【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种压变电容装置，其特征是包含： 薄膜； 背板，具有挖空的结构，该薄膜与该背板相互平行，该挖空的结构具有至少一悬臂结构；以及 至少一突起结构，位于该薄膜与该背板之间，其中，该突起结构与该悬臂结构形成支撑体，当压力传输至薄膜 时，该突起结构会与该悬臂结构接触，而因该突起结构的下压而产生形变，该薄膜因此而有位移的变形量，电容的电场分布于该薄膜与该背板四周之间。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：简欣堂，李炯毅，刘娉婷，
申请(专利权)人：财团法人工业技术研究院，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]
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