厚度为约50nm至约100微米。20.根据权利要求18或19所述的蒸馏设备，其中所述涂层的厚度选自约50nm、约100nm、约1微米、约5微米或约100微米。21.根据权利要求14所述的蒸馏设备，其中所述至少一个蒸馏柱包括至少一个板。22.根据权利要求21所述的蒸馏设备，其中所述至少一个板包括所述金属或金属合金。23.根据权利要求21所述的蒸馏设备，其中所述金属或金属合金安置在所述至少一个板上。24.根据权利要求23所述的蒸馏设备，其中所述金属或金属合金组件是安置在所述至少一个板上的涂层。25.根据权利要求24所述的蒸馏设备，其中所述涂层的厚度为约50nm至约100微米。26.根据权利要求24或25所述的蒸馏设备，其中所述涂层的厚度选自约50nm、约100nm、约1微米、约5微米或约100微米。27.根据权利要求15所述的蒸馏设备，其中所述至少一个蒸馏柱包括至少一个托盘。
28.根据权利要求27所述的蒸馏设备，其中所述至少一个托盘包括所述金属或金属合金。29.根据权利要求27所述的蒸馏设备，其中所述金属或金属合金安置在所述至少一个托盘上。30.根据权利要求29所述的蒸馏设备，其中所述金属或金属合金组件是安置在所述至少一个托盘上的涂层。31.根据权利要求30所述的蒸馏设备，其中所述涂层的厚度为约50nm至约100微米。32.根据权利要求30或31所述的蒸馏设备，其中所述涂层的厚度选自约50nm、约100nm、约1微米、约5微米或约100微米。33.根据权利要求14至32中任一项所述的蒸馏设备，其中所述至少一个蒸馏柱包括第一蒸馏柱和第二蒸馏柱。34.根据权利要求13至33中任一项所述的蒸馏设备，其中所述连续蒸馏设备进一步包括干燥柱。35.根据权利要求34所述的蒸馏设备，其中所述干燥柱包括分子筛。36.一种从含醇原料中去除杂质的蒸馏系统，其中所述含醇原料包括醇和至少一种含氮和/或含硫杂质，所述系统包括：用于去除水和重杂质的重杂质柱；用于去除甲醇和轻杂质的轻杂质柱；反应性蒸馏柱，所述反应性蒸馏柱包括根据权利要求12至35中任一项所述的蒸馏设备。37.根据权利要求36所述的蒸馏系统，其进一步包括用于纯化和去除水的分子筛。38.根据权利要求36或37所述的蒸馏系统，其中所述柱是连续蒸馏柱。39.根据权利要求38所述的蒸馏系统，其中所述连续蒸馏柱包括散堆填料或规整填料。40.根据权利要求36至39中任一项所述的蒸馏系统，其中所述系统进一步包括一个或多个另外的重杂质柱。41.根据权利要求36至40中任一项所述的蒸馏系统，其中所述系统进一步包括一个或多个另外的轻杂质柱。42.根据权利要求36至41中任一项所述的蒸馏系统，其中所述系统进一步包括一个或多个另外的反应性蒸馏柱。43.根据权利要求36至42中任一项所述的蒸馏系统，其中所述重杂质柱被优化成从乙醇和甲醇中分离水。44.根据权利要求36至42中任一项所述的蒸馏系统，其中所述重杂质柱被优化成从乙醇和甲...
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