【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】蒸气源、用于蒸气源的喷嘴、真空沉积系统和用于沉积蒸镀材料的方法
[0001]本公开内容的实施方式涉及一种用于在真空沉积系统的真空腔室中将蒸镀材料导向基板的设备和方法。特定地,本公开内容的实施方式涉及一种蒸气源,该蒸气源具有用于将蒸镀材料,例如有机材料,导向基板以将该材料沉积在基板上的多个喷嘴。另外的实施方式涉及一种用于蒸气源的喷嘴、具有蒸气源的真空沉积系统和用于在真空腔室中将蒸镀材料沉积在基板上的方法。实施方式特别地涉及像素图案在基板上的沉积,特别是通过精细金属掩模进行的沉积,并且涉及在有机发光二极管(OLED)装置的制造中使用的沉积源和系统。
技术介绍
[0002]用于在基板上进行层沉积的技术包括例如热蒸镀、物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CYD)。所涂覆的基板可用于若干应用和若干
中。例如,所涂覆的基板可用于有机发光二极管(OLED)装置的领域中。OLED可用于电视机屏幕、计算机监视器、移动电话、其他手持装置等的制造中来显示信息。OLED装置,诸如OLED显示器,可包括位于都沉积在基板上的两个电极之间的有机材 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种蒸气源(100),所述蒸气源包括蒸气分配管道(110),所述蒸气分配管道具有用于将蒸镀材料导向基板(10)的多个喷嘴,其中所述多个喷嘴中的至少一个喷嘴(120)包括:喷嘴通道(121),所述喷嘴通道沿喷嘴轴线(A)从喷嘴入口(122)延伸到孔口(123);以及喷嘴插入件(130),所述喷嘴插入件具有热屏蔽部分(131),所述热屏蔽部分居中地布置在所述喷嘴通道(121)内部来减少从所述喷嘴通道通过所述孔口(123)的热辐射。2.如权利要求1所述的蒸气源,其中所述热屏蔽部分(131)的指向所述孔口(123)的前表面(132)由抛光金属制成或具有抛光金属涂层或由发射率值小于0.2、特别是小于0.1的材料制成或用其涂覆。3.如权利要求1或2所述的蒸气源,其中所述至少一个喷嘴(120)提供基本上环形的蒸气流动路径(11),所述蒸气流动路径(11)围绕所述喷嘴插入件(130)并在所述喷嘴轴线(A)的方向上在所述热屏蔽部分(131)与所述喷嘴通道(121)的内壁之间延伸。4.如权利要求1至3中任一项所述的蒸气源,其中所述热屏蔽部分(131)与所述孔口(123)之间的距离(L2)小于所述孔口的直径(D1)的50%,特别是小于所述孔口的所述直径(D1)的20%。5.如权利要求1至4中任一项所述的蒸气源,其中所述热屏蔽部分(131)与所述孔口(123)之间的距离(L2)小于所述喷嘴通道的总长度(L1)的50%,特别是小于所述喷嘴通道的总长度(L1)的20%。6.如权利要求1至5中任一项所述的蒸气源,其中从所述至少一个喷嘴的正面看,所述喷嘴通道(121)的内壁表面的90%或更多隐藏在所述至少一个喷嘴的所述热屏蔽部分(131)和向内突出前壁(129)中的至少一者后方。7.如权利要求1至6中任一项所述的蒸气源,其中所述孔口的直径(D1)与热屏蔽部分直径(D2)之间的比率在0.8与1.2之间、特别是约1。8.如权利要求1至7中任一项所述的蒸气源,其中从所述至少一个喷嘴(120)的正面看,所述孔口(123)的轮廓和/或大小基本上对应于所述热屏蔽部分(131)的轮廓和/或大小,特别是其中所述孔口(123)和所述热屏蔽部分(131)两者是圆形的并具有在8mm与12mm之间的直径。9.如权利要求1至8中任一项所述的蒸气源,其中所述喷嘴通道(121)的直径从安装所述喷嘴插入件(130)的位置处的通道直径(D3)减小到在所述孔口(123)处的所述孔口的直径(D1),特别是减小20%或更多。10.如权利要求1至9中任一项所述的蒸气源,其中所述喷嘴...
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